Presentación-Microfiltración-PAM60C-Parte I-Rev10

Micro-Filtración
PAMC60
PALL ARIA™ MOBILE
Septiembre 2020
Alfredo Murúa-M.
Índice de Contenido – Parte I:
1. Antecedentes
2. Caso de Estudio
3. Introducción
4. Ciclo del Agua
5. Composición del Agua
6. Impurezas en el Agua
7. Sólidos en el Agua
8. Parámetros del Agua
9. Conceptos Básicos de Membranas
10. Características de la Membrana de Micro-Filtración
11. Seguridad e Higiene (Lineamientos Generales)
12. Especificaciones del Sistema de Micro-Filtración
13. Descripción del Sistema de Control
14. Respuesta a Alarmas
15. Puntos de Ajuste (Setpoints) y Rangos de Operación
16. Parámetros de Operación del Sistema de Membranas MF
17. Pre-tratamiento del Sistema de Membranas MF
18. Arranque del Sistema de Micro-Filtración
19. Monitoreo de la Operación del Sistema de Micro-Filtración
20. Operación de la Unidad de Micro-Filtración (MF)
21. Proceso de Limpieza de Mantenimiento de Flux (FM)
21.A Proceso de Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF)
21.B Proceso de Retro-Lavado con Agua Filtrada (RF)
21.C Proceso de Enjuague con Agua de Alimentación (FL)
22. Proceso de Llenado de Tanque RF
23. Equipo fuera del Contenedor/Bastidor (Off Rack)
24. Final de Producción de Filtrado o Continuación
Glosario: Palabras y Acrónimos
Antecedentes:
En 2015, la planta minera de oro en Yanacocha, Perú ubicada a 3,000 metros de

altura, buscó proteger su unidad de Ósmosis Inversa (RO) existente, la cual era
alimentada con agua de lixiviados. Se encontró que el tratamiento de agua
convencional no podia proveer un flujo de agua estable y de alta calidad para la
producción minera. Por lo que, la planta requería de una solución rápida y confiable
para el tratamiento de agua residual capaz de mantener la demanda en los meses de
verano y que además tratará el agua con lixiviados, para prevenir el colapso de las
membranas de RO existentes, o la liberación de agua contaminada al medio
ambiente. Por lo anterior, se seleccionó el sistema de membranas Pall Aria – Agua
Móvil en Contenedor debido a su velocidad de implementación y su capacidad para
cumplir con las regulaciones de filtración.
Caso de Estudio: Mina de Oro en Perú
El Reto:
La mina peruana necesitaba rápidamente de un tratamiento de agua estable y de alta
calidad para satisfacer la demanda máxima y evitar el ensuciamiento de la
membrana de ósmosis inversa. La solución ideal era algo que ocupara poco espacio y
que pudiera operar en geografías desafiantes.
La Solución:
El sistema de membranas Pall Aria – Agua Móvil en Contenedor fue elegido para tratar
los lixiviados de la mina, garantizar la disponibilidad de una fuente de agua de
calidad y aumentar la capacidad en general. Además, la forma modular e
independiente del Pall Aria Móvil eliminó la necesidad de nuevos edificios o
infraestructura.
El Resultado:
La rápida implementación (que duró solo seis meses) del sistema de membranas Pall
Aria Móvil y su perfecta habilidad para aumentar la capacidad, fue una solución ideal
para abordar los desafíos de las estrictas regulaciones de Perú y el fuerte enfoque de
la mina de oro en el impacto social.
Introducción:
La unidad móvil de Micro-Filtración instalada en Minera Yanacocha Norte,
está diseñada para la producción de 200 m3/h de agua (por contenedor)
proveniente del proceso minero de Yanacocha.
La planta de Micro-Filtración cuenta con tres (3) contenedores

(identificados como: No.16, No.17 y No.20) y cada uno de ellos consta de:
dos (2) Racks, con treinta (30) Módulos de MF por Rack, para un total de
sesenta (60) módulos de MF por contenedor, los cuales, se encargan de
filtrar y entregar el agua de alimentación al proceso de ósmosis inversa.
Dentro de las unidades móviles de MF se realizan algunos procesos de

forma automática y otros de forma semi-automática cuyo objetivo es
garantizar el adecuado funcionamiento del sistema para mantener la
continuidad de la producción de agua Micro-Filtrada.
Planta de Micro-Filtrado para Ósmosis Inversa (RO)
Micro-Filtración
Sistema de Micro-Filtración PAM-C60
Modelo en 3D
Sistema de Micro-Filtración PAM-C60
Vista Superior
Vista Lateral
Composición del Agua:
El agua “pura” es incolora, inodora e insípida.
El agua está compuesta de Hidrógeno y Oxígeno (H2O) .
El agua se contamina con las sustancias con las que tiene contacto, por lo que, en realidad no esta
disponible en estado puro.
El agua puede disolver cualquier sustancia natural en la tierra y debido a esta propiedad, al agua se
le ha dado el término de “Solvente Universal”.
La fuerza disolvente del agua puede representar un grave peligro para los equipos industriales.
Los dos (2) principales grupos de compuestos encontrados en el agua son:
Compuestos Orgánicos
• Ácidos Húmicos
• Ligninas (polímero orgánico complejo)
Compuestos Inorgánicos
• Minerales disueltos
• Gases disueltos
Cíclo del Agua:
Impurezas en el Agua:
Iónicas y Disueltas No Iónicas y

Catiónicas Aniónicas No disueltas Gaseosas
(+) (-)
Calcio Bicarbonato Turbidez Dióxido de Carbono
Magnesio Carbonato Color Sulfuro de Hidrógeno
Sodio Hidróxidos Materia Orgánica Amoniaco
Potasio Sulfatos Sílice Coloidal Metano
Amonio Cloruros Micro-Organismos Oxígeno
Fierro Nitratos Plancton Cloro
Manganeso Fosfatos Bacterias
Sílice Aceite
Cloro Productos de Corrosión
Sólidos Suspendidos
Alcalinidad
Sólidos en el Agua:
Los materiales sólidos en el agua pueden ser clasificados y distinguidos por su tamaño en:
• Sólidos Suspendidos Totales (TSS):

Describen la materia particulada inorgánica y orgánica presente en el agua. Son partículas
grandes que pueden o no sedimentarse por gravedad. Algunos ejemplos son: Hojas, Ramas,
Insectos, Arena, Barro, Microorganismos, Coloides, etc. Las partículas coloidales tienen un
tamaño entre 1 y 1000 nm y generalmente, cuentan con carga negativa (se repelen entre ellos).
Ácidos orgánicos, Sílice Coloidal, etc., son ejemplos de coloides.
• Sólidos Disueltos Totales (TDS):

Medida del contenido combinado de todas las sustancias inorgánicas y orgánicas contenidas en
un líquido en forma molecular ionizada (cationes y aniones). Algunos ejemplos son: minerales,
sales, metales, etc. Estos pueden afectar el Color, Sabor y Olor del agua.
• Sólidos Totales (TS):

Son el resultado de la sumatoria de los Sólidos Suspendidos Totales (TSS) y los Sólidos Disueltos
Totales (TDS).
Parámetros del Agua:
• Turbidez:
La turbidez depende del tamaño de las partículas suspendidas en un líquido, sin embargo, NO
existe relación directa entre:
Sólidos Suspendidos Totales (TSS) y
Unidades Nefelométricas de Turbidez (NTU).
• Carbón Orgánico Total (TOC):

Representa productos con degradación orgánica y algunos constituyentes fabricados por el ser
humano (como tintes y polímeros).
• Color:
La mayoría de las veces indica la presencia de materia con degradación orgánica.
• Índice de Densidad de Sedimentos (SDI):

Mide partículas por volúmen de agua en un periodo de tiempo. La prueba utiliza filtros de papel
de 0.45 µm.
¿Cuál es el propósito de la Filtración?
• Remover Sólidos Suspendidos en el agua.

• Proveer agua en la cantidad y calidad específica, y
• Proteger el equipo que utilizará el agua filtrada.
La mayoría de los procesos de filtración requieren procesos unitarios

adicionales (pre-tratamiento o post-tratamiento):
Adición de coagulante.
Mezclado y/o Tiempo de Contacto (químico).
Sedimentación y/o Separación.
Otro paso de filtración (p.e.: Combinación de membranas).
Tecnología de Membranas para cada Necesidad:
Purificar
Desalinizar
Suavizar
Fraccionar
Concentrar
Separar
Decolorar
Espectro de Filtración
Conceptos Básicos de Membranas:
Tamaño de Poro:
Micro-Filtración – Max. 1.0 micra a Min. 0.05 micra, Nom. 0.4 micra
Ultra-Filtración – Max. 0.1 micra a Min. 0.005 micra, Nom. 0.04 micra
Nano-Filtración – Max. 0.008 micra a Min. 0.001 micra, Nom. 0.004 micra
Ósmosis Inversa – Max. 0.001 micra a Min. 0.0002 micra, Nom. 0.0004 micra
Materiales y Textura:
MF y UF (membrana porosa)
Polisulfona (Polysulfone)
Polietersulfona (Polyethersulfone)
Polifluoruro de Vinilideno (PVDF)
NF y RO (membrana densa)
Poliamida - Película fina compuesta (Polyamide - thin film composite)
Acetato de Celulosa (Cellulose Acetate)
MWCO = Molecular Weight Cut-Off
Rangos de Presión y Flux para Diferentes Tipos de Membranas

• Cálculo del Flux Instantáneo:

Fórmula: Flujo de agua a través de las membranas durante el ciclo de permeado; dividido
entre el área de membranas.
Flux Inst. [lmh] = (Flujo Q [m3/h] *103) / Área de Membrana [m2]
Flux Inst. [gfd] = (Flujo Q [gpd]) / Área de Membrana [ft2]
• Presión Trans-membrana (TMP):

Es la presión aplicada a las membranas para generar cierta cantidad de flujo de agua a través
de ellas.
• Cálculo de Permeabilidad Instantánea:

Fórmula: El Flux Instantáneo; dividido entre la Presión Trans-membrana (TMP).
Permeabilidad Inst. [lmh/bar] = Flux Instántaneo [lmh] / TMP [bar]
Permeabilidad Inst. [gfd/psi] = Flux Instántaneo [gfd] / TMP [psi]
La Permeabilidad es un parámetro CLAVE utilizado para monitorear el desempeño de las
membranas.
El Flux de Membrana y la Presión Trans-Membrana [PTM] típicamente se monitorean en línea y

se utilizan para calcular la Permeabilidad de Membrana.
Características de la Membrana de Micro-Filtración:
• Operación: Sumergida
• Tipo: Fibra hueca
• Dirección de Flujo: A presión,
de afuera hacia adentro
• Calidad: Micro-Filtración
• Material: PVDF (Polifluoruro
de Vinilideno o Fluoruro de
Polivinilideno)
• Resistencia: Cloro y
Oxidantes.
Operación de la Membrana MF:
• Al interior de la fibra de
Micro-Filtración se le
conoce como Lumen y
provee una “tubería” para
el transporte del filtrado.
• La alimentación de agua se
realiza a presión (dead-end)
forzando que el agua pase a
través de los poros. Módulo de Membranas Pall-MF
Superficie de la membrana a través

de un microscopio electrónico.
Operación de la Membrana MF:
• Las fibras de membranas tienen millones de poros y el diámetro nominal

de un poro es de 0.4 micras (1/63,500 plg).
• Los poros forman una barrera para la materia sólida, pero permiten
pasar las moléculas de agua.
Toma de un microscopio electrónico

en donde se muestra un par de
bacterias sobre la superficie de una 0.5 a 1 micra
membrana.
Puede observarse la imposibilidad
de que las bacterias pasen a través
de los poros de la membrana.
Seguridad e Higiene EHS (Lineamientos Generales):
• Esta presentación es sólo un recordatorio de los posibles riesgos relacionados
con la planta de tratamiento de agua por medio de Micro-Filtración.
• Esta presentación no pretende ser un curso de Seguridad Integral.
• Esta guía no enseñará, ni se sobrepondrá a las normas de seguridad
particulares que maneja el sitio donde está instalado el equipo de
tratamiento de agua.
• El Orden y Limpieza son parte importante de la Seguridad.
• La Seguridad requiere el uso correcto del Equipo de Protección Personal. Por
lo tanto, cada individuo debe investigar, adquirir y utilizar el Equipo de
Seguridad que se requiere para cumplir con una tarea específica.
• La Documentación de Seguridad para cualquier químico, debe estar
disponible en todo momento.
• El Sistema de tratamiento de agua contenido PAM-C60, ha sido diseñado de

acuerdo a los requerimientos normales de seguridad.
• El Sistema ha sido probado y aprovado por el fabricante para ser seguro
durante su operación, asumiendo que se siguen correctamente las
instrucciones delineadas en el Manual de O&M.
• Pero a pesar del diseño seguro, es posible que haya riesgos potenciales en
eventos de incorrecta operación o circunstancias inesperadas.
• Todo el personal involucrado en la operación y mantenimiento de este
Sistema debe conocer las intrucciones de seguridad delineadas en el
Manual de O&M.
• El acceso al contenedor y áreas cercanas al equipo deberá ser restringido.
• El Sistema de tratamiento de agua contenido PAM-C60, está provisto de dos

(2) Botones de Paro de Emergencia; uno localizado al frente del gabinete de
control y otro cercano a la bomba de CIP y deberán utilizarse en caso de
peligro.
• Cuando el botón de paro de emergencia es presionado, se detendrán todas
las bombas y todas las válvulas regresarán a la posición de seguridad;
aunque esto implique que el líquido en las tuberías pudiera permanecer
presurizado.
• El Botón de paro de emergencia, sólo deberá ser utilizado en caso de
peligro inminente para las personas o el equipo mismo y no como método
regular para detener el proceso o el sistema.
Posibles Riesgos:
• RIESGO POR RUIDO:

El nivel de ruido de las instalaciones del Sistema de Membranas por lo
general es menor a 85 dBa.
NOTA: El soplador de aire y el compressor de aire generan un nivel de

ruido >80dBa durante su operación, por lo que, el personal involucrado
deberá evaluar; qué tipo de EPP es el adecuado para la protección
auditiva.
Posibles Riesgos:
• RIESGO POR ELEMENTOS MECÁNICOS Y RECIPIENTES A PRESIÓN:
Para evitar daños a las bombas centrífugas; estás no deberán operar en seco.
La bomba de transeferencia de químicos opera con aire comprimido a una presión
de 6.0 Barg.
Las tuberías y los módulos están normalmente cargados con agua a presión.
La máxima presión de operación debe ser menor a 3.0 Barg.
No desconecte bridas, conexiones roscadas, etc., mientras el equipo esta en
operación.
Antes de llevar a cabo cualquier mantenimiento, detenga la unidad y libere la
presión abriendo cuidadosamente una válvula, preferentemente de muestreo
(que son de menor diámetro) asegurando que el líquido liberado sea colectado y
no provoque algún daño al medio ambiente.
Antes de trabajar en los filtros de entrada (Strainers) ST0101/ST0201 el sistema
de Membranas debe estar detenido y el filtro debe ser despresurizado.
Durante cualquier inspección o mientras se opera el equipo, deberán utilizarse
lentes de seguridad y ropa apropiada.
Posibles Riesgos:
• RIESGO QUÍMICO:
Se utilizan productos químicos agresivos para la limpieza de los módulos.
Tenga cuidado al realizar cualquier mantenimiento con la unidad en
funcionamiento.
Deberán utilizarse solo los químicos de limpieza recomendados por Pall
Corporation.
Las tapas de los tanques deberán permanecer cerradas en todo momento
durante la operación del sistema para evitar salpicadura de líquidos.
Durante el manejo de los químicos de limpieza, deberán utilizarse lentes de
seguridad, guantes, botas y overolles.
Las hojas MSD (Material Safety Data) de los químicos deberán estar a la
vista y accesibles en todo momento para los operadores del equipo.
Operación de planta deberá respetar los parámetros de operación definidos
en el Manual de O&M, tales como:
Presión < 3.0 Barg y Temperatura entre 5°C y 40°C
Posibles Riesgos:
• RIESGO ELÉCTRICO:
Las bombas centrífugas están alimentadas en 460 VAC, en tres (3) fases.
Las bombas dosificadoras – si aplica- están alimentadas en 220 VAC, en una
fase.
Antes de cualquier trabajo eléctrico la unidad de MF deberá estar aislada
electricamente.
Los trabajos eléctricos deberán ser realizados por personal calificado.
NUNCA coloque un by-pass o deshabilite instrumentos y/o dispositivos de
seguridad.
Siempre considere que los equipos estan energizados (ON) y NUNCA opere
los controles del Sistema de MF mientras otras personas están trabajando en
o cerca del equipo.
Especificaciones del Sistema de Micro-Filtración (MF):
Los sistemas ARIA PAM-C60 son unidades de filtración de agua diseñadas para: Reducir la
turbidez, reducir bacterias y micro-organismos y reducir el índice de taponamiento por
sedimentos (SDI) por medio de la remoción de las partículas sólidas mayores y/o iguales a 0.1
µm en el agua de alimentación.
El Sistema de Micro-Filtración contenido; cuenta con los equipos y componentes necesarios,

interconectados por tuberías, válvulas neumáticas y manuales, así como, transmisores de:
presión, temperatura, nivel y flujo que permiten la operación automática del sistema. Aunque
el sistema de MF permite la operación manual, solo puede llevarla a cabo personal calificado y
entrenado por Pall Corporation, ya que, sirve para la verificación y prueba de equipos y válvulas
después de un mantenimiento y para ajustar algorítmos de control (PID); por lo anterior, es
preferencia del fabricante que el equipo se opere de forma automática todo el tiempo.
Debido a que la fuente de agua son lixiviados de minería, se recomienda fuertemente tener un
pre-tratamiento antes del sistema de MF, esto debido a la potencial incrustación por
compuestos inorgánicos. Por ejemplo: La oxidación del Hierro (Fe) y Manganeso (Mg) para
convertirlos de su forma disuelta, a su forma sólida; o la adición de anti-incrustante para
prevenir la posible deposición de Sulfatos, etc.
Arreglo General del Sistema de Membranas de MF:
Tanque CIP/EFM TK9310 Strainer STO101 Rack 1 Gabinete Eléctrico
HMI
Compresor de aire KKC9901 Con Tanque Almacenador TK9910
Bomba de Recirculación PU9311
Bomba RF PU9201
Tanques de Químicos y Bomba P06
Soplador de aire AB01 Strainer STO201 Rack 2
Arreglo General del Sistema de Membranas de MF en Contenedor (Layout)
1) Dos Filtros Automáticos de entrada (strainers) STO101 / STO201.

2) Dos Bastidores (Racks)de 30 Módulos de Membranas de MF cada uno y válvulas de control.
3) Un tanque de RF para el retro-lavado TK9210 (suministrado por el cliente, no se muestra).
4) Bomba de RF PU 9201.
5) Tanque TK9310 y Bomba de recirculación PU9311 para CIP/EFM.
6) Tanques de almacenamiento químico y Bomba de Inyección P06.
7) Compresor de aire KKC9901 con Tanque de almacenamiento TK9910.
8) Soplador de Aire AB01.
9) Gabinete de control con interface para operador (HMI)
Puertos de Conexión del Sistema de Membranas de MF:
• Tipo de Conexión: Roscada (con Brida: Opcional)

• Material: PEAD (HDPE) con marcos de acero inoxidable AISI 304
• Entrada Agua Cruda: 200 mm (8 in )
• Salida de Filtrado de Membranas: 200 mm (8 in )
• Limpieza in-situ (CIP)/Salida de residuos de Retro-Lavado: 200 mm (8 in )
• Salida de Residuos Miscelaneos (por gravedad): 100 mm (4 in )
Diagrama de Tuberías e Instrumentación (P&ID):
Especificación de Equipos:
Bombas de Limpieza en Sitio (CIP) y Retro-Filtrado (RF):
Tipo de Bomba Características

Bomba CIP (PU9311)
Tipo: Centrífuga
Flujo de descarga: 11.0 LPS (174.3 GPM)
Presión de descarga: 1.5 Bar (22 PSI)
Potencia: 3.0 HP, 2900 RPM
Bomba RF (PU9201)
Tipo: Centrífuga
Flujo de descarga: 33.0 LPS (523.0 GPM)
Presión de descarga: 2.0 Bar (29 PSI)
Potencia: 15.0 HP, 2900 RPM
Especificación de Equipos:
Tanque (TK9310) para Limpieza en Sitio (CIP) y Limpieza de Mantenimiento de Flux Mejorado (EFM):
Capacidad: 3,000 Lts (793 Gal)
Material: Polietileno de Baja Densidad (LDPE)
Compresor de aire (KKC9901) con Tanque de almacenamiento (TK9910):

Suministro Eléctrico 460 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Aire Comprimido: Presión Mínima de Descarga 8.27 Bar (120 psi ),
Volúmen Continuo para Válvulas Neumáticas 0.01
scmm (0.5 scfm). El aire debe ser de grado para
instrumentos, limpio, seco y libre de lubricante
(aceite).
Soplador de Aire AB01

Suministro Eléctrico 460 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Aire Soplado: Máxima Presión de Descarga 2.0 Bar (30.0 psi ),
Volúmen por Módulo 0.09 scmm (3.0 scfm ) El aire
debe ser limpio, seco y libre material particulado.
Parámetro Módulo USV Módulo UNA
(Parameter) (USV Module) (UNA Module)
Diámetro Interior de Membrana 0.7 mm (0.027 in) 0.7 mm (0.027 in)
(Membrane Inside Diameter)
Diámetro Exterior de Membrana 1.3 mm (0.051 in) 1.3 mm (0.051 in)
(Membrane Outside Diameter)
Especificaciones Área de Membrana en base al D. Exterior 50.0 m2 (538 ft2) 50.0 m2 (538 ft2)
del Módulo de (Membrane Area, based on fiber O.D.)
Longitud de Membrana 2.0 m (80 in) 2.0 m (80 in)
Membranas MF. (Membrane Length)
Diámetro del Módulo 165.0 mm (6.0 in) 165.0 mm (6.0 in)
(Module Diameter)
Tamaño Nominal del Poro 0.1 µm 0.1 µm
(Nominal Pore Size)
Flux del Agua @ 15 psi, 25°C (prueba en campo) 440 LMH (259 GFD) 440 LMH (259 GFD)
(Water Flux @ 15 psi, 25°C field trial) 80.8 LMH (47.6 GFD) 80.8 LMH (47.6 GFD)
Temperatura de Operación Máxima) 40°C (104°F) 40°C (104°F)

(Maximum Operating Temperature)
PTM Diferencial Máxima 3.0 bar (45 psi) 3 bar (45 psi)
(Maximum TMP Differential)
Parámetro Módulo USV Módulo UNA
(Parameter) (USV Module) (UNA Module)
Presión Máxima de Entrada 3.0 bar (45.0 psi) 3.0 bar (45.0 psi)
Especificaciones (Maximum Inlet Pressure)
del Módulo de Máxima Concentración de Cloro, Limpieza Hasta 5000 ppm Hasta 5000 ppm
Membranas MF. (Maximum chlorine, Cleaning) Up to 5000 ppm Up to 5000 ppm
Máxima Concentración Alcalina, Limpieza 1N 1N
(Maximum caustic, Cleaning)
Máxima Concentración Ácida, Limpieza 1N 1N
(Maximum acid, Cleaning)
Material de Membrana PVDF PVDF
(Polifluoruro de Vinilideno) (Polyvinylideneflouride)
(Membrane)
Material del Módulo PVC ABS
(Polivinil Clorado) (Acrilonitrilo butadieno estireno)
(Housing)
Material de Fijación en los Extremos (Fibras) Resina Epóxica Resina Epóxica
(Potting Material) (Epoxy Resin) (Epoxy Resin)
Empaquetadura NBR NBR
(Buna-N o Hule a Base de Nitrilo) (Nitrile Base Rubber or Buna-N)
(Gasket)
Glicerina 65%, Etanol 2%, agua DI. Solución de Cloruro de Calcio a 30%
Líquido Conservador (Glycerin 65%, Ethanol 2%, DI (30% Calcium Chloride Solution)
(Preservative) water)
Número Parte Descripción
(Item Number) (Description)
1 Tapa de Extremo Final del Módulo
(Module End Cap)
2 Tapa Roscada de Extremo Final del Módulo
(Module End Nut)
3 O-Ring de Extremo Final del Módulo
Componentes (Module End Nut O-Ring)
del Módulo de 4 Cople Adaptador
(Adapter Coupling)
Membranas MF.
5 Boquilla XR1 Tuerca/Tapa Ciega/Empaque
(XR1 Nut/Blind Plate/gasket)
6 Ensamble de Tubería XR1
(XR1 Piping Assembly)
7 Abrazadera
(Clamp)
8 Tapa de Extremo Final del Módulo
(1) XR Recirculación de
Exedente (Module End Cap)
(Excess Re-Circulation)
9 Módulo de Micro-Filtración
(MF Module)
Descripción del Sistema de Control:
Energizado del Gabinete Eléctrico:
Cuando el gabinete eléctrico es energizado el Sistema de MF no arrancará.
• Todas las bombas deberán permanecer en estado de: detenida.
• Todas las válvulas deberan permanecer en estado de: posición-segura.
El sistema de MF puede arrancarse desde la terminal del HMI.
Acciones al activar el Botón de Paro de Emergencia:

Se le retira la energía a las bombas y válvulas, resultando que:
• Todas las bombas se detienen,
• Todas las válvulas con actuador se colocan en posición-segura,
• Los instrumentos se mantienen energizados y enviando sus respectivas señales al PLC,
• El PLC se mantiene energizado.
La sirena emite una señal Sonora (el operador puede silenciarla desde el panel de control)
Arranque del Sistema después de un Paro de Emergencia:

Una vez que el Botón de Paro de Emergencia ha sido activado manualmente, el usuario debe girarlo
hacia la derecha para desbloquearlo y liberarlo, y luego deberá reconocer las alarmas.
• Todas las bombas deberán permanecer en estado de parada.
• Todas las válvulas deberán permanecer en estado de posición-segura.
El sistema de MF puede entonces arrancarse desde la terminal del HMI.
Controlador Lógico Programable (PLC) Principal:

El gabinete eléctrico está dividido en dos secciones; fuerza y control, la sección de control
contiene el PLC principal que es tipo Siemens S7-314 para la operación del equipo. Cada
elemento eléctrico instalado en el sistema de MF está controlado a través el PLC Principal, el
cual recibe, analiza y envía todas las señales de entrada/salida (análogas y digitales) para
dirigir por completo los procesos del Sistema de MF.
Para que el operador (usuario) pueda visualizar los procesos que se llevan a cabo en el sistema
de MF, existe un traductor que convierte las señales análogas y digitales en gráficos y números
entendibles, los cuales, permiten saber en qué estado y/o condición se encuentra el equipo;
este traductor es, la Interfase Humano-Máquina (HMI).
En un principio a Yanacocha Norte, llegaron dos (2) contenedores de Micro-Filtración y los
Controladores Lógicos (PLCs) fueron comunicados entre ellos, posteriormente, llegó un tercer
contenedor que aunque sigue el mismo principio de proceso de MF, tanto los gráficos y TAGs de
instrumentos, como la forma de acceder al sistema de control; es diferente a los primeros.
Control de Equipo Eléctrico:
Todos los motores (bombas, soplador, compresor)/calentadores/válvulas de control,
transmisores, switches, etc. están conectados al gabinete eléctrico y dependiendo del control
que se necesite, la conexión puede ser con:
• Drive de Velocidad Variable (VSD): Que son usados para motores que requieren control de
velocidad. Los VSDs están también montados dentro del gabinete eléctrico y tanto el cableado
de fuerza, como el de control para las señales de estado y velocidad, están en el gabinete
eléctrico.
• Los Motores que no requieren control de velocidad están conectados directamente a su
respectivo arrancador o corta circuito en el gabinete eléctrico principal.
Respuesta a Alarmas:
Existen dos (2) tipos de alarmas: Críticas y de Aviso. Las de aviso permiten mantener la operación
de un proceso, mientras que las alarmas críticas, están diseñadas para detener el proceso de
forma inmediata y generalmente requieren la intervención del operador para reestablecer la
operación.
Todas las alarmas activas se muestran en la interface de operación y se despliegan al oprimir el

botón de Alarma (ALARM) en la parte inferior de la pantalla.
Cuando se trata de una alarma crítica, la interface de operación inicialmente muestra la alerta de
alarma, la sirena emite una señal audible, se activa una luz estroboscópica parpadeante y el
equipo se detiene de inmediato. (Lo anterior ocurre en fracción de segundos).
El operador puede silenciar la alarma sonora, al oprimir el botón de Silenciar Alarma (ALARM
SILENCE) en la parte inferior de la pantalla. Pero, si la condición que produjo la alarma no se
modifica, el rack/proceso/sistema se mantendrán fuera de operación hasta normalizar dicha
condición.
Pantalla de Alarmas:
La pantalla de alarmas están disponibles en
dos (2) variantes: La pantalla de Historial de
Alarmas (ALARM HISTORY), que se despliega
por medio del botón digital de ALARMA
(ALARM) en la barra de menú de funciones
(inferior) y que muestra la lista de todos los
eventos: activos, reconocidos y el estado en
el que se encuentran (Crítico o Advertencia).
Al seleccionar cualquiera de ellos, el sistema
le proporciona al usuario una breve
descripción de la alarma (Prioridad, Estado,
Fecha, Hora, Severidad, etc.).
Por otro lado, el botón de la esquina
superior izquierda de Categoría (CATEGORY)
desplegará un listado para ordenar y
seleccionar las alarmas por su condición.
Pantalla de Historial de Alarmas del Sistema MF
Pantalla de Alarmas:
La otra variante de pantalla es la de
Alarmas Activas (ALARM SUMMARY) que
muestra la lista de eventos presentes que
requieren la atención del operador, ya sea
para Cambiar alguna Condición (dar
solución o control del proceso), o para ser
Reconocidas por medio del botón digital de
RECONOCER TODAS (ACK ALL). Estas
alarmas se caracterizan por tener el texto
de descripción y la figura de campana en
color rojo (lado izquierdo).
Las alarmas que fueron eliminadas y
reconocidas; tendrán una campana de color
verde (lado izquierdo).
Y las alarmas que aún están presentes
(activas) pero que fueron reconocidas;
tendrán una campana de color rojo y una Pantalla de Resúmen de Alarmas (Activas) del Sistema MF
marca de aprobación de color verde (lado
izquierdo).
Puntos de Ajuste (Setpoints) y Rangos de Operación:
Es recomendable que siempre antes de arrancar cualquier sistema, o con cierta frecuencia cuando
el sistema ya está arrancado, se verifiquen los rangos de operación de instrumentos y los puntos
de ajuste (Setpoints) de operación, con el fin de asegurar un arranque, o una operación suave y
constante del equipo.
El que un sistema se encuentre en operación, NO quiere decir que se encuentre en óptimas
condiciones, o DENTRO de los límites de diseño.
Dentro del Manual de Operación y Mantenimiento, existe una tabla con todos los Rangos de
Instrumentos y Puntos de Ajuste del sistema recomendados por el fabricante; sería conveniente
que dicha tabla fuera impresa y plastificada para tenerla cerca del HMI como documento de
consulta y verificación.
Los únicos valores que aceptará el programa son aquellos que se encuentran dentro de los rangos
del punto de ajuste de fábrica. Si el operador ingresa un punto de ajuste fuera del rango
aceptable, aparecerá un aviso de "Este valor está fuera de rango".
Al oprimir el botón de
MF Rack Alarm 2 se
despliega la siguiente
pantalla:
Pantalla de Alarmas1 del Rack MF#1

Las pantallas de Alarmas 1, 2 y 3 del Bastidor (Rack) permitirán al operador definir y observar los límites de
Alarma (Alta-Alta [HH], Alta [H], Baja [L], y Baja-Baja [LL]); los tiempos de retardo (para la activación de la
Alarma); el estado en el que se encuentra (Activa/No activa) y la lectura actual (bajo la columna de Value)
de todos los Instrumentos que conforman el sistema de Micro-Filtración por Membranas.
Al oprimir el botón de
MF Rack Alarm 3 se
despliega la siguiente
pantalla:


La pantalla de Puntos de Ajuste de Planta (Plant Settings) permitirá al operador definir los límites de Alarma
(Baja-Baja [LL], Baja [L], Alta [H] y Alta-Alta [HH]); los Rangos Análogos (4.0 a 20.0 mA) y su Escala
(Sistema: Métrico/Inglés) y podrá observar la lectura actual (rectángulo amarillo) de todos los Instrumentos
que conforman el sistema de Micro-Filtración por Membranas.
Parámetros de Operación del Sistema de Membranas MF:
• Diseño del Sistema (Fabricante):

Volúmen de Micro-Filtrado Neto (Contenedor): 4,800 m3 (1.27 MGD)
Flujo Máximo de Diseño (por Bastidor): 121.3 m3/hr (534.0 gpm) por rack
Flux = 47.6 gfd
• Parámetros de Proceso (Manual O&M):
Flujo Máximo por Módulo de MF: 3.8 m3/hr (16.7 gpm)
Flujo Mínimo por Módulo de MF: 1.0 m3/hr (4.4 gpm)
Factor de Flujo: 1.10
• Especificaciones del Equipo (Manual O&M):
Número de Módulos de MF por Rack: 30 Módulos MF
Número de Racks por Contenedor: 2 Racks
Área de Membrana de MF (Módulo): 50.0 m2 (538.2 ft2)
Parámetros de Operación del Sistema de Membranas MF:
• Operación del Sistema con Parámetros de Proceso (Cálculos):
Flujo Máximo por Contenedor (3.8m3/hr*30Módulos*2Rack): 228.0 m3/hr (1,002.0 gpm)
Flujo Mínimo por Contenedor (1.0m3/hr*30Módulos*2Rack): 60.0 m3/hr (264.0 gpm)
• Operación del Sistema con Parámetros Reales (Cálculos):
Flujo Sugerido por Fabricante (Contenedor): 200.0 m3/hr (880.6 gpm)
Flujo Máximo de Operación (Contenedor) por Factor de Flujo: 220.0 m3/hr (968.6 gpm)
Flujo Promedio (Sugerido) por Módulo de MF (200m3/hr/30Módulos/2Rack): 3.33 m3/hr (14.66 gpm)
Flujo Máximo por Módulo de MF (220m3/hr/30Módulos/2Rack): 3.66 m3/hr (16.11 gpm), Entonces:
Flux Instantáneo Promedio Sugerido (Módulo) (3.33m3/hr*[1,000Lt/m3]/50m2) = 66.6 LMH (39.22 gfd)
Flux Instantáneo Máximo (Módulo) (3.66m3/hr*[1,000Lt/m3]/50m2) = 73.2 LMH (43.10 gfd)
Volúmen Promedio de Micro-Filtrado Neto (Contenedor) (200m3/hr*[24hr/d]): 4,800 m3 (1.27 MGD)
Volúmen Máximo de Micro-Filtrado Neto (Contenedor) (220m3/hr*[24hr/d]): 5,280 m3 (1.39 MGD)
*Nota: Los volúmenes anteriores, no consideran pérdidas por Limpieza en Retro-Lavados/EFM/CIP.
Parámetros de Operación del
Sistema de Membranas MF:
• Operación del Sistema (Manual O&M):
Presión de Entrada Mínima: 34.4 Kpa, o 344.7 mBar (5.0 psi)
Presión de Entrada Máxima: 241.3 Kpa, o 2,413.2 mBar (35.0 psi)
Temperatura de Operación: 5.0 a 40.0 °C (40.0 a 104.0 °F)
Cryptosporidium-Parvum
• Calidad de Filtrado Típica:
Turbidez Típica: < 0.02 NTU
Turbidez Máxima: < 0.1 NTU
SDI Típico: < 2.5
SDI Máximo: < 3
Nota: Microorganismos como Cryptosporidium-Parvum y quistes
de Giardia-Lamblia se eliminan en más del 99.9%.
Giardia-Lamblia
Pre-tratamiento del Sistema de Membranas MF:
La solución filtrada, a la que se denomina Solución Barren y que contiene menos de 0.02 ppm
de Oro (Au) y Plata (Ag), se recibe en un tanque y luego se bombea al terreno de Lixiviación
para el riego de las pilas.
El clarificado de esta Solución Barren se bombea hacia las plantas de Micro-Filtración y se
asume que ya no contiene los metales producidos por la minería, por lo que, en adelante
denominaremos al agua de alimentación como agua cruda.
Antes de ingresar a los sistemas de tratamiento por medio de membranas de Micro-Filtración; el
agua cruda pasa a través de filtros auto-limpiantes de la marca AMIAD.
ESPECIFICACIONES GENERALES:
Filtro: AMIAD-6000
Flujo Máximo: 400.0 m3/hr
Presión Máxima: 10.0 Bar
Presión Mínima: 2.0 Bar
Área de Filtrado: 6,000.0 cm2
Temperatura Máxima: 80°C
Malla: 50 Mesh - 300 µm
El agua entra a la cámara de filtrado y pasa a través (dentro/fuera) de las mallas de filtrado, las
cuales retienen las partículas mayores a 300 µm en la parte interior formando una torta de lodos.
El filtro auto-limpiante cuenta con dos (2) transmisores de presión (Entrada/Salida) o con un
interruptor (switch) de presión (dependiendo de la versión) y cuando la acumulación de sólidos
genera una diferencial de presión, se activa el proceso de auto-limpieza.
Estructura de Soporte Mallas de Protección

En el proceso de auto-limpieza se abre la válvula de desfogue, que también por presión diferencial
genera succión, la cual desprende las partículas contaminantes de la malla interior enviándolas
hacia fuera del filtro.
Al mismo tiempo que se abre la válvula de desfogue, se arranca el motor del extremo, el cual,
además de hacer girar las boquillas, las desplaza de forma longitudinal, haciendo un barrido de
toda la malla interior de forma helicoidal.
Se recomienda que el proceso de auto-limpieza se active en 0.35Bar (5psi); pudiendo tener un
punto de ajuste de hasta 2.0Bar (30psi).
Agua Filtrada
Salida de Retrolavado
Boquilla de Limpieza
Pre-tratamiento del Sistema de Membranas (Amiad-Video):
AMIAD-SAF son filtros de auto-limpieza automáticos por medio de un mecanismo eléctrico, para flujos desde 10 hasta
400 m3/hr (50 a 1,700 gpm). Los filtro SAF están disponibles con diámetros de entrada/salida de 2 a 10” y un rango
de filtración desde 800 hasta 10 micras (que es la más fina). La carcaza del filtro contiene en su interior dos cribas;
una gruesa de metal perforado para capturar material particulado grande y una fina de múltiples capas para capturar
partículas poco mas grandes que el rango de la malla del filtro, el agua cruda ingresa al filtro por la tubería de
entrada hacia la criba gruesa (de afuera hacia dentro) luego pasa a la criba fina (de adentro hacia fuera) las
partículas se acumulan en la superficie interna de la malla fina formando una capa de lodos, mientras que el agua
filtrada fluye hacia fuera del filtro por la tubería de salida, la capa de lodos genera una presión diferencial a través
de la malla y a una presión pre-establecida en el interruptor de presión diferencial, se envía una señal que inicia el
ciclo de autolimpieza, el sistema de control abre la válvula de purga y arranca el motor que desplaza el sistema de
barrido en espiral al alejarse del interruptor de carrera interno, el sistema de barrido realiza la limpieza en el lado
interno de la malla fina, la diferencia de presión entre el agua dentro del filtro y la válvula de purga abierta genera
una fuerte fuerza de succión en la punta de las boquillas de limpieza, esta fuerza de succión crea un flujo inverso a
través de la sección de la malla expuesta a cada boquilla de limpieza desenlodando la capa de filtrado dirigiendo los
lodos a través del sistema de barrido hacia la válvula de purga. Una vez que el filtro ha sido limpiado, el interruptor
de presión diferencial regresa a la zona verde. El sistema de barrido se detiene al activar el interruptor de carrera
externo y la válvula de purga se cierra. Durante el ciclo de limpieza de 30 segundos el flujo de agua filtrada no se
interrumpe y una vez que se termina el ciclo de limpieza el filtro reanuda el modo de filtración. Para aplicaciones de
10 a 25 micras, el filtro SAF puede ser provisto con boquillas con resorte para una mayor fuerza de limpieza. Los
filtros SAF proveen soluciones de filtración de amplio rango hasta 400 m3/hr o 1760 gpm en aplicaciones de
suministro de agua, riego, sistemas de enfriamiento, plantas de tratamiento de agua, industria manufacturera,
minería, pre-filtrado y muchas otras aplicaciones municipales, industriales y agrícolas. La fabricación de los filtros
SAF es robusta y confiable, son adecuados para condiciones de operación marginales como aplicaciones de descarga
continua. Para mayor información contacte a AMIAD en su sitio web en amiad.com.
https://www.youtube.com/watch?v=STFVqE7ZUD8
Arranque del Sistema de Micro-Filtración:
* Cuando se energiza el Sistema o cuando se
presiona el botón digital de Control Principal
MF (MF CONT MAIN) aparece esta pantalla.
* En la esquina superior izquierda se
despliega la Fecha, Hora y el Usuario
(registrado) que está operando el equipo.
* En la línea de información (superior) se
muestra el Título de la Pantalla desplegada.
* El botón de: Ajustes (SETUP) abre una
ventana de navegación, que permite el
acceso a todas las pantallas de control del
sistema, para visualizar/editar parámetros
de operación (setpoints).
* El botón de Datos (DATA) permite
seleccionar dichas pantallas con sus
parámetros correspondientes.
* El botón de Tendencias (TRENDS) abre una
pantalla con varias opciones de medición de
instrumentos y sus tendencias. La pantalla principal - Vista General del P&ID del Sistema MF
* Los botones de Bastidor 1 y 2 (Rack 1 y 2): Permiten el
acceso al diagrama de tuberías e instrumentos específico.
2 Para navegar en cualquier pantalla del sistema

de control del equipo de Micro-Filtración y
tener acceso a los parámetros de operación
para visualizarlos y/o realizar cambios a las
condiciones de operación de la planta; lo
primero que se debe hacer es registrarse como
usuario (Login).
La ruta a seguir es:

1) Oprimir el botón digital de Ajustes (SETUP)
y luego,
1 2) Oprimir el botón digital de Registro de
Usuario (USER LOGIN) eso desplegará la
siguiente pantalla:
Pantalla de Ajustes y Navegación del Sistema Operativo MF.

Los botones de Registro (Login) y Salida

(Logout) permiten el acceso y/o bloqueo del
software de control del sistema.
3
Existen cuatro (4) niveles de seguridad: 4
Nivel1: Operador 1111
Nivel2: Mantenimiento 3333
Nivel3: Supervisor 5555 y
Nivel4: Fabricante (Administrador)
Solo los niveles 3 y 4 podrán hacer cambios en
los parámetros de operación.
3) Colocar la clave de acceso (dependiendo el

nivel de seguridad).
4) Presionar el botón de Registro (Login).
Pantalla de Registro Entrada/Salida al Sistema de Control.
Arreglo de Tuberías de Entrada y Salida (Alimentación y Permeado) del sistema MF contenido
Antes de arrancar eléctricamente el equipo; verificar que todas las válvulas manuales de alimentación y
salida del Sistema de Micro-Filtración se encuentren en posición abierta.
Nuevamente, desde la pantalla de Ajustes
(SETUP) seleccionar el botón de Modo de
operación del Equipo (EQUIPMENT MODE).
El sistema de Micro-Filtración cuenta con tres
(3) modos de operación: 5
AUTOMÁTICO: Es la forma preferente de

operar el sistema. Después de que el operador
selecciona los procesos/rutinas, estos se
realizan de forma automática.
MANUAL: El operador asume total
responsabilidad, ya que, tiene el control
completo de bombas, válvulas con actuador y
ajuste de velocidad de motores, es
inherentemente arriesgado, solo operadores
entrenados deberían usar este método de
operación debido a que se sobrepone a
cualquier función automática.
DESHABILITADO: La planta no responderá a Pantalla de Ajustes y Navegación del Sistema Operativo.
ningún tipo de control. Es una condición
segura para dar mantenimiento al equipo.
Esta pantalla le permite al operador seleccionar y
verificar el Modo (Auto, Manual, Deshabilitado) en
el que se encuentran los Racks MF#1 y MF#2, el
Sistema CIP, el Soplador de Aire, las Válvulas de
Turbidez (Alimentación y Filtrado), la Bomba de
Retro-Lavado (RF) y la Bomba de Desechos (AE).
6) Seleccionar el botón de Automático (Auto)
para los Racks: MF#1 y MF#2 (En la imagen ya
están seleccionados).
7) Seleccionar el botón de Automático (Auto)
para: Sistema CIP.
8) Soplador de Aire.
9) Válvulas de Turbidez de Alimentación y
Filtrado.
10) Bomba de Retro-Lavado (RF-Reverse
Filtration).
11) Bomba Sumergible de Desechos
Pantalla de Modo de Operación del Equipo (Condensados y Venteos)
Una vez que todo el sistema de control se encuentre en Modo Automático (AUTO); el operador debe regresar a
la pantalla de Ajustes (SETUP).
Dependiendo del Nivel de Seguridad con el que se hizo el Registro (Login) se podrá acceder a una, o otra pantalla
de puntos de Ajuste (Setpoints) de Proceso:
Pantalla de Puntos de Ajuste (Setpoints) de Pantalla de Puntos de Ajuste (Setpoints) de

Proceso del Sistema MF (Operador) Proceso del Rack MF (Ingeniería)
12) En cualquiera de los casos (ya sea Operador, o Ingeniería) deberá colocarse el Sistema de Micro-Filtración en
Control de Flujo.
Para verificar la operación del Rack#1 (o Rack#2) oprimir el botón correspondiente.
Pantalla de Proceso Rack #1:
Pantalla de Proceso Rack #1: En esta pantalla

se muestran todas las tuberías, válvulas,
equipos e instrumentos que integran al Rack#1.
También se puede observar el modo
(Automático/ Manual/ Deshabilitado) y el
Proceso/Secuencia/Paso en la que se encuentra
el Rack#1 (Producción/ ASRF/ EFM/ CIP/
Apagado/ etc.)
Pantalla de Modo de Operación del Equipo

* Cuando se energiza el Sistema o cuando se
presiona el botón digital Principal (Main)
aparece esta pantalla.
* El botón digital con flecha curvada, en la
esquina superior izquierda permite regresar
a la pantalla previa.
* La línea azul en la sección superior, siempre
muestra el ultimo mensaje/condición de
operación.
* Los botones de: Ajustes del Sistema
(System Settings), Ajustes de Planta (Plant
Settings) y Ajustes de Proceso (Process
Settings) permiten la selección de diferentes
pantallas con parámetros de operación.
* Los botones de Recetas (Recipes) y Lazo de
Control (PID) permiten seleccionar dichas
pantallas con sus parámetros
correspondientes.
La pantalla principal ofrece una visión general del Sistema MF y
* El botón de Curvas (Curves) abre una permite el acceso a funciones básicas y puntos de ajuste
pantalla con varias opciones de medición de (setpoints) de operación.
instrumentos y sus tendencias.
Pantalla Principal o Vista General del Sistema: Esta pantalla es el punto de inicio para navegar en el software
operativo del sistema; una vez que el operador se ha dado de alta (Login) tiene la habilidad de abrir ventanas
u otras pantallas que ofrecen las opciones de arranque del sistema, visualización y edición de parámetros de
operación y el control de otras funciones.
1) Seleccionar el botón de Bastidor (Rack) o el ícono del secuenciador (Seq03)
Pantalla de Proceso Rack #1:
Pantalla de Proceso Rack #1: En esta pantalla se muestran todas las válvulas con su estado de posición
(Abierta/Cerrada/Transcición/Falla), lecturas de instrumentos análogos y el modo en el que se encuentra el
Rack (Automático/Manual/Deshabilitado/Producción/ASRF/EFM/CIP/Shutdown/Falla/etc.)
4) Oprima el botón de Secuenciador del Rack1 (Sequencer Rack1)

Esto desplegará la Ventana de Control del Rack 1
NOTA: Los pasos (2) y (3) se refieren al Registro de usuario (Login) y Modo de Operación (Auto)
5) Con la flecha de menú, desplegar el

listado de Secuencias de Operación.
6) Seleccionar la secuencian de:
Producción
7) Oprimir el botón de Reestablecer
(Reset)
8) Oprimir el botón de Arranque (Start)
Realizar la misma secuencia de pasos

anteriores para el arranque del Rack 2.
El sistema de Micro-Filtración se
encuentra ahora en operación
automática y si nada externo
(operador) o interno (alarma crítica)
lo detiene, seguirá operando de forma Ventana de Control del Rack1
autónoma.
Monitoreo de la Operación del Sistema de Micro-Filtración:
MONITOREO DE LA OPERACIÓN:
Una vez que todos los equipos se colocaron
en posición Automática, el sistema de
tratamiento de agua por medio de
membranas de MF operará de forma
autónoma siguiendo las secuencias/pasos
programados en el PLC y cuando se requiera
la intervención del operador, enviará avisos
de texto, o activará alguna señal de alarma.
Para monitorear el proceso, puede
accederse a la pantalla de Tendencias
(TRENDS) para obtener información de:
Flujos, TMP, Calidad de Entrada y Salida y
Tiempos de Carrera; o puede accederse a la
pantalla de Gráficos (GRAPHICS) donde se
encuentra el Diagrama de Tuberías e
Instrumentación (P&ID) general; para
observar varios parámetros de proceso a la
Pantalla de Tendencias y Lazos de Control (PID) del Sistema de MF. vez.
INTRODUCCIÓN DE DATOS EN LOS CAMPOS DE PARÁMETROS:

En algunas ventanas, se necesita ingresar información en los campos de datos. Para hacerlo, se selecciona el
campo tocándo el recuadro (en la pantalla táctil), entonces aparecerá un teclado numérico; donde se puede
introducir la información deseada (presionando sobre cada tecla) y por último, presionar el botón de Entrada
(Enter) cuando haya terminado.
El usuario puede visualizar y cambiar los valores de puntos de ajuste (setpoints) actuales (únicamente aquellos
dentro de los rectángulos blancos). Los valores que tienen que ver con equipo opcional, o no instalado; tendrán
un sombreado “gris” sin acceso para modificación.
OBSERVACIÓN DEL PROCESO Cerrada Detenida
UTILIZANDO LA PANTALLA DE
GRÁFICOS (P&ID):
En cualquier pantalla de Gráficos del
Sistema, el operador podrá observar la
posición de válvulas, el estado de las
bombas, los niveles de tanques y el flujo de
fluidos. El color VERDE indica que las
válvulas están abiertas y las bombas en
operación. Mientras que el color ROJO indica
que las válvulas están cerradas y las bombas
fuera de operación.
El parpadeo AMARILLO / ROJO indica una
condición de alarma presente.
(NOTA: Puede seleccionarse el color ROJO Pantalla de Modo de Operación del Equipo
para operación/apertura, pero el estándar es
ROJO para detenida/cerrada). Abierta Operación
Operación de la Unidad de Micro-Filtración (MF):
Válvula Reguladora de Presión a la Entrada (Alimentación) del sistema de MF contenido
Una vez arrancado el sistema de Micro-Filtración eléctricamente; verificar y controlar la presión

de la tubería de alimentación; la cual debe estar siempre por debajo de 3.0 Barg. (Rango de 2.2 a
2.7 Barg [31.9 a 39.2 PSI]).
La Secuencia de Producción de Filtrado (FF) está totalmente controlada por el PLC, por lo que, la Unidad de
Micro-Filtración seguirá ordenadamente las Rutinas/Pasos que se describen a continuación: Iniciará con la
rutina de Espera (201-Stand-By) que sirve para verificar que se cumplan todas las condiciones de arranque del
Sistema MF; posteriormente, el sistema de control ejecuta la rutina de Llenado del Bastidor (202-Rack-Fill) y
por ultimo, se ejecutará la rutina de Producción de Filtrado (203-Forward Flow). Después de un tiempo de
operación o cierto volúmen de producción, se ejecutarán las rutinas de Restregado con Aire en Retro-Lavado
(205- ASRF), Retro-Lavado (206-RF) y/o Enjuague con agua de Alimentación (207-Feed Flush).
Durante la descripción de la operación; a las válvulas y equipos que forman parte del sistema de Micro-
Filtración, se les definirá con una letra “X” en las etiquetas de identificación (TAGs) y será “1” para el
Bastidor (Rack) MF#1, y “2” para el Bastidor (Rack) MF#2.
** Letras de Identificación (Comunes):
AV- (Automatic Valve) – Válvula Automática
FCV- Flow Control Valve – Válvula de Control de Flujo
FMV- Flow Modulating Valve – Válvula Moduladora de Flujo
AB- Air Blower – Soplador de Aire
PU- Pump - Bomba
FIT- Flow Indicator Transmitter – Transmisor de Flujo (Lectura Local)
PIT- Pessure Indicator Transmitter – Transmisor de Presión (Lectura Local)
FF- Forward Flow – Producción de Filtrado (Flujo hacia Adelante)
XR- Excess Recirculation – Recirculación de Excedente
AS- Air Scrub – Restregado con Aire
RF- Reverse Filtration – Retro-Lavado
FL- Feed Flush – Enjuague con Agua de Alimentación
Desde la pantalla de Ajustes (SETUP) ubicar y
seleccionar el botón de Parámetros de Proceso
(PROCESS SETPOINTS) localizado bajo la columna de
(RACKS).
En la Pantalla de Puntos de Ajuste de Proceso para el
Rack MF, se podrán ingresar los valores para:
Llenado del Rack:
Posición de la Válvula de Alimentación (45%)
Tiempo de Llenado (Inferior) (10 Seg)
Mantenimiento de Flux:
Intervalo de Volúmen para FM (9.0 Kgal)
Tiempo del Intervalo FM (30 min.)
Retro-Lavado de (Pre-Filtro) Strainer:
Intervalo para Retro-Lavado (1,440.0 min.)
Disparador de Presión Diferencial (7.0 PSID)
Producción de Filtrado:
Flujo del sistema de MF (Control de Flujo) 1,000 GPM*.
Posición de Válvula de XR (15%*)
Pantalla de Puntos de Ajuste (setpoints) de Proceso para Control del Sistema MF: Flujo / Nivel
el Rack MF
PROCESO DE ESPERA - (201-Stand By):

Esta rutina espera a que se cumplan las condiciones iniciales para arrancar en Modo de Filtración:
• Por lo menos un Rack se encuentra en Automático
• El Sistema RF (Retro-Lavado) se encuentra en Automático
• Las bombas de alimentación están disponibles.
• La señal de disponibilidad de agua se encuentra activa (por parte del Cliente).
Durante este paso, la válvula de venteo de Permeado del Rack (AV0X19) está abierta.
Cuando todas las condiciones se cumplen, el Sistema MF procede a la rutina de Llenado (Fill). Sin
embargo, existe un temporizador (Watchdog) de cuenta regresiva en esta rutina, que detendrá la
secuencia si se excede el tiempo esablecido después de haber iniciado el Paso201.
Paso 201 - Espera (Stand-By):
Esta rutina espera a que se cumplan las condiciones iniciales para arrancar en Modo de Filtración:
• Por lo menos un Rack se encuentra en Automático
• El Sistema RF (Retro-Lavado) se encuentra en Automático
• Las bombas de alimentación están disponibles.
• La señal de disponibilidad de agua se encuentra activa (por parte del Cliente).
• El botón de arranque (START) fue presionado por el operador, si es que el sistema se encontraba
detenido (STOPPED) y no en pausa (PAUSED).
Durante este paso, la válvula de venteo de Permeado del Rack (AV0X19) está abierta.
Cuando todas las condiciones se cumplen, el Sistema MF procede a la rutina de Llenado (Fill). Sin
embargo, existe un temporizador (Watchdog) de cuenta regresiva en esta rutina, que detendrá la
secuencia si se excede el tiempo esablecido después de haber iniciado el Paso201.
PROCESO DE LLENADO - (202- Rack Fill):
Esta rutina se utiliza para purgar el aire dentro del sistema de MF (Tubería y Módulos MF) durante
el arranque y después de una Prueba de Integridad (IT). El sistema de MF se llena por medio de las
tuberías de alimentación hacia los Módulos de Membranas y sólo se puede purgar un bastidor
(Rack) a la vez para limitar algún posible impacto hidráulico.
Abre: Válvula de BW Dren Superior (AV0X06), Válvula de Control de Flujo de Alimentación
(FMV0X01) en la posición pre-establecida de llenado FMV-POSITION (60%)
Inicia: Temporizador del Paso202 (LOWER FILL TIME)
Cierra: Válvula de venteo del Filtrado del Rack (AV0X19)
Transición: Cuando el transmisor de flujo de permeado FIT0X01 presenta una lectura constante
por encima del setpoint de Flujo Mínimo del Rack (RACK MINIMUM FLOW) durante 10 segundos.
Inicia: Temporizador Auxiliar (~10 segundos)
Transición: Expira Temporizador Auxiliar (Lectura de Flujo Constante: Si-Continua, No-Alarma)
Abre: Válvula de Filtrado (AV0X03), Válvula XR Recirculación de Excedente (FMV0X21-0.0%*)
Cierra: Válvula de BW Dren Superior (AV0X06)
Transición: Expira Temporizador del Paso202
Si el Bastidor-X (Rack-X) se Alarma durante el Paso202 típicamente indica, que el punto de ajuste
(setpoint) de posición de la válvula de control FMV POSITION tiene un valor en porcentaje (%)
muy bajo.
Una vez que expira el tiempo del Paso202, la secuencia Avanza a Producción de Filtrado (FF) para
el Rack que ha sido Llenado (Fill). Si existe otro Rack que requira ser llenado entonces iniciará el
Paso202 para ese Rack y esta secuencia se repite hasta que todos los Racks se encuentren en el
Modo de Producción de Filtrado.
Ubicación Válvulas e Instrumentos en Plano P&ID:

AV0X06 - Válvula de BW Dren Superior
FMV0X01 - Válvula/Control Flujo de Alimentación
FIT0X01 - Transmisor de Flujo de Permeado
AV0X03 - Válvula de Filtrado
FMV0X21 - Válvula XR Recirculación de Excedente
Paso 202 - Llenado (Fill):
Esta rutina se utiliza para purgar el aire dentro del sistema de MF (Tubería y Módulos MF) durante
el arranque y después de una Prueba de Integridad (IT). El sistema MF se llena por medio de las
tuberías de alimentación hacia los Módulos de Membranas y sólo se puede purgar un bastidor
(Rack) a la vez para limitar algún posible impacto hidráulico.
Abre: Válvula de BW Dren Superior (AV0X06), Válvula de Control de Flujo de Alimentación
(FCV0X01) en la posición pre-establecida de llenado FCVFill (60%)
Cierra: Válvula de venteo del Filtrado del Rack (AV0X19)
Transición: El llenado continua hasta que la medición de presión de alimentación al Rack
(PT0X02) sea mayor que el punto de ajuste (Setpoint) de FillPress (200 mBar).
Inicia: Temporizador Auxiliar (~5 segundos)
Transición: Expira el tiempo del Temporizador Auxiliar
Inicia: Temporizador de Paso202
Abre: Válvula de Filtrado (AV0X03), Válvula XR Recirculación de Excedente (AV0X21: 0%*).
Transición: Expira el tiempo del Temporizador de Paso202
Una vez que expira el tiempo del Paso202, la secuencia Avanza a Producción de Filtrado para el
Rack que ha sido Llenado. Si existe otro Rack que requira ser llenado entonces iniciará el Paso202
para ese Rack y esta secuencia se repite hasta que todos los Racks se encuentren en el Modo de
Producción de Filtrado.
Para tener acceso al Controlador (PID) de
Flujo de Permeado del Bastidor-X (Rack-X) se
debe oprimir el botón de Tendencias (TRENDS)
del menú inferior, y luego, seleccionar el
botón de PID de Válvula Moduladora de Flujo
(FMV FLOW PID) bajo las colimnas de Rack1 o
Rack2. La pantalla despliega los valores para:
el Punto de Ajuste (SP), Variable de Proceso
(PV) y Variable de Control (CV); también los
valores de Proporcional, Integral y Derivada
(Ganancia, Tiempo y Velocidad) que utiliza el
PLC en algoritmos complejos para controlar
un equipo a través de una señal análoga, estos
valores podrían editarse (ajuste fino) para que
el lazo de control entre el transmisor de flujo
de permeado y la válvula moduladora de
alimentación; responda más rápido (o más
lento p.e.)
El botón de conmutador de Modo (TOGGLE
MODE) sirve para cambiar el PID de control Lazo de Control de Flujo PID (Proporcional, Integral, Derivada) del
Automático a Manual y visceversa. Rack MF #1.
Cuando el PID se coloca en manual, le permite
al operador visualizar en la gráfica la reacción
del lazo de control, trás realizar cambios en
las variables de: Proporcional e Integral
(Regularmente la Derivada se mantiene en
0.000).
En la gráfica; el punto de ajuste (SP) se
observará como una constante (línea
horizontal), la Variable de Proceso (PV-es la
señal análoga de entrada) en este caso, la
lectura del transmisor de flujo de permeado y
la Variable de Control (CV-es la señal análoga
de salida) en este caso, el regulador de
posición de la válvula de alimentación.
En un PID bien ajustado, la PV tendrá curvas
suaves y muy cercanas al punto de ajuste
(SP); mientras que en un PID mal ajustado, la
PV tendrá cambios drásticos en la curva.
(Diente de Sierra).
NOTA: Las pantallas PID y los ajustes asociados están Lazo de Control de Flujo PID (Proporcional, Integral, Derivada) del
diseñados principalmente para que los utilice el soporte Rack MF #1.
técnico de Pall Corporation.
Después de completar el proceso de Llenado (Fill), el sistema inicia automáticamente el proceso de
Producción de Filtrado (Flujo hacia Adelante-FF). Durante la Producción de Filtrado un lazo de control (PID)
controla el flujo a través del bastidor (Rack) variando la posición de la válvula de Alimentación FMV0X01. La
Válvula de Filtrado (AV0X03) permanecerá abierta durante el Proceso de Producción de Filtrado. Si el XR está
habilitado la válvula FMV0X21 de Recirculación de Excedente abrirá en la posición XR FMV POSITION. Pero, si
el XR no está habilitado, la válvula FMV0X21 permanecerá cerrada.
PAUSA
Mientras el sistema de Filtración por Membranas se encuentra en operación automática, puede quedar en
PAUSA momentánea. Lo que significa que las válvulas con actuador se cerrarán. El sistema de tratamiento de
agua móvil de Pall-Aria™ arrancará de nuevo de forma automática si la condición de PAUSA es eliminada.
NOTA: La rutina del Proceso de Mantenimiento de Flux (FM) no podrá realizarse cuando el sistema se
encuentra en PAUSA.
Los siguientes eventos podrían colocar un Bastidor (Rack) en Pausa:
• Nivel del Tanque de Agua Filtrada (Si está instalado) sube más allá del punto de ajuste (setpoint) de
Nivel de Pausa del Sistema MF (MF SYSTEM PAUSE LEVEL).
• Pérdida “Normal” de potencia (AC)
• Nivel del Tanque de Alimentación (Si está instalado) baja más allá del punto de ajuste (setpoint) de
Nivel de Pausa del Sistema MF (MF SYSTEM PAUSE LEVEL).
PROCESO DE PRODUCCIÓN DE FILTRADO – (203-Forward Flow):
Esta rutina se utiliza para producir agua Micro-Filtrada y enviarla al tanque de almacenamiento por
la tubería de salida. Cuando los bastidores (Racks) entran en este paso, se reestablecen o activan
una serie de contadores/temporizadores que iniciarán las subsecuentes secuencias de limpieza, los
cuales son:
• Reestablecimiento e Inicio del Contador de Volumen de Alimentación (FIT0X01).
• Reestablecimiento e Inicio del Temporizador ASRF del bastidor (Rack).
• Reestablecimiento del Temporizador EFM del bastidor (Rack).
Algunos valores desplegados en pantalla HMI, son calculados y registrados por el PLC para cada
bastidor (Rack) que se encuentre en el Modo de Filtración, como:
• Presión Trans-Membrana (TMP): Se calcula, despliega y registra después de 1 minuto de haber
iniciado la Producción de Filtrado:
TMP = Presión de Entrada – Compensación de TMP (100.0mBar [1.46psi]) – Presión de Salida
TMP = PT0X01 – TMPOffset - PT0X02
• Permeabilidad a Temperatura Actual: Se calcula, despliega y registra después de 1 minuto de
haber iniciado la Producción de Filtrado:
Flujo de Alimentación al Bastidor (Rack)
Permeabilidad Actual = ----------------------------------------------------
(1 + Recirculación de Excedente) * TMP
FIT-0X01
Permeabilidad Actual = ---------------------
(1 + XR) * TMP
• Permeabilidad corregida a 20°C: Se calcula, despliega y registra después de 1 minuto de

haber iniciado la Producción de Filtrado:
Permeabilidad @ 20°C = Permeabilidad Actual * Factor Corrección Temperatura (TCF)
Factor Corrección Temperatura (TCF) = 0.0004558 x(TT0X01)x 2 - 0.0401 x(TT0X01)+ 1.62

El Sistema de Micro-Filtración inicia con Control de Presión, para luego cambiar automáticamente a
Control de Flujo, lo cual depende del número de Racks en Modo de Producción de Filtrado.
Control de Flujo del Bastidor (Rack): Cada bastidor (Rack) cuenta con válvulas moduladoras para
asegurar que el flujo no exceda los valores máximos, o para que el flujo en cada bastidor (Rack) sea
similar. De las modalidades anteriores, sólo puede activarse una forma de Control de Flujo a la vez.
Límite de Flujo: Este control simplemente evita que el bastidor (Rack) exceda significativamente el
flujo de diseño. Cuando el bastidor (Rack) se encuentra en Modo de Producción de Filtrado
(Paso203) la válvula moduladora de entrada controla el flujo de alimentación al máximo permitido.
Distribución Equitativa de Flujo: Alternativamente, es mejor distribuir el flujo equitativamente
entre los bastidores (Racks) que se encuentran en línea. Pero, en este caso, el punto de ajuste
(Setpoint) se calcula de forma diferente:
Setpoint de Alimentación a Planta
Setpoint de Alimentación a Rack = ------------------------------------------- x FF
# Racks en Producción de Filtrado
El Factor de Flujo cuyo valor típico es FF= 1.1, se utiliza para asegurar que el Control de Flujo de
Planta no se sobreponga al Control de Flujo del Bastidor (Rack). Esta modalidad es útil para el
Control de Presión.
Adicionalmente a lo anterior, se activará el Lazo de Control de:
• Nivel de Tanque RF.
El Paso 203 permanece activo hasta que se cumpla una de las siguientes condiciones:
1. La señal de disponibilidad de agua ya no está activa (por parte del Cliente).
2. El operador ha detenido el bastidor (Rack). Cada bastidor (Rack) puede detenerse
individualmente para parar la planta completamente.
3. El Secuenciador Automático (solicita un ASRF p.e.)
En la condición #1; cualquier Bastidor (Rack) del Sistema de MF entra en PAUSA y en la condición
#2; el bastidor (Rack) requerido es DETENIDO después de recibir el permisivo de paro. La
diferencia entre las dos condiciones es que: en PAUSA el Sistema de MF se reinicia sin la
intervención del operador, mientras que en DETENIDO se require la intervención del operador.
Cuando el Sistema de MF entra en PAUSA o DETENIDO, ocurre lo siguiente:
DETENIDO:
Estrangula: Se estrangula la Válvula de Control de Flujo (FCV0X01) para reducir el caudal al punto
de ajuste (Setpoint) para un sólo Bastidor (Rack).
Transición: El Cliente reduce el flujo de alimentación y envía la señal permisiva para detener el
bastidor (Rack).
PAUSA:
Cierra: Válvula de Control de Flujo (FCV0X01) dependiendo del Rack requerido.
Abre: Válvula de Control de Flujo en el Bastidor (Rack) activo (regresa a Control de Flujo).
Cierra: Válvula de Filtrado del Rack (AV0X03), Válvula XR Recirculación de Excedente (AV0X21) y
Válvula de alimentación al Rack (FCV0X01).
Abre: Válvula de Venteo del Filtrado del Rack (AV0X19)
Inicia: Temporizador de Sistema en PAUSA y Temporizador de Sistema en DETENIDO.
Suspensión: Temporizadores de ASRF y EFM.
El Sistema reinicia (de Pausa) automáticamente, o necesita ser reiniciado (de Detenido) por el
operador desde el Paso 201 de Espera (Stand by).
Cuando la unidad de tratamiento de agua por medio de membranas de Micro-Filtración; se
encuentra en Modo de Producción de Filtrado, el agua de alimentación (a presión regulada)
pasa a través de los pre-filtros auto-limpiantes (Strainers STO0X01) los cuales, tienen una
malla de filtrado de 300 µm y deben ser retro-lavados periódicamente para evitar que se tapen
después de remover los contaminantes acumulados durante la filtración del agua cruda. Existen
dos (2) formas automáticas y una (1) manual para realizar esta limpieza:
(a) Presión Diferencial (ΔP): Cada strainer cuenta con transmisores de presión localizados a la
entrada y salida; las lecturas de presión se utilizan para determinar la caída de presión (DP)
a través del pre-filtro. Cuando el valor de (DP) se encuentra por encima del punto de ajuste
(setpoint) DIFFERENTIAL PRESSURE TRIGGER indicará que el strainer debe ser retro-
lavado. Adicionalmente,
(b) Temporizador (BACKWASH INTERVAL): Una vez que los pre-filtros automáticos cumplieron
con cierto tiempo de operación (definido por el usuario) pueden auto-limpiarse. Sin
embargo, existe la condición de que sólo un strainer puede retro-lavarse a la vez y no
ambos al mismo tiempo.
(c) Manual: El operador puede iniciar el retro-lavado del pre-filtro cuando el sistema se
encuentra en Modo de Producción de Filtrado, al presionar el botón digital de STRAINER
BACKWASH, en la pantalla de Control del Rack.
Durante el Retro-Lavado de los Pre-
Filtros de alimentación, la válvula
FMV0X01 se cierra a la posición de
FMV-POSITION (0%). Después de un
tiempo de retardo por aumento de
presión (punto de ajuste duro-
Hardcoded) AV9X01 se abre e inicia
el barrido del filtro. Cuando el brazo
de barrido alcanza el interruptor
(switch) de Límite de Carrera,
termina el barrido y la válvula
AV9X01 se cierra. La válvula
FMV0X01 se vuelve a abrir (en la
última posición) y el bastidor (Rack)
regresa a Producción de Filtrado
(FF).
Puntos de Ajuste (Setpoints) para Flux Maintenance (FM) y Prueba de Integridad (IT) en Rack de MF
En esta pantalla, además de los puntos de ajuste (setpoints) para Mantenimiento de Flux (FM) y Prueba de
Integridad (IT) se tienen también los de Retro-Lavado de Pre-Filtros (Strainers-SBW).
Intervalo de Retrolavado: 1,440 min. (23.0 Hrs.) Posición de la Válvula FMV0X01: 0.0 %
Disparador de Presión Diferencial: 7.0 PSID Número de Cíclos de SBW: 1.0
El agua pre-filtrada se descarga al colector (manifold) principal de alimentación de los módulos
de membrana de Micro-Filtración. Si el equipo se encuentra en Modo Automático, el flujo de
agua que pasa a través de la unidad de filtración se ajustará automáticamente para mantener
una velocidad de filtrado constante.
Pre-Filtro dentro del Contenedor de la planta de Micro-Filtración

Cada Módulo de Membranas de MF se alimenta con agua pre-
filtrada por la parte baja, esta agua, ingresa a la carcaza del
Módulo pasando por fuera de las fibras de Membrana de MF, las
fibras funcionan como una barrera y retienen las partículas y
sólidos contenidos en el agua, la baja presión de alimentación; es
suficiente para hacer pasar el agua a través de los poros de las
membranas hacia el interior de las fibras y el agua Micro-Filtrada
sale por la parte superior del Módulo de Membranas hacia el
colector (manifold) principal de permeado. Durante el ciclo de
producción, y a medida que el agua fluye a través de cada
módulo, los sólidos se irán acumulando gradualmente sobre la
superficie de las fibras aumentando su resistencia al paso del
agua; por lo que, después de cierto tiempo de operación (20-30
minutos) los sólidos acumulados deberán desecharse y a esta
mezcla de agua con sólidos se le conoce como rechazo.
Recirculación de Excedente (XR)
Generalmente, durante la operación normal de los equipos de
Micro-Filtración de Pall-Aria se recomienda que la válvula de
Recirculación de Excedente (XR) trabaje con una apertura del
11.0 %, aproximadamente 0.455 m3/hr/Módulo (2.0 gpm/Módulo)
a flujo de diseño.
El valor anterior podría incrementarse, dependiendo de la carga
de Sólidos Suspendidos Totales (TSS) enviado hacia las membranas.
El porcentaje de apertura XR requerido, podría ser aún mucho
mayor si se tiene alta dosificación de coagulante.
Aunque el manual de O&M hace mención que los puntos de ajuste
(setpoints) sugeridos, se tomen solo como “referencia”; el rango
para XR es de 0.0 a 0.2 (o sea 0.0% a 20%) pero, para esta
instalación en particular, se proporciona un valor de 0.0%; lo que
significa que no hay Recirculación de Excedentes y el bombeo es
tipo “Dead-End”.
Proceso de Micro-Filtración (Video-Producción):
Paso 1: El agua cruda llena el tanque de alimentación (En Yanacocha, Perú; Al tener un equipo
móvil, este tanque de alimentación no existe dentro del contenedor).
Paso 2: La bomba de alimentación succiona el agua del tanque de alimentación (En Yanacocha,
Perú; la bomba de alimentación se encuentra fuera del contenedor y la descarga se conecta a la
boquilla de entrada al sistema de MF)
Paso 3: El agua es bombeada a través de los pre-filtros (Strainers). (A partir de este punto,
existe similitud entre un equipo fijo y un equipo móvil)
Paso 4: El agua cruda entra a los Módulos de MF por la parte inferior y el flujo es forzado a
pasar a través de las fibras (de afuera hacia dentro) separando y dejando atrás sobre la
superficie externa de las membranas todos los contaminantes mayores a 0.1 µm.
Paso 5: El Filtrado se descarga en el colector (manifold) principal de permeado.
Paso 5A: No se menciona en los textos del video, pero existe una derivación de agua permeada
que mantiene el tanque de retro-lavado RF-TK9210 lleno.
Paso 6: El agua cruda de excesso fluye hacia el tanque de alimentación y el Filtrado se envía al
tanque de almacenamiento para alimentar el siguiente proceso (RO).
Proceso de Micro-Filtración (Producción):
https://www.youtube.com/watch?v=3W52yMK73zM
Los posibles eventos que hacen que un bastidor (Rack) salga del Modo de Producción de Filtrado son:
1. El Temporizador de Frecuencia Mínima de ASRF ha expirado y el Totalizador de Volumen de
Filtrado ha alcanzado el punto de ajuste (ASRFVol: 40-45 m3*).
2. El Temporizador de Tiempo Máximo de ASRF (MaxTimeASRF: 40 minutos) ha expirado.
3. El Temporizador de Tiempo Mínimo de ASRF (MinTimeASRF: 30minutos) ha expirado y la
Permeabilidad ha caído más allá del punto de ajuste (PermDropASRF: 15 LMH*Bar) desde el
inicio del Paso203.
4. El Operador solicita un ASRF por medio del Botón Digital en el HMI.
5. El Operador solicita Detener el bastidor (Rack) por medio del Botón Digital en el HMI.
6. La solución química esta lista para que el bastidor (Rack) realice un EFM, o un CIP.
7. El Operador solicita una Prueba de Integridad (IT) por medio del Botón Digital en el HMI.
Los bastidores (Racks) son limpiados individualmente cómo y cuándo lo determinen los
temporizadores y contadores que se encuentran en operación. Solo un bastidor (Rack) puede estar en
Retro-lavado (ASRF), o en Prueba de Integridad (IT) a la vez. No se permite que un bastidor (Rack)
entre en Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF) mientras que el otro se encuentra en
Mantenimiento de Flux Mejorado (EFM), o en Limpieza En Sitio (CIP). Si hay un bastidor (Rack) que se
encuentra ya en Modo de Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF), Retro-Lavado (RF), Enjuague
con Agua de Alimentación (FL) o llenando del tanque RF, entonces, el bastidor (Rack) saliente se le
colocará al final de una lista de espera.
Control de Nivel en Tanque RF (TK9210):
Es importante que el tanque RF de Retro-Lavado (TK-9210) se encuentre lleno y con agua
disponible para cualquier circunstancia. El llenado del Tanque RF require que exista presión
suficiente en la línea de Filtrado. El agua RF se utiliza para el Retro-Lavado de los Módulos, o
para el llenado del tanque EFM/CIP (TK9310). El llenado del tanque RF inicia cuando existen
las siguientes condiciones:
• Ningún Rack se encuentra en Retro-Lavado
• Ningún Rack está en Enjuague con Agua RF
• El Tanque EFM/CIP (TK9310) no se encuentra en Llenado
• Existe por lo menos un Rack en Producción de Filtrado
• El nivel en el Tanque RF esta por debajo del punto de ajuste (Setpoint) RFFillLevel: 80%.
Para llenar el Tanque de Retro-Lavado, La Válvula RF (AV0X07) del bastidor (Rack) más
recientemente Retro-Lavado y que ahora está en Producción de Filtrado, se abre hasta que se
alcanza el punto de ajuste (Setpoint) RFFillLevel: 80% para posteriormente cerrarse. Durante el
Paso de llenado del Tanque RF, las secuencias de Inicio de Retro-Lavado, o de llenado del
Tanque EFM/CIP están inhibidas. La secuencia de Control de Nivel del Tanque RF está activa
todo el tiempo, siempre que existan bastidores (Racks) en Producción de Filtrado.
Proceso de Limpieza de Mantenimiento de Flux (FM):
El protocolo de limpieza de Mantenimiento de Flux (FM) es un proceso frecuente utilizado para
remover mecánicamente los sólidos acumulados en la superficie de las membranas de Micro-
Filtración; este proceso es 100% automático y se realiza con dos (2) o tres (3) secuencias de
operación consecutivas que incluyen:
1) Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF).
2) Retro-Lavado con Agua Filtrada (RF) y/o
3) Enjuague con Agua de Alimentación (Forward Flush-FL).
Proceso de Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF):
1) Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF): Consiste en la agitación de las fibras de
membrana por medio de burbúja gruesa; al inyectar aire en la boquilla de alimentación de cada
módulo de MF a través del soplador AB01, mientras que la bomba de retro-lavado PU9201 bombea
agua micro-filtrada en sentido inverso (de adentro hacia fuera de las fibras) y la mezcla de las tres
(3) fases (agua, aire y sólidos) se descarga por la boquilla lateral superior del módulo (XR-
Recirculación de Excedente) hacia el drenaje.
Volúmen del Intervalo: 34.0 m3/Rack* (1.14 m3/Módulo*) o
[(9,000.0 gal)/Rack* (300.0 gal/Módulo*)]
Tiempo del Intervalo: No debe exceder 30 minutos
Duración del Restregado con Aire: 60 segundos
Flujo de Aire del Restregado: 162.0 scmhr/Rack (5.4 scmhr/Módulo) o
2.7 scmm/Rack (0.09 scmm/Módulo) o
[90.0 scfm/Rack (3.0 scfm/Módulo)]
Flujo de Retro-Lavado durante Restregado con Aire: 54.5 m3/hr/Rack (1.8 m3/hr por Módulo) o
[240.0 gpm/Rack (8.0 gpm/Módulo)]
Proceso de Retro-Lavado con Agua Filtrada (RF):
2) Retro-Lavado con Agua Filtrada (RF): Después de la fase de Restregado con Aire (AS), se
realiza un Retro-Lavado (RF) para eliminar el aire y partículas remanentes luego de completar el AS.
Durante el Flujo-Inverso (RF) las válvulas de: Salida de Retro-Lavado Superior hacia Drenaje AV0X06
y Alimentación RF del Rack AV0X07, se abren y la bomba RF-PU9201 forza el agua filtrada del
Tanque RF a través de los Módulos en dirección contraria.
Duración del Retro-Lavado con Agua Filtrada (0.0-10.0 min): 3.0 minutos
Flujo de Retro-Lavado con Agua Filtrada: 120.0 m3/hr/Rack (4.0 m3/hr/Módulo) o
Volúmen de Retro-Lavado con Agua Filtrada: 6.0 m3/Rack (0.2 m3/Módulo) o
[1,584.9 gal/Rack (52.8 gal/Módulo)]
La velocidad del Flujo de Retro-Lavado está controlada por el punto de ajuste (setpoint) RF-FLOW
RATE (120 m3/hr) dentro del Lazo de Control (PID) del Transmisor de Flujo FIT0X01 hacia la bomba
RF-PU9201 y el tiempo estará controlado por el punto de ajuste (setpoint) RF-CYCLE TIME (3
minutos).
Proceso de Enjuague con Agua de Alimentación (FL):
3) Enjuague con Agua de Alimentación (Forward Flush-FL): Consiste en el ingreso de
agua de alimentación por la parte baja del modulo de MF, mientras que la válvula de control de la
boquilla lateral superior (XR-Recirculación de Excedente) se mantiene abierta dirigiendo el rechazo
hacia el drenaje.
Duración del Enjuague con Agua de Alimentación: 20 segundos
Flujo de Enjuague con Agua de Alimentación: 120.0 m3/hr/Rack (4.0 m3/hr/Módulo) o
Volúmen de Enjuague con Agua de Alimentación: 0.7 m3/Rack (0.02 m3/Módulo) o
[180.0 gal/Rack (6.0 gal/Módulo)]
Una vez concluidas las secuencias anteriores, el Sistema de Micro-Filtración regresa

automáticamente al Modo de Producción de Filtrado. Abriendo la válvula de control de Permeado,
cerrando la válvula de control de Recirculación de Excedente (XR) y estrangulando la válvula de
Alimentación para mantener las condiciones de operación del equipo.
Preparación del Control para un ASRF:
Es preferible utilizar
Agua de Alimentación
(FL) en vez de Agua
Filtrada (RF) después
de un Restregado con
Aire (AS).
Puntos de Ajuste (Setpoints) para Mantenimiento de Flux (FM) y Prueba de Integridad (IT) en Rack de MF
Volúmen de Filtrado para un FM: 40-45 m3*(10.5-11.8 Kgal) Duración del Cíclo de RF: 60 seg.
Intervalo de Tiempo para un FM: 30 min. Flujo de Bomba PU9201 en RF: 120 m3/hr*
(528.3 GPM)
Duración Cíclo de Restregado con Aire (AS): 60 seg. Duración del Cíclo de Enjuague (FL): 20 seg
Flujo de Bomba PU9201 en ASRF: 54.5 m3/hr Posición de la Válvula FMV0X01 en Enjuague: 50%
Con nivel de Seguridad3: Supervisor, se puede tener acceso a los parámetros de operación para
visualización/edición y los valores deberán ajustarse los sugeridos por el fabricante para un ASRF.
Tiempo Mínimo entre 2 ASRF: 30 min. Flujo de Bomba PU9201 en ASRF: 54.5 m3/hr*
Tiempo Máximo entre 2 ASRF: 40 min*. Flujo de Bomba PU9201 en RF: 120 m3/hr*
Volúmen de Filtrado para un ASRF: 40-45 m3*
Adicionalmente a lo anterior, el hecho de remover un (1) bastidor (Rack) para realizar un ASRF,
en una planta con dos Bastidores (Racks) corriendo a flujo máximo; ocasionará un incremento de
caudal en el bastidor (Rack) que se mantiene en operación. Por lo tanto, es escencial que la
planta opere de tal manera que no sea objeto de presiones indeseadas, ni por las bombas del
cliente, ni por el cierre súbito de válvulas en el bastidor (Rack) saliente. Existe una serie de
pasos que sigue el sistema MF, para asegurar lo anterior:
1. Para que empiece el ASRF cuando un bastidor (Rack) lo require:
• Ambos bastidores (Racks) deben estar corriendo en Producción de Filtrado (FF).
• Ningún bastidor (Rack) puede estar en Retro-Lavado de Pre-Filtro (Strainer).
• El bastidor (Rack) “Hermano” no puede estar en secuencia de EFM/CIP.
2. La secuencia de ASRF es tal y como se describe en el Paso 204 pero, el sistema de MF
cuenta con controles adicionales para una suave operación del sistema (Paso 210).
La rampa descendente de la válvula será de forma escalonada como lo determinan los puntos de
ajuste (setpoints) de la secuencia (Recipe) de cierre de válvula de alimentación (210). El
controlador (PLC) toma la variable de proceso (PV) del lazo de control (PID) de la válvula FCV0X01
y lo divide entre el número prederminado de pasos de la secuencia. Si (p.e.) la válvula esta
corriendo al 90% de apertura al momento que se solicitó el ASRF y el número de pasos está
establecido en 22, entonces, cada escalón de cierre de la válvula FCV0X01 será de 90/22 = 4.09%.
La válvula FCV0X01 empezará a cerrarse de forma escalonada en 4.09% a la vez. Cada escalón
esta gobernado por un tiempo establecido en la secuencia (Recipe). Si este valor es 5 segundos
(como en la imagen) entonces la válvula FCV0X01 cerrara 4.09% cada 5 segundos.
Paso 210: El bastidor (Rack) en ASRF cerrará lentamente la válvula FCV0X01 hasta 0.0%.
• Durante el cerrado de la válvula FCV0X01, el flujo a través del bastidor (Rack) “Hermano”
es monitoreado en automático por el lazo de control (PID) de su propia válvula de
alimentación.
El flujo a través del bastidor (Rack) “Hermano” empezará a incrementarse; cuando la válvula
FCV0X01 del bastidor (Rack) saliente hacia un ASRF alcanza aproximadamente el 25% y el
incremento de flujo es aún mayor mientras la válvula FCV0X01 sigue cerrando más allá del 25%.
• Mientras se incrementa el flujo a través del bastidor (Rack) “Hermano” el lazo de control
(PID) de su propia válvula de alimentación FCV0X01, mantendrá el control del punto de
ajuste (setpoint) a la velocidad de flujo de producción para un solo Rack.
• Durante el incremento de flujo, el bastidor (Rack) que inicia el ASRF pondrá en PAUSA el
cierre de la válvula FCV0X01 si el flujo a través del bastidor (Rack) “Hermano” es mayor al
punto de ajuste (setpoint) del flujo de producción (max FeedFlow in Production). Este punto
de ajuste puede verse/editarse en el botón de puntos de ajuste de proceso (Process
Settings). Este punto de ajuste controla de forma efectiva la velocidad de cierre final de la
válvula FCV0X01 del bastidor (Rack) saliente y asegura que el sistema MF no alcance un
Flujo Alto-Alto (HH) en el bastidor (Rack) “Hermano”.
• Cuando el flujo a través del bastidor (Rack) “Hermano” se encuentra estable, un
temporizador de retardo empieza a correr. Cuando este temporizador de retardo expira, el
bastidor que inicia el ASRF seguirá cerrando la válvula FCV0X01 al porcentaje (%)
determinado y como se explicó con anterioridad.
3. El Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF) continuará como se describe en el Paso 205.
Paso 204 – Preparación de ASRF (ASRF Preparation):

Este paso se utiliza para permitir el movimiento de válvulas.
Abre: Válvula de Venteo de Filtrado del Rack (AV0X19)
Cierra: Válvula de Alimentación al Rack (FCV0X01)*, Válvula de Filtrado del Rack (AV0X03), Válvula
XR Recirculación de Excedente del Rack (AV0X21)
Inicia: Temporizador del Paso 204
Transición: Expira el Temporizador de Paso 204
*NOTA: El Paso 204 incluye en su rutina el Paso 210 (cierre de válvula de alimentación).
Paso 205 – Restregado con Aire en Retro-Lavado (ASRF - Air Scrub Reverse Flow):
Existen dos (2) opciones en los Sistemas de MF. Si el agua es limpia (Calidad RO) entonces la bomba
RF (PU9201) correrá a una sola velocidad; pero si el agua es más sucia (Calidad de Filtrado)
entonces la bomba RF (PU9201) operará con variador de velocidad (Drive).
Durante este Paso 205, el agua filtrada se bombea en sentido inverso (hacia el Rack) mientras que
el aire se inyecta en la tubería de alimentación y la combinación de ambas corrientes, se envía a
drenaje.
Abre: Válvula de Salida de Retro-Lavado Superior hacia Drenaje (AV0X06), Válvula de Alimentación
RF del Rack (AV0X07), Válvula de Entrada de Aire al Rack (AV0X15)
Arranca/Inicia: Soplador de Aire (AB01), Bomba RF (PU9201), Temporizador AS. Para la opción con
Variador de Velocidad (Drive) el punto de ajuste (setpoint) de velocidad se calcula como se
describe más adelante.
Transición: Termina el Temporizador AS.
Detiene: Soplador de Aire (AB01)
Cierra: Válvula de Entrada de Aire al Rack (AV0X15)
Inicia: Temporizador Auxiliar
Transición: Expira el Temporizador Auxiliar.
Reestablece: Totalizador de Volúmen de Producción del Rack
Incrementa: Contador de Ciclos ASRF del Rack
Para la opción con Variador de Velocidad (Drive), la bomba RF (PU9201) correrá a una
velocidad fija predeterminada. El flujo a través del transmisor (FIT0X01) se monitorea y
compara con el punto de ajuste (setpoint) ASRFFlow (54.5 m3/hr) y el valor de velocidad
para la bomba RF se ajusta entonces para proporcionar el flujo correcto durante el siguiente
ciclo de ASRF.
Ubicación Válvulas e Instrumentos en Plano P&ID:

FMV0X01 - Válvula/Control Flujo de Alimentación
AV0X06 - Válvula de BW Dren Superior
AV0X07 - Válvula Alimentación RF del Rack
AV0X15 - Válvula (Inferior) Entrada de Aire al Rack
FIT0X01 - Transmisor de Flujo de Permeado
AB01 - Soplador de Aire
PU9201 - Bomba de Retro-Lavado (RF)
Proceso de Restregado con Aire en Retro-Lavado (Video):
Paso 1: Se detiene el flujo de Producción de Filtrado (Forward Flow).

Paso 2: Se inyecta aire en la boquilla de alimentación de cada uno de los módulos de
membranas (en la parte baja) mientras que al mismo tiempo, se bombea agua del tanque #2
hacia los módulos de membranas por medio del cabezal de permeado en dirección inversa a la
operación normal (por la parte alta). (En Yanacocha, Perú; el tanque #2 mostrado en el video,
se refiere al tanque de Retro-Lavado RF-TK9210 que se encuentra fuera del sistema de MF).
Paso 3: Por medio de la manipulación de válvulas de control, el agua filtrada y los
contaminantes son forzados a salir por la boquilla XR (Recirculación de Excedente) ubicada en
la parte alta del módulo y enviados a drenaje.
Paso 4: Una vez que termina el Restregado con Aire en Retro-Lavado, el equipo se coloca
nuevamente en producción de Filtrado (Forward Flow).
https://www.youtube.com/watch?v=Lex33yqkaRw
Proceso de Retro-Lavado (RF):
Paso 206 – Retro-Lavado (Reverse Flow – RF):
El Retro-Lavado (RF) se utiliza para remover aún más las partículas contaminantes que han sido
desprendidas de la superficie de las membranas durante el ASRF. En la tabla de puntos de ajuste
(setpoints) del manual de O&M se especifica que el flujo RF debe ser RFFlow: 4.0 m3/hr/Módulo por
lo que, observar que la bomba RF no se detiene en el Paso205, sino que se acelera en el Paso206.
Abre: Válvula RF de alimentación al Rack (AV0X07), Válvula de Salida de Retro-Lavado Superior
hacia Drenaje (AV0X06)
Acelera/Inicia: Bomba RF (PU9201), Temporizador RF. Para la opción con Variador de Velocidad
(Drive) el punto de ajuste (setpoint) de velocidad se calcula como se describe más adelante.
Transición: Expira el Temporizador RF
Cierra: Válvula de alimentación RF del Rack (AV0X07)
Detiene: Bomba RF (PU9201)
Para la opción con Variador de Velocidad (Drive), la bomba RF (PU9201) correrá a una velocidad fija
predeterminada. El flujo a través del transmisor (FIT0X01) se monitorea y compara con el punto de
ajuste (setpoint) RFFlow (120.0 m3/hr) y el valor de velocidad para la bomba RF se ajusta entonces
para proporcionar el flujo correcto durante el siguiente ciclo de RF.
Paso 207 – Enjuague Con Agua de Alimentación (Forward Flush-FL):
El Enjuague (FL) se utiliza también para remover las partículas contaminantes de la superficie de
las membranas utilizando Agua de Alimentación en vez de agua filtrada almacenada. En la tabla de
puntos de ajuste (setpoints) del manual de O&M se especifica que el Volúmen de Enjuague hacia
Adelante (FL) debe ser FlushVol: 0.7 m3/Rack (23.0 Lt/Módulo).
Inicia: Totalizador de Volúmen de Enjuague hacia Adelante – Medidor de Flujo (FIT0X01)
Abre: Válvula de Salida de Retro-Lavado Superior hacia Drenaje (AV0X06), Válvula de Alimentación
al Rack (FCV0X01) al punto de ajuste (setpoint) de apertura inicial de FCVFlush: 60% y luego se
colocará el lazo de control (PID) en Control de Flujo con el punto de ajuste (setpoint) de Flujo de
Enjuague hacia Adelante FlushFlow: 4.0 m3/hr/Módulo (120 m3/hr/Rack).
Inicia: Temporizador de Paso 207
Transición: Temporizador de Enjuague hacia Adelante o Volúmen de Enjuague hacia Adelante mayor
que (>) FlushVol.
Transición: Expira Temporizador de Paso 207
Cierra: Válvula de Salida de Retro-Lavado Superior hacia Drenaje (AV0X06)
Reestablece: Totalizador de Volúmen de Enjuague hacia Adelante a Cero.
Proceso de Enjuague (FL) con Agua de Alimentación (Video):
Antes de activar el video: El PLC verifica qué rutina es la que se encuentra programada, si es
un Retro-Lavado (RF) con agua Micro-Filtrada no ejecutará la rutina 207, pero, si además (o en
vez de) de la rutina de Retro-Lavado (RF), se encuentra programado el enjuague con agua de
alimentación (Forward Flush-FL) se ejecutará el Paso207.
Paso 2: Después de un Restregado con Aire, se utiliza un enjuague con agua de alimentación
para eliminar el posible aire atrapado y los contaminantes remanentes en el Módulo de
Membranas.
https://www.youtube.com/watch?v=ToPPfpHYAfs
Proceso de Llenado de Tanque RF:
Paso 208 – Llenado de Tanque RF (Fill RF Tank):

Si el Tanque RF (TK9210) es llenado directamente con el cabezal principal (manifold) de filtrado
en cualquier condición de operación, o no existe un Tanque RF instalado; el PLC no ejecuta el
Paso 208.
Inicia: Control de Presión – si se require presurizar el Filtrado para llenar el Tanque RF.
Abre: Válvula de Alimentación al Rack (FCV0X01) al punto de ajuste de RFTankFill*: (*En la tabla
de puntos de ajuste existe FCVFill = 60%*) Válvula de Alimentación RF del Rack (AV0X07), Válvula
de Llenado RF (AV9202)
Cierra: Válvula de Venteo de Filtrado del Rack (AV0X19)
Inicia: Temporizador de Paso 208
Transición: Punto de ajuste (setpoint) de Nivel LT9210 > LT9210-Fill (RFFillLevel: 80%)
Transición: Expira Temporizador de Paso 208
Cierra: Válvula de Llenado RF (AV9202), Válvula de Alimentación al Rack (FCV0X01)
Detiene: Control de Presión y regresa a Control de Flujo
Equipo fuera del Contenedor/Bastidor (Off-Rack):
Debido a que el Tanque RF (TK9210) se encuentra instalado fuera del contenedor del sistema de
membranas de Micro-Filtración, se considera un equipo fuera del Bastidor (Off-Rack) y existen tres
(3) pantallas de: Puntos de Ajuste (setpoints), Alarmas, y Rango de Instrumentos Análogos (Scaling)
que se utilizan para el control del Tanque RF y otros Puntos de Ajuste (setpoints) de instrumentos
dentro del contenedor.
La ruta de acceso a estas pantallas

es:
1) Ingresar a la pantalla de Ajustes
(SETUP)
2) Localizar la columna de equipo
fuera del Bastidor (OFF RACK)
3) Oprimir el botón de Puntos de
Ajuste (SETPOINTS)
Pantalla de Ajustes y Navegación del Sistema Operativo.

En esta pantalla se puede colocar el
Punto de Ajuste (Setpoint) del Nivel
para Llenado del Tanque RF
(RFFillLevel-80%), La Velocidad de
Llenado del Tanque de CIP* (La única
velocidad que se maneja en la tabla
de puntos de ajuste es:
RFPumpEFMFill-60%) y La Velocidad
de Llenado del Rack en CIP/EFM* (La
apertura de la válvula de
alimentación en la tabla de puntos
de ajuste cuenta con dos [2]
referencias de llenado del bastidor:
FCVRackFill-50% y FCVFill-60%
revisar en campo, cuál referencia es
la que aplica).
Pantalla de Puntos de Ajuste de Equipo fuera del Rack
Regresar a la pantalla de Ajustes (SETUP) para verificar la pantalla de Alarmas en Equipo

fuera del Bastidor.
En esta pantalla se pueden colocar los
Puntos de Ajuste (Setpoints) de Alarma
para:
Turbidez de Alimentación y de Filtrado
(Alta-Alta [HH] y Alta [H]); NOTA: No existe
transmisor o interruptor de flujo para el
soplador de aire (cuadro gris), Niveles para
el Tanque RF (Alto-Alto [HH], Alto [H], Bajo
[L] y Bajo-Bajo [LL]); así como, los tiempos
de retardo de alarma.
También se tiene la visualización del estado
en el que se encuentran las alarmas
(Activa/No Activa) y el valor de la lectura
actual del instrumento (bajo la columna de
Value).
Pantalla de Alarmas para Equipo fuera del Rack
Regresar a la pantalla de Ajustes (SETUP) para verificar la pantalla de Escalamiento de
Instrumentos Análogos en Equipo fuera del Bastidor (ANALOG SCALING).
En esta pantalla se coloca el rango en el
que operarán los instrumentos análogos, los
cuales proporcionan señales de 4.0 a 20.0
mAmp, donde 4.0 mAmp representa el
valor bajo y 20.0 mAmp representa el valor
alto.
En el caso de la Turbidez de Alimentación
(p.e.) 4.0 mAmp = 0.0 NTU y 20.0 mAmp =
100.0 NTU. Esa señal la recibe el PLC y al
enviarla al HMI se traduce en numeros
entendibles para el usuario.
También, como en la pantalla anterior,
puede verse el valor de la lectura actual
del instrumento (bajo la columna de Eng.
Value).
Pantalla de Escalamiento de Instrumentos Análogos de Equipo fuera del Rack
Regresar a la pantalla del Bastidor 1 (RACK 1) o a la pantalla Principal (MF CONT MAIN)
para verificar la operación del sistema de Micro-Filtración
Final de Producción de Filtrado o Continuación:
Paso 209 Final de la Producción:

El Bastidor (Rack) que ha finalizado la rutina de Retro-Lavado, sale de Producción de Filtrado.
Cierra: Todas las válvulas del bastidor (Rack)
Abre: Válvula de Venteo de Filtrado del Rack (AV0X19)
Reestablece: Temporizadores Mínimo y Máximo para ASRF y Contador de Volúmen de Alimentación.
Transición: Temporizador del Paso 209.
Continuación:
La realización de las siguientes secuencias en el Bastidor (Rack) dependerá del criterio con el que se
inició el ASRF (descrito con anterioridad):
- Todos los Bastidores (Racks) a posición: DETENIDA.
- El Bastidor regresa a Producción de Filtrado (Paso 203)
- El Bastidor (Rack) a posición: DETENIDA y que requiere la intervención del operador para re-iniciar.
- El Bastidor (Rack) hacia EFM o CIP
- El Bastidor (Rack) hacia Prueba de Integridad (IT)
Glosario de Palabras:
ALARMA O ADVERTENCIA (ALARM OR WARNING): Defecto en la operación del Sistema, que no require el paro
inmediato. El desempeño del Sistema puede ser que no sea el óptimo. El Sistema le informa al
operador por medio de mensaje en el HMI, una bocina de zumbido y una luz naranja en el
gabinete eléctrico.
LIMPIEZA EN SITIO (CLEANING IN PLACE): Secuencia especial que utiliza soluciones químicas para limpiar las
membranas de forma Semi-Automática.
CLIENTE (CUSTOMER): Minera Yanacocha, Perú
FILTRACIÓN INVERSA (REVERSE FILTRATION): Secuencia especial que utiliza Filtrado o Permeado para lavar las
membranas en sentido opuesto a la filtración normal.
FALLAS (FAILURE OR FAULTS): Serious problem with the system, which requires an immediate stop. The stop
ensures the operator’s and system’s safety. The system informs the operator by a message on the
OIT and a buzzer and a red light on the electrical cabinet.
FILTRADO/PERMEADO (FILTRATE/PERMEATE): Fluido filtrado y limpio, que resulta después de pasar por los
módulos de Micro-Filtración/Nano-Filtración.
PROVEEDOR (SUPPLIER): Pall Corporation
CRUDA (RAW): Agua que será filtrada por el Sistema.
RECHAZO (RETENTATE): Agua de alimentación que sale por la parte alta de los módulos durante el filtrado.
SECUENCIA (SEQUENCE): Serie de pasos para realizar una fase de operación complete. P.e. Filtración,
Filtración Inversa, EFM, CIP, etc.
MÍMICO (MIMIC): Pantalla principal donde se puede visualizar el DT&I y sirve para operar el Sistema
(arrancar/detener/modos de operación/etc.)
ADVERTENCIA (WARNING): Revisar Lista de Alarmas.
Glosario de Acrónimos:
ΔP - Delta P. – Presión Diferencial entre la entrada y la salida de los módulos de membrana
ΔP = (P.Entrada – P.Salida)
ANA – Señal Análoga (Analogue signal)
PLC – Controlador Lógico Programable (Programmable Logic Controller)
EFM – Limpieza de Mantenimiento de Flux Mejorada (Enhanced Flux Maintenance)
EMO – Paro de Emergencia (Emergency Stop)
AS – Restregado con aire (Air Scrubbing)
PB – Botón Digital (Push Button)
CIP – Limpieza en Sitio (Cleaning In Place)
I/O – Entradas/Salidas (Inputs/Outputs)
OIT – Terminal de Interface con el Operador (Operator Interface Terminal)
MFT – Micro-Filtración Tangencial (Micro Filtration Tangential)
NC – Posición Normalmente Cerrada (Normally closed position)
NO - Posición Normalmente Abierta (Normally open position)
P&ID – Diagrama de Tuberías e Instrumentación (Process & Instrumentation Diagram)
PID – Controlador Proporcional, Integral y Derivada (Proportional, Integral & Derivate Regulator)
TMP – Presión Trans-Membrana (Transmembrane Pressure)
RF – Retro-Lavado o Filtración Inversa (Reverse Filtration)
SP – Punto de Ajuste (Set Point)
ASRF – Restregado con Aire en Retro-Lavado (Air Scrubbing and Reverse Filtration)
FF - Producción de Filtrado (Forward Flow)
FL – Enjuague con Agua de Alimentación (Forward Flush)
Gracias!!

Presentación-Microfiltración-PAM60C-Parte I-Rev10

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Temperatura de Operación Máxima) 40°C (104°F) 40°C (104°F)

Acciones al activar el Botón de Paro de Emergencia:

Arranque del Sistema después de un Paro de Emergencia:

Controlador Lógico Programable (PLC) Principal:

Todas las alarmas activas se muestran en la interface de operación y se despliegan al oprimir el

Pantalla de Alarmas1 del Rack MF#1

Pantalla de Alarmas2 del Rack MF#1

Pantalla de Alarmas3 del Rack MF#1

• Diseño del Sistema (Fabricante):

Estructura de Soporte Mallas de Protección

2 Para navegar en cualquier pantalla del sistema

La ruta a seguir es:

Pantalla de Ajustes y Navegación del Sistema Operativo MF.

Los botones de Registro (Login) y Salida

3) Colocar la clave de acceso (dependiendo el

Arreglo de Tuberías de Entrada y Salida (Alimentación y Permeado) del sistema MF contenido

AUTOMÁTICO: Es la forma preferente de

Pantalla de Puntos de Ajuste (Setpoints) de Pantalla de Puntos de Ajuste (Setpoints) de

Pantalla de Proceso Rack #1: En esta pantalla

Pantalla de Modo de Operación del Equipo

4) Oprima el botón de Secuenciador del Rack1 (Sequencer Rack1)

5) Con la flecha de menú, desplegar el

8) Oprimir el botón de Arranque (Start)

Realizar la misma secuencia de pasos

INTRODUCCIÓN DE DATOS EN LOS CAMPOS DE PARÁMETROS:

Válvula Reguladora de Presión a la Entrada (Alimentación) del sistema de MF contenido

Una vez arrancado el sistema de Micro-Filtración eléctricamente; verificar y controlar la presión

PROCESO DE ESPERA - (201-Stand By):

Ubicación Válvulas e Instrumentos en Plano P&ID:

• Permeabilidad corregida a 20°C: Se calcula, despliega y registra después de 1 minuto de