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COMPLEMENTO
SUSTANCIAS INHIBIDORAS
• Durante la electrodeposición de los metales, la inhibición se debe a la
presencia en la interfase electrodo-electrólito (superficie del
electrodo), en la doble capa, o en la capa de difusión de sustancias
diferentes al metal ó al ad-átomo correspondiente.
• La mayor parte de la inhibición ocurre en la interfase electrodo-
electrólito, mientras que la inhibición en el electrólito implica una
parte relativamente pequeña de inhibición.
SUSTANCIAS INHIBIDORAS
• La inhibición en la interfase puede disminuir la velocidad de los
procesos físico, electroquímico y/o químico de la electrodeposición
de los metales que ocurren inmediatamente en la interfase metal-
electrólito.
• Estas sustancias inhibidoras se llaman inhibidores de la interfase.
• La mayoría de estos inhibidores son sustancias orgánicas.
• Estos aditivos por lo general no cubren completamente la superficie
del cátodo y no favorecen los sitios activos.
SUSTANCIAS INHIBIDORAS
• Estas sustancias interfieren el proceso catódico y son química o
físicamente adsorbidos y su efecto sobre los depósitos es conocido
como grado de inhibición.
• Dependiendo del origen de los inhibidores, la inhibición puede ser
clasificada en primaria y secundaria.
SUSTANCIAS INHIBIDORAS
• Dependiendo del origen de los inhibidores, la inhibición puede ser
clasificada en primaria y secundaria.
• INHIBICIÓN PRIMARIA: Causada por sustancias cuya composición
estequiométrica es la misma al principio y al final de la deposición.
• INHIBICIÓN SECUNDARIA: Causada por sustancias que son generadas
durante la reacción electródica, por una reacción electroquímica o
química.
SUSTANCIAS INHIBIDORAS
• En la electrodeposición de metales sólidos, la inhibición puede
subdividirse también en inhibición electroquímica y morfológica.
• La influencia de la inhibición electroquímica sobre el mecanismo de la
deposición es relativamente simple cuando es causada por un inhibidor
primario. El desplazamiento de la reacción de deposición causado por:
• Bloqueo (desactivando o restringiendo la cobertura), que está caracterizada por el
incremento del sobre potencial
• Competencia de reacción electroquímica o química (cobertura reactiva), caracterizada
por la disminución de la eficiencia de corriente de la electrodeposición.
• La inhibición morfológica implica cambios morfológicos del hábito cristalino
(forma), tamaño y orientación de los cristales y sus subestructuras.
DESVENTAJAS DEL USO DE INHIBIDORES
• Catálisis negativa de pre o post reacción (envenenamiento).
• Reducción simultánea del inhibidor, disminuyendo la eficiencia de
corriente y contaminando el cátodo (inhibición secundaria).
• Cambio en la estructura metalográfica y en la textura cristalográfica
del depósito (inhibición secundaria).
• Cambios en el valor del sobre potencial (inhibición primaria).
EFECTO DE ADITIVOS INHIBIDORES EN EL
DEPÓSITO
• Durante la nucleación se modifica por la presencia de aditivos,
obteniéndose por su acción cambios en la morfología de los
depósitos.
• En ausencia de aditivo, las altas corrientes sobre los núcleos generan
campos difusionales alrededor de ellos.
• Sin aditivos, se producen choques entre los campos difusionales de
los núcleos ó “colisiones blandas”, resultando depósitos de baja
calidad y porosos.
EFECTO DE ADITIVOS INHIBIDORES EN EL
DEPÓSITO
Es decir a y b se están
moviendo y, el escalón suma
donde a y b ya
coalescieron, se forma
después en espacio y tiempo
IMPORTANCIA DE LA NUCLEACIÓN Y
CRECIMIENTO
• La “nucleación y crecimiento” determina del mismo modo, una
propiedad de los materiales policristalinos que se designa como
“epitaxis”.
• Se denomina epitaxis al fenómeno físico de orientación mutua que
ejercen varias especies cristalinas unas sobre otras, que se forman ó
se depositan.
• En cuanto a “Cinética de electrocristalización y su relación con la
estructura y morfología de los depósitos” existe cuantiosa
bibliografía.
MORFOLOGÍA DE LOS
DEPÓSITOS
DESARROLLO DE TEXTURA
FLEISCHMAN
• Según Fleischman, el problema de la “epitaxis” puede ser examinado
según el modelo del cristal ideal ó “modelo de Kossel y Stranski” en el
que se plantean fuerzas de unión muy fuertes entre los átomos ó
núcleos en el cristal ”strong binding forces".
• Fleischmann mencionaba los postulados de la teoría de Volmer :
• 1º) “se forman embriones de núcleos que se adsorben y difunden asistidos
por la superficie
• 2º) “los pasos de difusión son distintos según la geometría de la superficie, ya
que la difusión es distinta, según la epitaxis u orientación cristalina mutua”.
FLEISCHMAN
• El proceso de nucleación y crecimiento (se puede controlar a través
de la dependencia entre energía libre, el sobrepotencial, y las
sustancias presentes en solución que pueden modificar la cinética de
electrodeposición.
• La teoría de Volmer explica que en función de las variables
anteriormente mencionadas se puede generar “fuerte disminución
del trabajo de formación de núcleos y se forma una capa
monomolecular en orientación paralela al sustrato”
MORFOLOGÍA DE ELECTRODEPÓSITOS
• ¿Cuál será la estructura macroscópica que adoptará el electrodepósito tras
haber sido obtenido en este proceso? El tipo de estructura que adoptará,
siempre a la luz de los mecanismos microscópicas citados, dependerá de
dos circunstancias:
• 1° que haya formación continua de núcleos, a partir de los cuales proseguirá la
formación de nuevos cristales.
• 2° que haya crecimiento únicamente de los cristales ya existentes.
• Cuando estén presentes condiciones que favorezcan la formación de
nuevos núcleos, se obtendrán electrodepósitos de grano fino, que
contendrán un gran número de cristales pequeños.
• Por el contrario, cuando existan condiciones que favorezcan el crecimiento
de los cristales primeramente formados, se obtendrán cristales grandes,
aunque en pequeño número.
MORFOLOGÍA DE ELECTRODEPÓSITOS
• Según el tipo de crecimiento que predomine se podrán distinguir tres
grupos diferentes de cristales:
• Grupo I, integrado por: cristales simétricos, cristales aciculares, cristales
columnares y cristales fibrosos.
• Grupo II, integrado por: cristales cónicos o cristales en maclas
• Grupo III, integrado por: cristales quebradizos compactos, cristales
arborescentes o dendríticos y cristales esponjosos.
• Cualquier causa que aumente, en general, la polarización catódica
tenderá a disminuir el tamaño de los cristales, pasándolos desde el
tipo I al tipo II ó III.
MORFOLOGÍA DE ELECTRODEPÓSITOS
DESARROLLO DE TEXTURA
• La textura es otra propiedad de los electrodepósitos, y está
relacionada al modo en que se forman los núcleos, su crecimiento
considerando la orientación que adoptan
• Se dice que un material metálico (policristal) desarrolla orientación
preferencial ó textura, cuando sus granos tienen la misma orientación
que un sistema de referencia.
• En sustratos policristalinos con granos orientados al azar, los granos
individuales tendrán diferentes orientaciones entre sí, y distinta
orientación de la que puede tener el sistema de referencia.
DESARROLLO DE TEXTURA
• En electrodeposición puede desarrollarse orientación preferencial, que se
puede generar en la nucleación y crecimiento por aplicación de variables
electroquímicas determinadas.
• Esta propiedad depende fundamentalmente de los parámetros
electroquímicos que se utilizan en un depósito, como por ejemplo
• El sustrato
• La solución de electrodeposición (su composición, temperatura, pH, agitación,
aditivos presentes, impurezas)
• La reacción de sustancias activas con la superficie
• El sobrepotencial
• La densidad de corriente aplicada
• El transporte de materia.
DESARROLLO DE TEXTURA
• El recubrimiento tiene textura cuya dirección es 111 en el caso del
sustrato con estructura BCC (estructura cúbica centrada en el cuerpo)
• Dirección 110 para el caso en que el sustrato tiene estructura
cristalina FCC (estructura cúbica centrada en las caras).
• Cuando el recubrimiento tiene estructura hexagonal HCP(hexagonal
compacta), en general, el sustrato también tiene microestructura
hexagonal.
DESARROLLO DE TEXTURA
• Según el material que se utiliza como sustrato, y cuáles son sus
propiedades (diferencias en su estructura cristalina), aparecen los
siguientes casos:
Estructura Cristalina Textura del Sustrato Textura del Depósito
desarrollada
BCC Cu 110, Fe 111
Cu 111+110 Cu 111
Au 111 Au 111
FCC Ni 110 Cu 110
Au 111 Au 110
Fe 111 Fe 110
HCP Fe 110 Zn 1012
Tetragonal Cu 111 + 100 Beta Sn 231
Au 111 Au 231
DESARROLLO DE TEXTURA
• En la textura inciden los defectos del borde de grano del sustrato, así
como también otros defectos como ser las heterogeneidades debido
a la presencia de granos de distintas orientaciones.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• El carácter cristalino del electrodepósito, es decir, el tipo de
estructura que adopta durante la etapa de su crecimiento, depende
en gran manera de la cantidad de núcleos formados al comienzo,
inmediatamente después del empobrecimiento en iones de la zona o
capa líquida catódica.
• Los factores que influyen en el empobrecimiento de esa capa catódica
y en otros fenómenos electroquímicos relacionados con la
electrocristalización, son muy diversos.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Estos parámetros están relacionados con:
• La naturaleza y estado superficial del metal-base sobre el que se realiza la
electrodeposición
• Las condiciones eléctricas en que se realiza la electrólisis
• La composición del electrólito.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Naturaleza y estado de la superficie del metal-base o cátodo
• Este factor es importante, pues de él depende el que el electrodepósito
adopte un tipo de estructura u otro, o de que no se produzca crecimiento
cristalino, si la superficie no está convenientemente activada.
• Densidad de corriente
• Es otro factor vital, ya que dentro de ciertos límites, un aumento de la
densidad de corriente lleva consigo la disminución del tamaño del cristal,
pues favorece la polarización catódica, obteniéndose recubrimientos de grano
fino.
• Rebasado un cierto valor límite, un aumento de densidad de corriente se
traduce en la producción de recubrimientos rugosos y arborescentes,
llegando incluso a dar lugar a recubrimientos esponjosos y pulverulentos,
indeseables.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Agitación del electrólito
• La agitación favorece los cambios entre la capa o zona catódica y el resto del
electrólito; es decir, contribuye a una mayor difusión de los iones metálicos y
disminuye la polarización de concentración, dando lugar a recubrimientos
uniformes.
• Por otra parte, impide la estratificación de las capas, evitando que las más
pesadas vayan al fondo y, al propio tiempo, soslaya el pernicioso efecto del
desprendimiento de hidrógeno sobre el cátodo.
• Como resultado de todo ello, la agitación permite el aplicar densidades de
corriente más altas, sin los efectos perjudiciales inherentes al sobrepase de su
límite.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Temperatura
• Un aumento de temperatura se traduce en una facilitación de la difusión y en una
disminución o anulación del desprendimiento de hidrógeno sobre el cátodo.
• Por otra parte, permite la utilización de densidades de corriente mayores.
• Trae todo ello como consecuencia un aumento de la movilidad de los iones metálicos
(es decir, una conductividad más alta del electrólito) y una disminución de la
viscosidad de la solución, con un mayor reaprovisionamiento de la capa o zona
catódica, dando ello lugar a la formación de electrodepósitos de grano fino y
brillantes, no llegando, sin embargo, a alcanzar el tipo de depósito dendrítico o
esponjoso, indeseable.
• Cuando el aumento de temperatura no va acompañado del aumento de la densidad
de corriente, el efecto de ésta se traduce en un aumento del tamaño de los cristales,
como consecuencia de la disminución de la polarización.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Concentración de iones metálicos
• Este parámetro es importante ya que los iones metálicos constituyen el
material imprescindible para la construcción del edificio cristalino.
• En general, la concentración idónea de iones metálicos será aquélla que
presente pocos iones a depositar y muchas moléculas no disociadas
dispuestas a disociarse rápidamente, liberando de esta manera iones
metálicos que sustituirán a los que desaparecen de la película líquida catódica
durante la electrólisis para incorporarse al cátodo.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Concentración de iones hidrógeno
• La influencia de la concentración de iones hidrógeno se pone claramente de
manifiesto cuando el metal a electrodepositar es electronegativo, ya que el
electrólito debe contener entonces suficientes iones H+ para evitar la
formación de hidratos y sales básicas poco solubles (que darían lugar a
depósitos esponjosos) y, al mismo tiempo, no debe contener tantos iones H+
que hagan posible su descarga en el cátodo, ocluyéndose en el recubrimiento
en formación.
• Para regular el contenido en iones H+ se acostumbm a emplear sustancias que
actúan como "tampones", constituidos por ácidos muy poco disociados
(como por ejemplo, el ácido bórico, utilizado como tampón en electrólitos de
niquelar)
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Agentes de adición
• Se llaman así a aquellos compuestos de naturaleza inorgánica u orgánica que,
adicionados al electrólito en cantidades generalmente muy pequeñas,
modifican la textura cristalina del electrodepósito en cualquiera de las etapas
del proceso de su formación.
• Estos "agentes de adición" pueden cumplir misiones diferentes, influyendo
sobre diferentes factores afectantes al proceso.
PARÁMETROS CONTROLANTES EN EL
DESARROLLO DE LA TEXTURA
• Agentes de adición