Reglas de Woodward-Fieser para dienos y polienos
Dienos heteroanulares o polienos del tipo
Valor básico 214 nm
Dienos homoanulares o polienos del tipo Valor básico 253 nm
Incremento: por cada sustituyente alquilo 5 nm
por cada doble enlace exocíclico 5 nm
por cada doble enlace conjugado adicional 30 nm
por cada grupo fenilo conjugado 60 nm
por cada grupo polar: -OAc 0 nm
-O-alquil 6 nm
-S-alquil 30 nm
-Cl, -Br 5 nm
-N(alquil)2 60 nm
No hay correcciones por disolvente
JAP 11
Ejemplo
JAP 12
Ejemplo
Base: 214 nm
JAP 13
Ejemplo
Base: 214 nm
3 sustituyentes: 3·5 = 15 nm
JAP 14
Ejemplo
Base: 214 nm
3 sustituyentes: 3·5 = 15 nm
Doble enlace exocíclico: 5 nm
JAP 15
Ejemplo
Base: 214 nm
3 sustituyentes: 3·5 = 15 nm
Doble enlace exocíclico: 5 nm
Total: 234 nm
Experimental: 234 nm (log = 4.3)
JAP 16
Reglas de Woodward-Fieser para cetonas , -insaturadas
Sustituyentes en
Base R- (Alquilo) 10 nm
R Cl- 15 nm
O R = alquil 215 nm Br- 25 nm
R=H 210 nm HO- 35 nm
R = OR’ 195 nm RO- 35 nm
RCO2- 6 nm
Sustituyentes en
R- (Alquilo) 12 nm
O Cl- 12 nm
Br- 30 nm
HO- 30 nm
202 nm
RO- 30 nm
RCO2- 6 nm
RS- 85 nm
R2N- 95 nm
Sustituyentes en y
R R- (Alquilo) 18 nm
O R = alquil 245 nm
HO- 50 nm ( )
R=H 240 nm
RO- 30 nm ( )
R = OR’ 225 nm
Conjugación extendida
C=C 30 nm
C6H5 60 nm
Corrección por disolventes: H2O -8 nm; Metanol/etanol 0; éter +7 nm; hexano/ciclohexano +11 nm
JAP 17
Ejemplo
JAP 18
Ejemplo
Base (R=alquil): 245 nm
JAP 19
Ejemplo
Base: 245 nm
Alquilo en : 12 nm
JAP 20
Ejemplo
Base: 245 nm
Alquilo en : 12 nm
Alquilo en : 18 nm
JAP 21
Ejemplo
Base: 245 nm
Alquilo en : 12 nm
Alquilo en : 18 nm
Doble enlace exocíclico: 5 nm
JAP 22
Ejemplo
Base: 245 nm
Alquilo en : 12 nm
Alquilo en : 18 nm
Doble enlace exocíclico: 5 nm
O Total: 280 nm
Experimental: 283 nm (log e = 4,3)
JAP 23