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(FET)
1.-OBJETIVOS:
2.-FUNDAMENTO TEORICO:
P-channel
N-channel
La mayoria de los FET están hechos usando las técnicas de procesado de semiconductores
habituales, empleando la oblea monocristalina semiconductora como la región activa o
canal. La región activa de los TFT (thin-film transistor, o transistores de película fina) es
una película que se deposita sobre un sustrato (usualmente vidrio, puesto que la principal
aplicación de los TFT es como pantallas de cristal líquido o LCD).
Los transistores de efecto de campo o FET más conocidos son los JFET (Junction Field
Effect Transistor), MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor FET) y MISFET (Metal-
Insulator-Semiconductor FET).
Tienen tres terminales, denominadas puerta (gate), drenador (drain) y fuente (source). La
puerta es la terminal equivalente a la base del BJT. El transistor de efecto de campo se
comporta como un interruptor controlado por tensión, donde el voltaje aplicado a la puerta
permite hacer que fluya o no corriente entre drenador y fuente.
El funcionamiento del transistor de efecto de campo es distinto al del BJT. En los
MOSFET, la puerta no absorbe corriente en absoluto, frente a los BJT, donde la corriente
que atraviesa la base, pese a ser pequeña en comparación con la que circula por las otras
terminales, no siempre puede ser despreciada. Los MOSFET, además, presentan un
comportamiento capacitivo muy acusado que hay que tener en cuenta para el análisis y
diseño de circuitos.
Así como los transistores bipolares se dividen en NPN y PNP, los de efecto de campo o
FET son también de dos tipos: canal n y canal p, dependiendo de si la aplicación de una
tensión positiva en la puerta pone al transistor en estado de conducción o no conducción,
respectivamente. Los transistores de efecto de campo MOS son usados extensísimamente
en electrónica digital, y son el componente fundamental de los circuitos integrados o chips
digitales.
Historia
El transistor de efecto de campo fue patentado por Julius Edgar Lilienfeld en 1925 y por
Oskar Heil en 1934, pero los dispositivos semiconductores fueron desarrollados en la
práctica mucho después, en 1947 en los Laboratorios Bell, cuando el efecto transistor pudo
ser observado y explicado. El equipo detrás de estos experimentos fue galardonado con el
Premio Nobel de Física. Desde 1953 se propuso su fabricación por Van Nostrand (5 años
después de los BJT). Aunque su fabricación no fue posible hasta mediados de los años 80's.
El canal de un FET es dopado para producir tanto un semiconductor tipo N o uno tipo P. El
drenador y la fuente deben estar dopados de manera contraria al canal en el caso de FETs
de modo mejorado, o dopados de manera similar al canal en el caso de FETs en modo
agotamiento. Los transistores de efecto de campo también son distinguidos por el método
de aislamiento entre el canal y la puerta.
Podemos clasificar los transistores de efecto campo según el método de aislamiento entre el
canal y la puerta:
. La característica de los TFT que los distingue, es que hacen uso del silicio amorfo o del
silicio policristalino.
Características
*3 multímetros
*1 protoboard pequeño
*1 resistor de 10 ohmios
*1 potenciómetro de 5k
Se preparo todo.
6.1 Preparado del circuito para la determinación de las curvas características del transistor
Vds(V) Vgs=Vp
4 -2.44
10 -2.39
4.5
Id(mA)
4
3.5
3
2.5
2
1.5
1
0.5
Vgs(V)
0
-2.5 -2 -1.5 -1 -0.5 0
b) Observe que las curvas tienden a sobreponerse, cuando el voltaje Vds a ser mayor.
Considerando lq curva correspondiente al mayor voltaje de Vds, evalué el voltaje de
estrangulamiento y la corriente de saturación cuando Vgs=0V
Idss= 4.15 uA
Vp=-2.4 V
a) A partir de la tabla T1, graficar la corriente de drenador en función del voltaje drenador
surtidor, con parámetro:” voltaje compuerta surtidor”
4.5
Id(mA)
4
3.5
2.5
1.5
0.5
0
0 2 4 6 8 Vds(V)
7.3 Parámetros del modelo del transistor FET en CA para pequeña señal
Id=680 uA
Vgs= -1.5 V
Vds= 4 V
Vcc= 10 V
-Vgs- RsIs=0
Rs=2.2 kΩ
Rd=6.6 kΩ
Rg= 1MΩ
RL= 10 kΩ
id(mA)
4.5
3.5
2.5
1.5
0.5
0
0 2 4 6 8 10 12 Vds(V)
Universidad mayor de san simón
Facultad de ciencias y tecnología
Departamento de electricidad
Carrera Lic. En Ing. electromecánica
PRACTICA: 6
COCHABAMBA-BOLIVIA
UNIVERSIDAD MAYOR DE SAN SIMON
LABORATORIO 6:
FECHA: 2012/06/19
COCHABAMBA-BOLIVIA