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Curso de Master en
Física y Técnologías Físicas
Física de Materiales y Grandes Instalaciones
Absorción de rayos-X
(XAFS)
Estudio y aplicación de una técnica espectroscópica de Rayos-X a
la Física de la Materia Condensada para la caracterización
estructural de materiales
!Introducción
!Principios básicos
!Formalismo general
!Los experimentos y el análisis de datos
!Ejemplos de aplicación
Sincrotrón europeo
de Grenoble ESRF
¿ Qué es el XAFS ?
(X-ray Absorption Fine Structure)
d
I0 I1
detector
muestra
− µd
I = I 0e µ ( E ) = Nσ ( E )
! El proceso físico básico consiste en la
excitación de electrones atómicos de
los niveles profundos por absorción de
un fotón.
! Se mide la optical density µd, donde µ GaAs
el coeficiente de absorción, en función As K-edge
de la energía del fotón incidente.
! µ tiene variaciones abruptas de
µd
intensidad (umbrales de absorción)
cuando la E del fotón es igual a la
energía necesaria para excitar un
electrón de core a estados excitados
discretos o continuos.
! Se observan oscilaciones de estructura
fina por encima del umbral
11.5 12 12.5 13 13.5
E(KeV)
XANES: X-ray Absorption Near Edge Structure
1
• sonda atómica local (short-range order)
E
hν
I1
I0
hν Scattering
hν′
Difusión Inelastica Difusión Elástica
(Compton scattering) (Thomson scattering)
Atomic cross section (E < 1 MeV)
104
3
Photoelectric
10 absorption
102
µ/ρ = (NA/A)σa
µ/ρ (cm2/gr)
100
10-1
σa= σpe + σcoh + σincoh
10-2 Compton sc.
10-3
-4
Fe (Z=26)
10
0 1 2 3
10 10 10 10
E (keV)
Proceso de absorción de rayos-X
absorción
efecto fotoeléctrico
1 ≤ E ≤ 100 keV (rayos X duros)
El electrón es extraído de un
nivel de core del átomo que
queda en un estado excitado
con un hueco de core. El
photo-electron se propaga en
el continuum de estados
energéticos posibles
Continuum Continuum
El mecanismo de absorción se manifiesta de la forma más directa en
el coeficiente de absorción µ
d
−µd
I = I 0e µ ( E ) = Nσ ( E ) I0 I
40
µ(E) ∝ Z4 / E3 + Umbrales de absorción 35
K
10
4
30 E ~ Z2
25
E (keV)
Ag
3
10
Fe 20
µ/ρ (cm /gr)
102
2
15
L
III
10
1 10
0 5
10 O
-1 10 20 30 40 50 60 70 80 90
10
1 10 100 Z
E (keV)
Selectividad química
XAFS la estructura fina de µ : un modelo
intuitivo
Un átomo aislado
E=hν
Interferencia S
2
destructiva
E1 E
constructiva
0.3
hν
rj 0.2
F.T.
0.1
0
0 1 2 3 4 5 6
R (Å)
Formalismo general del EXAFS
La fórmula EXAFS (dispersión simple) (SS)
∂
Hˆ U (t , t 0 ) = ih U (t , t 0 ) Hˆ = Hˆ 0 + V (t )
∂t
∞
U (t , t 0 ) = U (t , t 0 ) + ∑ U n (t , t 0 )
0
operador de evolución temporal del sistema
n =1 t
0
{
U (t , t ' ) = exp − iHˆ 0 (t − t ' ) / h } V(τ)
f
∞ τ
= ∑ u U n (t , t 0 ) f
2 2
Wu→ f = u U (t , t 0 ) f
n =1
u
t0
u U f = − ∫ dτ {exp[(−iE f0 (t − τ ) h ]V fu (τ ) exp[(−iEu0 (τ − t0 ) h ]}
1 i t
h t0
Hamiltoniano de interacción fotón-átomo
hν
e e
H = HE + HR + HI
1 r 2 gse r r r
H = ∑
j 2m
(
pˆ j − eA(rj , t − ∑ )
j 2m
s ⋅ B (r , t ) + Vcoul + H R
H de electrones no relativísticos interaccionando con un campo e.m.
pˆ 2j
1 r 1
Hˆ E = ∑ − e∑ φ (rj ) + Zeφ (0) H atómico
j 2m 2 j 2
1 1
H R = ∫ ( ε 0 ET + µ0 H )dV = ∑ hωk (aˆk aˆ + )
ˆ 2 +
H de la radiación
2 k 2
er r r H de interacción
H I = −∑ p j ⋅ A(r , t )
ˆ (despreciando el término de interacción
j m con B y el término en A2)
Primer término perturbativo
21
∑ Regla de oro de Fermi
2
W= = 2 f H I u δ (ω u − ω f )
τ h f
rr
ik ⋅r
r rr e ≈1
ik ⋅r
f H I u = f p ⋅ ε̂ e u e
hν
r m r
f H I u = f p ⋅ ε̂ u = ω f f r ⋅ ε̂ u Aproximación de dipólo
i
En aproximación dipolar y para una
1 2 2π r distribución de estados finales
∑
2
W = = 2 f εˆ ⋅ r u ρ (ω f )
τ 1h continua y un solo electrón
f
s → p, p → d ,... ∆l = ± 1
El estado final del átomo no aislado
hν
Hay que calcular el estado final del fotoelectrón generado por absorción de
un fotón considerando que alrededor del átomo central están los átomos del
medio.
aproximación one-electron
Se desprecian todos los efectos a muchos cuerpos debidos a los demás
electrones tanto del core del átomo emisor como de los átomos vecinos. (Se
introduce un factor de corrección de amplitud debido a la relajación de los N-1
electrones no involucrados directamente.) 2 2
S0 = Ψ N −1 Ψ
i f
N −1 ≅ 0.7 ÷ 0.9
aproximación de muffin-tin
V se representa como una suma de potenciales esféricos de
alcance finito y no superpuestos, centrados en cada átomo del
sistema. El valor del potencial en la región intersticial es constante
y representa el cero de la energía del fotoelectrón.
hay que calcular las autofunciones de H i y f
3/ 2
1Z Zr
r i = exp − Estado inicial:
π a0 a0 función de onda del átomo hidrogenoides
(E − Hˆ ) f
0 ± = V f± la ecuación de Schrödinger se puede invertir
utilizando las funciones de Green
t +j G0+ ti+ G0+ tc+ G0+ t +j G0+ tc+ G0+ ti+ G0+
j i i i i
j j j
+ +
c + +
c c c 4
1 2 3
+ +
Se introducen los términos t j G0 y tc+ G0+ t +j G0+ en el elemento de matriz
r r r r
f εˆ ⋅ r i = k εˆ ⋅ r i + ∑ k t +j G0+εˆ ⋅ r i + ∑ k t0+ G0+ t +j G0+εˆ ⋅ r i
j j
efecto fotoeléctrico
términos de interferencia
Sustituyendo el operador de Green e integrando en r se obtiene
(2π ) 2 m 1
∑ j 0
r
k t G εˆ ⋅ r i = −∑
+ +
2
M (k , Z )(εˆ ⋅
r
r j ) k t +
j kj
j j h rj
(2π ) 2 m 1
∑ c
+ +
0 j
r
k t G t G εˆ ⋅ r i = ∑
+ +
0 2 2
M (k , Z )(εˆ ⋅ ˆ
r j ) k t +
c k '
k '
t +
j kj
j j h rj j j
r r r
+ − i ( k j − k )⋅ r j
k t kj = e
j k t 0j k j
r r h2
f j (θ j )
Procesos de dispersión
elástica k = k' k t 0j k j =−
m4π 2
Dispersión de una onda por un potencial esférico
dS
θ
rr
ψ in = e ik ⋅ r rr
f (θ ) ikr
ψ r →∞ = e ik ⋅ r
+ e
r
dσ
1 ∞
( )
2
= f (θ )
dω f (θ ) = ∑ (2l + 1)Pl (cosθ ) e 2iδ l − 1
2ik l =0
r r r
i ( k j −k )⋅r j h2 ikr j 1−cosθ j
k t +j k j = e k t 0j k j =− f (
θ )e
m4π 2
j j
ikr j 1−cosθ j r
r
k t j G0 εˆ ⋅ r i = ∑ M (k , Z )(εˆ ⋅ rj ) f j (θ j )e
r 1 r θ = ˆ ⋅ = ˆ ⋅
1 ∑
j
+ +
j rj
cos j k k j k r j
k t G t G εˆ ⋅ r i = ∑ 2 M (k , Z )(εˆ ⋅ rˆj ) f j (π − θ j ) f j (π )e
r 1 i 2kr j
2 ∑
j
+
c
+ +
0 j
+
0
j rj
Finalmente para obtener la sección eficaz de absorción hay que calcular
r
σ (k ) ∝ W ∝ f ε ⋅ r i
ˆ
2
= M (k , Z ) εˆ ⋅ kˆ + [1] + [2] ( ) 2
1 ∫ M (k , Z )
2
( )ˆ
ε ⋅k
ˆ
2 dΩ
4π
k 1
= M (k , Z )
3
2
dΩ k (εˆ ⋅ rˆ ) 2
f j π + f j 0
∫ 2 Re M k , Z × [1] 4π = − M
2ikr j
2 *
( ) 2
∑ j
Im e
j r j2
3 ∫ [1]
dΩ k (εˆ ⋅ rˆ ) 2
2 dΩ k
∑ ∫
2 2
=−M f θ
j
4π r j2 4π
j j
j
dΩ k (εˆ ⋅ rˆ ) 2
[( ) ]
∫ 2 Re M (k , Z )× [2] 4π = − M Im e 2δ1 − 1 f j π e j
2ikr
∑
* 2 j
4
2
j rj
Para evaluar las integrales hay que:
rr
desarrollar la onda plana e ik ⋅r
y (εˆ ⋅ kˆ ) en armónicos esféricos
rr
desarrollar e −ik ⋅r j
y f (θ j ) en polinomios de Legendre
considerando que el término 3 se cancela con el segundo término del 2 en virtud del
teorema dΩ k 2
Im f (0) = ∫ f θ
óptico 4π
j j
1 (εˆ ⋅ r ) 2
Im f j π e
2ikr j +δ1
∑
2 2
µ = nσ ∝ M − M j
3 j r j2
cuya parte oscilatoria está definida como
µ − µ0 3(εˆ ⋅ r j ) 2
χ (k ) = =∑ f j (π ) sin [2kr j + 2δ 1 + φ (k )]
µ0 j kr j2
Los fenómenos de dispersión que involucran más de dos átomos no siempre son
despreciable en el EXAFS. En particular los procesos a tres átomos pueden ser
importantes para una determinación exacta de la distancias interatómicas.
j i j j i j i
i
c c c c
+ + +
t G t G + + + +
t G t G + tc+ G0+ t +j G0+ ti+ G0+ t +j G0+ ti+ G0+ t +j G0+
i 0 j 0 j 0 i 0
j
ri- rj
α
β
Los términos de dispersión múltiple pueden
i ser importantes dependiendo del ángulo de
rj bridging θ y de las amplitudes de dispersión
de las diferentes especies atómicas del
ri
medio.
θ
c
EXAFS: INFORMACIÓN ESTRUCTURAL (aproximación de SS)
µ − µ0 3(εˆ ⋅ rˆj ) − 2σ j 2 k 2 − 2 r j / λ ( k )
χ (k ) = = ∑j f j (k , π ) sin(2kr j + 2δ 1 (k ) + φ j (k ))e e
µ0 kr j2
Si conocemos f (k) and δ (k) podemos tener información directa acerca de:
Frequencia Amplitud
Damping
distancias Numeros de coordinación
Factores de Debye-Waller
interatomicas N
σ2
Rj
(desorden térmico y estático)
EXAFS: Sensibilidad a la fase del sistema (amorfo-cristal)
Germanium
cristalino
Germanium
Amorfo 77 K
300 K
1 capa de coordinación
Fe-O = 2.005 Å
0,05
0,25
Fe-Mn = 3.523 Å
0 0,2
0,15
-0,05
0,1
-0,1
0,05
-0,15 0
4 6 8 10 12 14 16 0 1 2 3 4 5 6
k (Å-1) R (Å)
Back-scattering Central-atom
−2 R j λ (k )
λ = λ(k) e Rmax~ 10 Å
λ < 25 Å
R 2j
Aplicaciones
" Catalysis
" Chemistry
" Material Science (High Tc, CMR, ...)
" Magnetic materials ← XMCD
" Amorphous and Liquid systems
" Thin films and surface science
" Biological materials
" Environmental science
Perspectivas
! Time-resolvedXAFS
! Micro- or Nano-XAFS
! DAFS (Diffraction anomalous Fine Structure)
XANES
No simple formula to fit
Full MS approach
Luz de Sincrotrón
(Flujos > 108 photons/sec)
ESRF European Synchrotron
~ 40 Beamlines
40 Synchrotrons around the world
Europe: 15; America 11; Asia; 13; Australia 1
ALBA, Cerdanyola del Vallès, Spain National Synchrotron Light Source (NSLS), Brookhaven, New York
ANKA Synchrotron Strahlungsquelle, Karlsruhe, Germany National Synchrotron Radiation Laboratory (NSRL), Hefei, China
Australian Synchrotron, Melbourne, Victoria National Synchrotron Radiation Research Center (NSRRC), Hsinchu,
Taiwan, R.O.C
Beijing Synchrotron Radiation Facility (BSRF); Beijing National Synchrotron Research Center (NSRC), Nakhon Ratchasima,
BESSY, Berlin Thailand
Canadian Light Source(CLS), Saskatoon, Sasketchewan Photonics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial
Science and Technology (AIST)
Advanced Photon Source (APS), Argonne, Illinois Photon Factory (PF) at KEK, Tsukuba, Japan
Center for Advanced Microstructures and Devices (CAMD), Louisiana Pohang Accelerator Laboratory, Pohang, Korea
Center for Advanced Technology (INDUS-1 and INDUS-2), Indore, IndiaShanghai Synchrotron Radiation Facility, (SSRF)
Cornell High Energy Synchrotron Source (CHESS), Ithaca, New York Siberian Synchrotron Radiation Centre (SSRC), Novosibirsk (Rusia)
Diamond, Rutherford Appleton Laboratory, Didcot, England Singapore Synchrotron Light Source (SSLS), Singapore
Dortmund Electron Test Accelerator (DELTA), Dortmund, Germany SOLEIL Synchrotron, Saint-Aubin, France
Advanced Light Source (ALS), Berkeley, California Stanford Synchrotron Radiation Laboratory (SSRL), Menlo Park,
Electron Stretcher Accelerator (ELSA), Bonn, Germany California
Elettra Synchrotron Light Source, Trieste, Italy Super Photon Ring - 8 GeV (SPring8), Nishi-Harima, Japan
European Synchrotron Radiation Facility (ESRF), Grenoble, France Swiss Light Source (SLS), Villigen, Switzerland
HASYLAB) at DESY, Hamburg, Germany Synchrotron Radiation Center (SRC), Madison, Wisconsin
Institute for Storage Ring Facilities (ISA, ASTRID), Aarhus, Denmark Synchrotron Radiation Source (SRS), Daresbury, U.K.
LURE, Orsay, France Synchrotron Ultraviolet Radiation Facilty (SURF III) at the National
Institute of Standards and Technology (NIST), Gaithersburg, Maryland
Laboratório Nacional de Luz Síncrotron (LNLS) Sao Paolo, Brazil UVSOR Facility, Okazaki, Japan
MAX-lab, Lund, Sweden VSX Light Source, Kashiwa, Japan
3rd generation Synchrotron
ESRF
Grenoble, France
ALBA
Cerdanyola del Vallès, Spain
3rd GENERATION
Operational (13)
In construction (9)
In design and construction
Design (10)
Beamline
Undulator
Los experimentos de EXAFS se
llevan a cabo en la mayoría de los
casos en grandes instalaciones de
luz de sincrotrón como el ESRF de
Grenoble, donde hay varias líneas de
las cuales 1 española dedicada a
ésta técnica. Las característica
espectrales de la luz producida por
sincrotrones ha impulsado
enormemente las aplicaciones del
EXAFS.
E.S.R.F.
Con el EXAFS se pueden estudiar
las propiedades estructurales de
sistemas en fase sólida (cristalinos,
policristalinos, amorfos), líquida y
gaseosa. Se aplica extensivamente
todos los tipos de materiales: desde
los semiconductores a los óxidos,
desde los catalizadores a las
proteínas.
BM25 Branch A
High Resolution Powder Diffraction +XAFS
BM25 Branch B
Surface X-ray Diffraction and X-ray Photoelectron Spectroscopy
Esquema de la óptica de una línea de EXAFS del ESRF (BM18)
Salida al experimento con focalización variable
Rendijas secundarias
Rendijas primarias
Rendija 4mrad
Salida del
imán curvante
Criostato
Camara de ionización
Monocromadores de rayos X
Dos monocristales perfectos de Si o Ge
Ley de Bragg
2 d hkl sin θ = nλ
Ángulo de incidencia ⇔ λ (E)
2d (Å)
Si (111) 6.2708 Parámetros importantes:
Si (220) 3.84 Ángulo / intervalo de E :
Si (311) 3.28 determina los umbrales acesibles
Si (331) 2.5 Calibración en E : precisión y
reproducibilidad
Si (511) 2.08
Resolución en E: ∆E/E 10-4
Harmónicos: por un determinado
Ge (111) 6.5328 θ, E+ nE cumplen la ley de Bragg. A
Ge (220) 4.0004 eliminar para evitar distorsiones
en el expectro
Monocromadores: calibración de la Energía
X-rays
Monocromadores: resolución en E
Reflectividad ∆E ∆λ
= = ∆Θ cot gθ B ≈ 10 −4
E λ
Cu K
1.5-2 eV
♦ baja temperatura
♦ alta temperatura
♦ alta presión
♦ ultra-alto vacío
♦ celdas electroquímicas
♦ incidencia rasante
♦ micro-haz
♦ campo magnético
Etc…
Técnicas de medida
I1 = I 0 e − µd
I0
Transmisión µ = Nσ µ d = ln
I1
Muestras:
• Polvos o capas finas
• homogeneidad
− µT ( E ) x − µT ( E ) x
cosθ F cosφ
dI f = η I 0 µ e e dxd Ω La recombinación radiativa
compite con el efecto
Auger. La eficiencia η del
I f = I0
ηΩ µ ( E ) 1 − e( − µT ( E ) cosθ + µT ( E f ) cos φ d
) proceso es proporcional al
número atómico Z. La
detección de la señal de
4π µT ( E ) cos θ + µT ( E f ) cos φ fluorescencia es más
apropiada para átomos
pesados.
Se utilizan detectores de Ge o Si:Li (solid
state detectors), enfriados a LN, que
proporcionan discriminación en energía
Pico de fluorescencia
E=EF
µT d << 1 Ω
IfΩ ≅ η I0µd
4π
Muestras concentradas
y delgadas
I fΩ ∝ µ
Ω I0µ
µT d >> 1 IfΩ ≅ η
4π µT + µT ( EF )
Muestras muy diluidas
y espesas
Fluorescencia en
incidencia rasante µT d << 1
I f = µ ( E )[1 − R( E )]
rr
I
SSD
R (n, φ )
S1 I
f
S2 n = 1 − δ ( E ) − iβ ( E )
φ < φc
I
0
muestra
[1 − R( E )] = cte.
1.0
Muestra conductora
Sensibilidad de superficie
Profundidad de escape Auger Primarios
λ~ 5 - 10 Å
Secundarios
Electron Yield:
λ ~ 50 - 100 Å
Corriente de electrones emitidos por la
muestra
Extración de la
señal EXAFS Señales teóricas
Fit experimento-modelo
teórico
Parámetros
estructurales
Análisis de datos EXAFS
µ − µ0
χ (k ) =
µ0
1 kmax
∫ χ 2ikr
F(r) = k (k)e dk FT
2π kmin
Análisis de Fourier
Para una muestra policristalina, en la aproximación de dispersión
simple y despreciando los efectos anelásticos, la fórmula EXAFS
se puede escribir como:
− 2σ 2 k 2
N j f j (k , π ) e j
χ (k ) = ∑ j 2
sin( 2krj + 2δ 1 (k ) + φ j (k ))
kr j
aproximando la fase a
2δ 1 (k ) + φ j (k ) = a0 + a1 j k
poniendo kmin=0, fj =1, y considerando sólo el término a r>0
−i 2 a ( r + a / 2 ) 2 2
Nj − − σ
j
0 j 1 j ( r r ) / 2
FT {kχ (k )} = i 2
j
e e
r j 4σ j 0.4
0.3
|F.T.|
0.1
- de anchura igual a 2 2σ j
- y de área igual a
0
N j 2π 0 1 2 R (Å) 3 4 5 6
⋅
r j2 4
R ∝ ∑ ( χ )
2
2 teo
−χ exp
i
i i i
h2 r r r r
− ∆ψ (r ) + V (r )ψ (r ) = Eψ (r )
2m
Si el potencial es a simetría esférica la ecuación admite una solución del tipo
ψ = Rkl (r )Y m (θ , φ )
l
d2 2 d 2 l (l + 1) 2m
2
Rkl + Rkl + k − 2
− 2
V ( r ) Rkl = 0
dr r dr r h
Rkl (kr ) = Cl {Al jl (kr ) + Blηl (kr )} = Cl Al2 + Bl2 {cos δ l jl (kr ) + senδ lηl (kr )}
δ l = sen
−1 Bl Método de los desfasajes
A2 + B 2
l l
Se puede así calcular f(π,k) y δ1 y obtener la χj(k) según la fórmula heurística en la
aproximación de difusión simple y onda plana.
Dispersión multiple
Los programa de cálculo actualmente utilizados ya no utilizan ni la aproximación de onda
plana ni la de dispersión simple, y se encuentra que al desarrollar en serie el operador de
dispersión multiple la señal EXAFS es la suma de las señales oscilatorias relativas a
todos los posibles caminos de dispersión
χ = ∑ χn
n
y proporcionan fases y amplitudes para cada uno de los caminos posibles en el cluster de
átomos considerado. Es posible así realizar el ajuste de la señal teórica a la
experimental afinando distancias, ángulos de enlace, amplitudes números de coordinación
etc.
Exactitud en los parametros estructurales del EXAFS ?
Números de coordinación
factor Debye-Waller ± 20%
EXAFS diferencial:
alta resolución en tiempo y espacio
Sistemas biológicos:
estudio XAFS del sitio de enlace catiónico
en una metalo-proteína
EXAFS de hilos cuánticos de InAs/InP
• Las nanoestructuras de
semiconductores son la base de los
nuevos dispositivos electrónicos y
optoelectrónicos.
• Tienen propiedades ópticas y
electrónicas especiales debidas a
sus dimensiones nanométricas.
(confinamiento de los portadores
en niveles discretos ajustables,
rapidez de respuesta, disminución
de corrientes de umbral en los Hilos cuánticos de InAs/InP(001)
láseres...). crecidos de forma autoorganizada por
• El régimen cuántico está definido MBE .
por la longitud de onda de De Se ha añadido un capping de InP de
Broglie. 5nm para proteger los hilos del óxido
λB =
h d eff = 2.2ML h ≈ 0.6 ÷ 2 nm
*
2m E o
E = kT ⇒ d < λB ≈ 50nm InAs a T = 300 K 1ML InAs ≅ 3 A Λ ≅ 22 nm
Deformación elástica? (h?)
h < hc Relajación de las tensiones por
a InAs − a InP crecimento 3D?
ε= ≅ −3.3%
a InP
Composición: InAs o InAsxP1-x?
InAs Desorción de P en la superficie de
crecimiento, interdifusión...
InP
Muestra monocristalina
haz con polarización (110)
a⊥
a a/ /
elasticidad
a⊥ = aInAs + 2
C12
(aInAs − aInP )
C11 ε
El modelo: InAs de volumen
Se comprueba la bondad del cálculo
teórico para un sistema conocido:
el InAs.
El EXAFS está medido al umbral K
del As en una muestra en polvo (
µd microcristalina). El ajuste de la
señal EXAFS tiene que
proporcionar los valores
cristalográficos de las distancias y
de los números de coordinación.
χ (k )
o
-1
k(A )
Caminos de dispersión simple
Se construye un cluster del
tamaño de una celdilla
elemental de InAs que tiene
la estructura de la Zinc-
blenda.
n=4 n = 12
Se calcula la contribución cn
para cada posible camino de
dispersión simple y multiple
As In χ = ∑ χn
n
El ajuste del modelo
Parámetros de ajuste:
Rn distancias interatómicas
σ2 factor térmico DW
E0 cero de la energía E0
perdidas inelásticas
S 02
La utilización de un detector de
gran superficie (array de 13 celdas)
permite obtener una señal EXAFS
con una relación señal/ruido
satisfactoria para una cantitad de
material muy pequeña
deformación elástica
presencia del P en el
epilayer
presencia del P en la
interfase
de P en el layer
La capa de hilos está deformada
Parte de la deformación elástica
a InP − a //
ε= ≅ −3.3% se relaja debido a la formación
a InP de los hilos
Se construye un modelo con las
distancias de segunda capa
deformadas de acuerdo con la
distancia medida de tercera capa
ε⊥ y la elasticidad.
0 0
d II// = 4.18 A d II ⊥ = 4.30 A
Se recalculan fases y amplitudes
sustituyendo el P al As como
o
dispersor en el cluster
ε⊥ ε
=∑j
2 2
−2σ −2 r j / λ ( k )
χ (k ) = π + δ + φ
k
0
f ( k , ) sin(2 kr 2 ( k ) ( k )) e j
e
µ 0
krj2
j j 1 j
EXAFS best fit results
II
Abs II As,P II shell Strain Pure strained InAs
In or
distances ?
II
Abs. P content InAsP alloy
? Adonde está el P?
Hilos InAs + P interfase & capping
o
aleación InAsP ?
DAFS
Two examples of ultimate
time and interatomic distance
resolution
sample
∆t
Ru
Exp. At ALS BL 5.3.1 (Bending Magnet)
Time sequence of laser pump (UV)/X-ray probe
Synchronization, gating and time delay
XANES at the LIII edge of
[RuII/III(bpy)3]2+ (≅2840eV)
Static
Sample: 0.1mm absorption
free-flowing jet of B: 2p3/2 4d3/2 (eg)
80mmol/l, in A: 2p3/2 4d5/2 (t2g)
He filled chamber
Transient
absorption
Reconstr.
absorption
z
-0.005
-0.01
2800 2850 2900 2950 3000
Energy R
φ y
• Initial geometrical configurations θ
• Exp. data
x
Hundreths of theor. spectra by moving
atomic coordinates are generated
(The potential is calculated at each step) # It works in the energy space
# It can start from the edge
fit of relevant structural # It can use polarization dependent
# spectra
parameters
# It can use difference spectra
With chemical energy shift of
1.0 eV
∆R (Ru-N)=0.052 ± 0.004 Å
OK for
! No mechanical movements (no dead times)
Time-resolved measurements
! Simultaneous acquisition of all data points
∆r=1fm Ishell
M
M
M
ε ε
0.35
0.3 best_fit
exper
0.25
0.2
0.15
0.1
0.05
0
-50 0 50 100 150 200
Energy(eV)
Putative
cluster
MXAN software
Optional M. Benfatto and S. Della Longa
commands (J. Synchrotron Rad. (2001), 8, 1087-1094)
Experimental Structural
data information about
the Ca environment
Mg
Ep minimisation
S6 4.17 2.31 6
S7 7.10 2.35 7
S8 regular 4.39 2.27 6
S8 rotated 9.47 2.28 8
S9 12.79 2.28 9
Ca2+-internal 1.74 2.30 6
0.35
0.3 best_fit
exper
0.25
0.2
0.15
0.1
0.05
0
-50 0 50 100 150 200
Energy(eV)
Final Ca2+-Asp 85-Asp212-3 H2O
(Ca2+-internal)
0.3
best_fit
0.25 exper
0.2
0.15
0.1
0.05
N = 8, R = 2.35 Å
0
-50 0 50 100 150 200
Energy(eV)
Structural data for the Ca2+-H2O complex
Ca cluster type S2/n (reduced χsq.) Ca-O distance Coordination
(Å) number
S6 7.22 2.37 6
S7 5.50 2.39 7
S9 5.74 2.36 9
Conclusions
Ca high affinity binding site:
! Ca2+ in water solution: cubic geometry (8n); R = 2.35 Å
!Ca2+-PM: distorted octahedric geometry (6n); R = 2.30 Å
!The high-affinity binding site for Ca2+ should be located in
the vecinity of the retinal molecule: 6 oxygen atoms at R=2.30
Å
!Strong direct evidence of cation specific binding to the BR
0.15
2.0
WT1MnpH7
0.10 WT1MnpH10
WT1MnpH7
WT1MnpH10
1.5 0.05
Absorption Coefficient
χ(Κ)•Κ1
0.00
1.0
-0.05
0.5 -0.10
-0.15
0.0 2 4 6 8 10
6540 6560 6580 6600 6620 6640 6660 6680 6700 -1
K(Å )
Energy (eV)
BR nativa (Wild type) y
mutada con pH 7 y pH10
con 5 Mn2+/BR: además del
sitio de alta afinidad, se
llenan los de media
Proteína nativa, sin
ninguna modificación
Proteína cuadruplemente
mutada: los aminoácidos
externos cargados
negativamente
Glu9/Glu74/Glu194/Glu204
han sido sustituidos por
aminoácidos sin carga
Conclusiones:
•El sitio de alta afinidad está en el interior de la
proteína, coordinado con los aminoácidos
Asp85/Asp212 y dos moléculas de agua.