El recubrimiento por rotación (Spin coating), es una técnica bastante común y

ampliamente aplicada para el depósito de películas en diferentes sustratos, el

recubrimiento por rotación generalmente implica la aplicación de una película
delgada (de unos pocos nm a unos pocos um) uniformemente a través de la
superficie de un sustrato al verter una solución del material deseado en un
solvente, mientras gira, la fuerza centrípeta generada por la rotación y la tensión
superficial de la disolución a depositar controlan en su mayoría el proceso de
depósito mediante esta técnica, es así que una vez que el solvente es eliminado
de la muestra obtenemos una película de dicho material, cuyo resultado final
dependerá de los factores antes mencionados en su mayoría.
Este proceso se puede dividir a grandes rasgos en 4 pasos principales:

1. Vertido
2. Rotación.
3. Desaceleración
4. Evaporación

Cada una de las etapas antes mencionadas involucra la presencia de diferentes

variables, cuyas características estarán directamente ligadas a las características
y propiedades de la película obtenida
En el paso inicial, la solución se vierte sobre el sustrato, normalmente con una
pipeta. Ya sea que el sustrato ya esté girando (deposito dinámico) o no (deposito
estático), el movimiento centrífugo esparcirá la solución por el sustrato.
Luego, el sustrato alcanza la velocidad de rotación deseada, ya sea
inmediatamente o después de un paso de esparcimiento a menor velocidad. En
esta etapa, la mayor parte de la solución se expulsa del sustrato. Inicialmente, el
fluido puede estar girando a una velocidad diferente a la del sustrato, pero
eventualmente las velocidades de rotación coincidirán cuando la fricción equilibre
las aceleraciones de rotación.
Una vez que el sustrato y el fluido alcanzan la velocidad angular deseada la
película comienza a dispersarse en dirección radial, lo que provoca un decremento
en el espesor del material depositado que comúnmente se ve acompañado por un
característico cambio en la coloración que esta directamente relacionado a los
fenómenos ópticos de absorción y transmisión de la luz propiciados por el cambio
en el espesor.
Concluida esta etapa, es posible que se observen gradientes de concentración en
los bordes del sustrato, este hecho se explica debido a que cuando se elimina
parte de la solución en la etapa de rotación, el material tiende a concentrarse en
puntos específicos del sustrato, comúnmente las esquinas y una vez que dicha
concentración alcanza una masa crítica el material es expulsado debido a la
fuerza centrípeta, en este punto el adelgazamiento de la película se ve controlado
en su mayoría por la evaporación del solvente, dicha evaporación dependerá de la
volatilidad del disolvente, la presión de vapor, y las condiciones ambientales del
depósito (presión, temperatura).
Existen diversos fundamentos teóricos que buscan describir y explicar el
comportamiento antes mencionado durante el depósito por spin coating:
 Teoría del recubrimiento giratorio

Debido a la aparente simplicidad del proceso es posible definir el

comportamiento del sistema mediante ecuaciones muy simples, que nos
permitirán relacionar las variables físicas involucradas con las
características y propiedades de las películas obtenidas:
En una primera aproximación podemos definir la relación que existe entre la
velocidad angular y el espesor promedio de la película obtenida mediante la
siguiente expresión:

1
Ef α
√ω
Donde :

E f =Espesor promedio de la pelicula depositada

ω=Velocidad angular del sustrato

Es posible entonces decir que el espesor es indirectamente proporcional al

inverso del cuadrado de la velocidad angular.

Esto significa que una película que rota cuatro veces más rápido con
respecto a otra tendrá la mitad de espesor. 

También se puede calcular una curva de espesor a partir de esta ecuación,

como se muestra a continuación.
El espesor exacto de una película dependerá de la concentración del material y la
velocidad de evaporación del solvente (que a su vez depende de la viscosidad del
solvente, la presión de vapor, la temperatura y la humedad local) y por esta razón
las curvas de espesor por rotación para soluciones nuevas se determinan más
comúnmente de manera empírica.
Normalmente, el espesor se mide mediante elipsometría o perfilometría de
superficie. A partir de este o más puntos de datos, se puede calcular la curva de
espesor por rotación.
Pese a que en muchos trabajos de investigación se hace uno de la relación antes
mencionada esta no siempre se aplica y no permite predicciones del espesor de la
película sin datos experimentales, debido a esto se han realizado varios intentos
de describir el proceso de una manera más rigurosa:
 El primero (y más simple) de ellos fue el de Emslie, Bonner y Peck en 1958:

Este análisis hizo varias aproximaciones, entre ellas ignorar los efectos de
la evaporación (cuya validez dependerá de cuán volátil sea el solvente) e
ignorar la posibilidad de comportamiento no newtoniano. Esto significa que
se asume que la viscosidad del fluido utilizado no cambiará por la tensión.
Para un fluido viscoso no volátil en un disco giratorio infinito, el modelo de
Emslie se puede ver en la Ecuación
∂ h ρ ω 2 2 ∂ h −2 ρ ω2 h3
+ h =
∂t n ∂r 3n

donde :
t=Tiempo total de deposito
ω=Velocidad angular
r =Distancia desde el centro de rotación
n=Viscocidad de la solución
ρ=Densidad de la solución
h=Espesor de la capa de fluido