METODOS DE

NANOFABRICACION (top-down)

OSORIO DIAS MARCO DANIEL

REBOLLAR RIOS SEBASTIÁN
SANCHEZ ARIAS IVONNE ADALIT
LITOGRAFIA OPTICA

¿Que es la litografía óptica?

Ha sido la técnica predominante en el uso de patrones de los semiconductores, es capaz de producir
patrones ligeramente por debajo de los 100 nm, usando longitudes de onda muy cortas.
 
Se usa durante la fabricación de circuitos integrados de semiconductores o sistemas nano electromecánicos,
conocidos como Nanoelectromechanical Systems o NEMS.
 LITOGRAFIA OPTICA

 Los enfoques ópticos o de fotolitografía convencionales utilizan luz colimada a través de una placa de cuarzo que
soporta un recubrimiento de cromo para crear patrones en una superficie. La placa de cuarzo que sirve como una
máscara se coloca en contacto o muy cerca de la oblea con revestimiento resistente. El fotorresistente es orgánico,
sensible a la luz.

 Material que puede recubrirse en obleas semiconductoras. Hay dos

posibles transformaciones que puede sufrir un polímero fotorresistente al
exponerse a la luz.

 Si se ilumina un material fotorresistente positivo, las regiones expuestas

presentarán una mayor solubilidad en el desarrollo soluciones opcionales.
 ¿Que es un circuito
integrado?

 
Un circuito integrado (CI), también conocido como
chip o microchip, es una estructura de pequeñas
dimensiones de material semiconductor,
normalmente silicio, de algunos milímetros
cuadrados de superficie (área), sobre la que se
fabrican circuitos electrónicos generalmente
mediante fotolitografía y que está protegida dentro
de un encapsulado de plástico o de cerámica. El
encapsulado posee conductores metálicos
apropiados para hacer conexión entre el circuito
integrado y un circuito impreso.
E-BEAM LITOGRAFIA

¿Qué es la e-beam litografia?

La litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography, EBL) radica en el hecho de que supera el límite de
difracción de la luz que ayuda a crear características permitiendo definir motivos en el rango nanométrico. Su
implantación ha permitido la nanofabricación de estructuras y dispositivos para su uso en el campo de la
nanotecnología y la nanociencia.

La EBL se basa en la definición de motivos submicrónicos mediante el rastreo de un haz energético de electrones
sobre una resina. La naturaleza de los electrones y el desarrollo de haces extremadamente finos y su control preciso
establecen la plataforma ideal para los requerimientos de la Nanofabricación.
 E-BEAM LITOGRAFIA

La litografía de haz electrónico más avanzada incluye proyección electrónica, una combinación que utilizan máscaras de
alta precisión y sistemas de lentes para exponer una gran escala patrón sobre un sustrato recubierto con resistencia, es
capaz de una gran profundidad de penetración de electrones. Un nitruro de 100 nm de espesor el material se utiliza como
máscara en la litografía de proyección.

El electrón en plano focal trasero del sistema óptico contiene

una abertura que bloquea el electrones altamente dispersos las
trayectorias de los electrones permitieron pasar a través de la
membrana solo están ligeramente alterados y, en última
instancia, crear una imagen de alto contraste en la superficie de
la oblea o sustrato ,la longitud de onda corta y la densidad de
energía del electrón, la viga permite la fabricación de tamaños
de características ultrafinas.
 E-BEAM LITOGRAFIA
(ejemplo )

Este micrógrafo muestra los electrodos modelados

del metal separados por una capa que aísla
(transparente en esta imagen), que se utilizan para
controlar el número de electrones en dispositivos
del quantum del semiconductor. Es un ejemplo del
tipo de nanostructure que se puede grabar el ácido
con el sistema de la litografía de haz electrónico.
GRUPO DE INVESTIGACIÓN DE TREVOR
KNAPP/ERIKSSON.

Los nanostructures minúsculos se pueden fabricar por litografía de haz

electrónico con altas confiabilidad y exactitud, sin la necesidad de un photomask,
y en una resolución de menos de 10 nanómetro.
Litografía nanoimprint

El proceso de nanoimprint lithography (NIL) se utiliza para replicar estructuras nanométricas en polímeros y
temperatura controlada.

La nanoimpresion permite utilizar el polímero estructurado como mascara de grabado.

Etapa 1:Obtención de las nanoestructuras sobre una capa fina de polímero.

Etapa 2:Grabando mediante plasma de oxígeno (polímero residual ), grabando

húmedo o bien grabando seco para iones reactivos ,con una temperatura de hasta
250ºC
 Litografia suave

Es una alternativa para la fotolitografia

Este se utiliza para transefiri un patron molecular delgado sobre una superficie

Este tiene varias ventajas como lo son :

Que no requiere un costoso procesamiento en una sala limpia

Se siguen los mismos pasos una vez se desarrolla el molde

Este método también hace posible transferiri capas húmedas

Emplea una replica de escala cruzada

Procesos principales

Microestampado

diseño de plantilla

diseño microfluidico

Microcontactos
 Litografia de nanoimpresion

Metodo litográfico de arriba hacia abajo importante para la fabricación

avanzada de nanoestructuras

Este metodo de nanofabricasion es capaz de crear patrones de alto

rendimiento de nanoestructuras con alta resolución

Esta basada en el principio de estampado mecanico

Genera patrones con resluciones superiores a las técnicas litográficas convencionales que están limitadas por la dispercion del
haz o la difracción de la luz

La deformación mecánica uniforme de los materiales que se utilizan como resistencias genera la
replica de el patron inicial por lo tanto el enfoque permite superar las limitaciones relacionadas con la resolución causadas
por difracción y dispercion
BIBLIOGRAFIAS

http://nanoimpresion.blogsp

Litografia del electron-haz para nanofabricacion –

http://www.sciencedirect.com

http://www.ncbi.nlm.nih.gov