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Los átomos de silicio en un material semiconductor se unen mediante enlaces covalentes para formar una estructura cristalina. Un semiconductor intrínseco es un cristal puro de un material semiconductor donde las únicas fuentes de electrones y huecos son los generados térmicamente. La adición controlada de impurezas como el fósforo y el arsénico, que son donadores de electrones, permite aumentar selectivamente la concentración de electrones en el semiconductor, dando lugar a un semiconductor tipo N.
Los átomos de silicio en un material semiconductor se unen mediante enlaces covalentes para formar una estructura cristalina. Un semiconductor intrínseco es un cristal puro de un material semiconductor donde las únicas fuentes de electrones y huecos son los generados térmicamente. La adición controlada de impurezas como el fósforo y el arsénico, que son donadores de electrones, permite aumentar selectivamente la concentración de electrones en el semiconductor, dando lugar a un semiconductor tipo N.
Los átomos de silicio en un material semiconductor se unen mediante enlaces covalentes para formar una estructura cristalina. Un semiconductor intrínseco es un cristal puro de un material semiconductor donde las únicas fuentes de electrones y huecos son los generados térmicamente. La adición controlada de impurezas como el fósforo y el arsénico, que son donadores de electrones, permite aumentar selectivamente la concentración de electrones en el semiconductor, dando lugar a un semiconductor tipo N.
Cuando los átomos de Si se combinan para formar un material solido, se
disponen en un patrón fijo denominado cristal. Los átomos dentro de la estructura cristalina se mantienen unidos mediante enlaces covalentes, que se crean por interacción de los electrones de valencia de los átomos. Semiconductores intrínsecos
Un semiconductor intrínseco es un material semiconductor de un cristal
sin ningún otro tipo de átomo dentro del cristal. En un semiconductor intrínseco, las densidades de electrones y los huecos son iguales, puesto que los electrones y los huecos generados térmicamente son las únicas fuentes de tales partículas . Por tanto utilizamos la notación ni como la concentración de portadores intrínsecos para la concentración de estos electrones libres, así como la correspondiente a los huecos. B= constante del material semiconductor especifico. Eg=nivel de energía entre bandas(eV). T= temperatura en °K. K= constante de Boltzmann (86*10^-6 eV/°K). Un electrón-volt es la carga de un electrón acelerado bajo una diferencial de potencial de 1 volt y 1 eV= 1.6*10^-19 joule Semiconductores extrínsecos ELEMENTOS TRIVALENTES: ELEMENTOS ELEMENTOS Boro(B) TETRAVALENTES: PENTAVALENTES: Carbón (C) Nitrógeno (N) Aluminio(Al) Silicio (Si) Fosforo (P) Galio (Ga) Germanio (Ge) Arsénico (As) Indio (In) Estaño (Sn) Antimonio (Sb) Talio (Tl) Plomo (Pb) Bismuto (Bi)
Debido a que las concentraciones de electrones y hueco en un
semiconductor intrínseco son relativamente pequeñas, solo son posibles corrientes muy pequeñas. Sin embargo esta situación puede cambiar de manera considerable al añadir cantidades controladas de ciertas impurezas Fosforo y arsénico (donadores de impurezas)
Cuando se agregan una impureza donadora a un semiconductor se crean
electrones libres sin generar huecos. Este proceso recibe el nombre de dopado y nos permite controlar la concentración de electrones libres en un semiconductor. Un semiconductor con impurezas donadoras de denomina SEMICONDUCTOR TIPO N