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JFET
FET de AGOTAMIENTO o
(canal DECREMENTAL
N y MOSFET
canal
P) de BAJA POTENCIA
de ENRIQUECIMIENTO o
de ALTA POTENCIA
INCREMENTAL
o FET-V o V-FET
CMOS
p
D
Source Drain
N G
Fuente Drenaje
S
p
CANAL N
Gate
Compuerta
n D
G
S D
P
S
n
CANAL P
G
G D
VDD
VGG VGS S VDS
VDD
0V
-1V
VDD -2V
-3V
0V .
1V .15
2V
,
.
.
15 V
VGS
0V
-1V
-2V
-3V
.
.
VGSOFF = VP
ID mA ID
Canal P Canal N
VGS = 0 V
IDSS
VGS= -1 V ó = +1 V
VGS= -2 V ó = +2 V
VGS VGSOFF = VP
VGSOFF=VP …+ 3 + 2 +1 0 0 + 5 + 10 …..
VDS
15………
VGSOFF=VP = Voltaje - Canal N + Canal N
de ahorcamiento ó + Canal P - Canal P
estrangulamiento ú
oclusión
ECUACIONES DE PARAMETROS DEL JFET
Corriente de Drenaje
donde IDSS = corriente drenaje-fuente de saturación
2
IDID == IDSS
IDSS[ [11- - VVGS__
GS__] ]2
VGS off = VP = voltaje de ESTRANGULAMIENTO
VGS off
o AHORCAMIENTO u OCLUSION u OBSTRUCION
** Estos datos los proporciona el fabricante. Y en los
cálculos se tomarán sus valores constantes.
Transconductancia Mutua ( ganancia híbrida)
ID
Resistencia Directa
R D = VDS_
ID
VDS
r d = VDS2 - VDS1_
I D2 - I D1 VDS1 VDS2
IDS = ID
mA I = 0.12 mA
VGS VDS
a) Tipo de canal
b) ID para el punto A
c) gm para el punto A
d) RD para el punto C G + = pol. inv. material N y
e) rD para los puntos B y D el canal será P
f)
S G D Metal
( Contactos )
D
Óxido
( Aislante SiO2)
Sus-
trato
P
N Sustrato
(Semiconductor)
G S
P
CANAL N
S G D Metal
( Contactos )
D
Oxido
( Aislante SiO2)
Sus-
trato
N
P Sustrato
(Semiconductor)
G S
N
CANAL P
S G D
Polarización:
S directa
D inversa
G Polarización = N
al Tipo de Canal
P
VDD
VGG
VGS VDS
ID (mA)
VGS = 0 V
IDSS
VGS = + 1 V
VGS = + 2 V
VGS VGSOFF = VP
- Canal N + Canal N
+ Canal P - Canal P
En vista de que las curvas del Mosfet de agotamiento son idénticas a las del JFET,
todos los parámetros y variables del JFET, son los mismos para el Mosfet. De tal
manera que las fórmulas son las mismas, y el problema propuesto para el JFET podría
haber sido también para el Mosfet. Pero podría entonces haberse planteado como sigue:
S G D Metal
( Contactos )
D
Oxido
( Aislante SiO2)
Sus-
trato
P
Sustrato
(Semiconductor)
G S
CANAL N
S G D Metal
( Contactos )
D
Oxido
( Aislante SiO2)
Sus-
trato
N
Sustrato
(Semiconductor)
G S
CANAL P
S G D
Polarización:
S directa
D inversa
G Polarización
contraria al Tipo de
Canal
También con este dispositivo se tienen las 3 configuraciones de trabajo, Fuente Común
SC, Drenaje Común DC y Compuerta Común GC. De las cuales se explicará la más
usual, la de Fuente Común.
ID = IDS
VDD
VGG
VGS VDS
ID (mA)
VGS > VT
VGS < VT
0 VT VGS 0 +5 + 10 + 15 + 20 VDS
(Volts) (Volts)
+ Canal N + Canal N
- Canal P - Canal P
En vista de que las curva de Entrada cambió, la ecuación para determinar la corriente de
drenaje ID también debe hacerlo, así como la Transconductancia Mutua gm .
Corriente de Drenaje
Transconductancia Mutua
R D = VDS_
ID
VDS
Resistencia de C.A.
ID2
r d = VDS_
I D ID1
r d = VDS2 - VDS1_
I D2 - I D1
VDS1 VDS2
ID = IDS ( mA )
ID = 0.075 mA
C
B E
D
A VT
VGS VDS
-1 -2 -3 -3.5 -5 -12 -19
a) Tipo de FET
b) Tipo de canal
c) ID para C
d) g m para A
e) RD para C
f) r d para el intervalo D - E
g)
a) Por tener un VT = Voltaje de umbral que es exclusivo de los Mosfet de
Enriquecimiento (ME), concluiremos que es un MOSFET de ENRIQUECIMIENTO
d) g m para A Vgs = -1 V
e) RD para C
f) r d para el intervalo D – E
S G
N N
N+
+ VSS = +5 V
_ p-mos
Vi Vo
+5V -=0V
-=0V n-mos +5V
-=0V
Este circuito CMOS se puede aplicar como una compuerta digital lógica cuya función
sería:
Compuerta: Inversora ó Negadora ó NOT
Existen en la Electrónica Digital tecnologías p-mos en donde todos los circuitos son
solo mosfet de enriquecimiento canal P. También en la tecnología n-mos todos los
circuitos son mosfet de enriquecimiento canal N. Y por último. En la tecnología CMOS,
todos los transistores son mosfet de enriquecimiento tanto canal N como canal P.