Prctica No. 3.

- Obtencin de una Aleacin Ni-Co

Laboratorio de Electrometalurgia.

Objetivo.- Conocer que es posible obtener aleaciones por va electroltica.

Estudiar mediante curvas de polarizacin un proceso electroqumico de obtencin
de aleaciones.

Realizar ingeniera en reversa para verificar si las aleaciones propuestas estn

formadas por las soluciones utilizadas.

Introduccin.
La electrodepositacin de metales y aleaciones pueden tener grandes ventajas. Sus
estructuras son muy diferentes a las estructuras obtenidas por la va trmica. Su
tamao de los granos son generalmente ms finos y debido a que tienen
estructuras meta-estables, tienen diferentes propiedades que pueden resultar
benficas, tambin por este mtodo se pueden vencer algunas de las dificultades
en la preparacin de las aleaciones trmicas.
Para poder tener el depsito de una aleacin es necesario hacer estudios como el
que en esta prctica se proponen.

Procedimiento.
Preparar soluciones:
1.- Una solucin de NiSO4 6H2O en 240 g/l, NiCl2 45 g/l y H3BO3 30 g/l.
2.- Una solucin de CoSO4 8 g/l
3.- Una solucin para depositar Ni-Co, Problema.

En una celda de coloc una placa de acero previamente lijada y secada con
acetona. Se arm la celda como se muestra en la figura foto- y se aplic un
barrido de -1.5 V en la zona catdica para los baos de Ni, Co, Ni-Co y solucin fi.

Tambin se realiz un barrido en la zona andica de +1.5V con electrodo de Ni.

Preparar tres electrodos de acero al C y lijar y secar con acetona. Este puede ser
de acero 1018.
Con el Potenciostato y Generador de barrido, barriendo en direccin catdica de
cada una de estas soluciones del potencial de equilibrio hasta 1 V. En caso de que
no se apreciara la corriente lmite, se puede modificar el sobrepotencial a -1.5 V.
Se recomienda que la velocidad de barrido sea de 1 mV/seg y se debe mantener
constante en todas las curvas. Despus de cada prueba observe la apariencia del
electrodo de trabajo.

Realizar la curva andica de disolucin de un electrodo de Ni.

Resultados:

Ejemplo de clculo

Dimetro: 1.8 cm
0.9 cm


rea=

log i=log
( 0.005 mA
2
2.54 cm )=2.705
mA
cm
2
Se tomaron las corrientes a una velocidad de 10 mA/seg en las pruebas de Ni, Co,
Ni-Co, solucin problema y la placa de Ni.

Bao de CoSO4 (Co) zona catdica

E mV I mA log i

Erep 0.005 -
-665 2.7058637
1
-715 -0.096 -
1.4225624
8
-765 -0.143 -
1.2494976
8
-815 -0.207 -
1.0888633
7
-865 -0.28 -
0.9576756
9
-915 -0.382 -
0.8227703
5
-965 -0.49 -
0.7146376
4
-1015 -0.745 -
0.5326774
4
-1065 -1.08 -
0.3714099
6
-1215 -1.23 -
0.3149286
1
-1265 -1.51 -
0.2258567
7
-1315 -1.71 -
0.1718376
 1
-1365 -1.93 -
0.1192764
1
-1415 -2.11 -
0.0805512
6
-1465 -2.32 -
0.0393457
3
-1515 -2.53 -
0.0017132
-1565 -2.73 0.0313289
3
-1615 -2.95 0.0649883
-1665 -3.07 0.0823046
6
-1715 -3.19 0.0989569
7
-1765 -3.32 0.1163043
7
-1815 -3.41 0.1279206
6
-1865 -3.45 0.1329853
8
-1915 -3.41 0.1279206
6
-1965 -3.47 0.1354957
6
-2015 -3.63 0.1550729
1
-2065 -3.7 0.1633680
1
-2115 -3.83 0.1783650
6
-2165 -3.95 0.1917633
8
-2215 -4.08 0.2058264
5

Bao de watts (Ni) zona catdica

E mV I mA log i
Erep 0.04 -
-610 1.8027737
3
-660 -0.079 -
1.5072066
3
-710 -0.147 -
1.2375163
8
-760 -0.282 -
0.9545846
1
-810 -0.226 -
1.0507252
8
-860 -3.74 0.1680378
9
-910 -5.16 0.3078159
9
-960 -6.23 0.3896543
3
-1010 -7.35 0.4614536
2
-1060 -8.69 0.5341860
6
-1110 -10.3 0.6080035
1
-1160 -12 0.6743475
3
-1210 -13.6 0.7287051
9
-1260 -15 0.7712575
4
-1310 -16.7 0.8178827
5
-1360 -18.3 0.8576173
7
-1410 -20.1 0.8983623
4
-1460 -22.1 0.9395585
6
-1510 -24.2 0.9789816
5
-1560 -26.1 1.0118067
9
-1610 -28 1.0423243
1
-1660 -29.5 1.0649883
-1710 -30.9 1.0851247
6
-1760 -32.3 1.1043688
1
 -1810 -33.8 1.1240829
8
-1860 -35.4 1.1441695
5
-1910 -36.9 1.1621926
5
-1960 -38.7 1.1828772
5
-2010 -40 1.1972262
7
-2060 -42 1.2184155
7

Solucin aleacin (Ni-Co) zona catdica

E mV I mA log i

Erep 0.085 -
-595 1.4754147
9
-645 -0.042 -
1.7815844
3
-695 -0.095 -
1.4271101
1
-745 -0.153 -
1.2201422
9
-795 -0.299 -
0.9291625
3
-845 -0.61 -
0.6195038
8
-895 -0.895 -
0.4530106
8
-945 -2.03 -
0.0973376
8
-995 -4.57 0.2550824
8
-1045 -6.74 0.4238261
8
-1095 -8.76 0.5376703
9
 -1145 -10.32 0.6088459
8
-1195 -12.2 0.6815261
1
-1245 -14 0.7412943
2
-1295 -15.8 0.7938233
7
-1345 -17.7 0.8431395
5
-1395 -19.8 0.8918314
7
-1445 -22.1 0.9395585
6
-1495 -24 0.9753775
3
-1545 -26.4 1.0167702
1
-1595 -28.5 1.0500111
4
-1645 -30.7 1.0823046
6
-1695 -34.1 1.1279206
6
-1745 -36.2 1.1538748
5
-1795 -38.4 1.1794975
1
-1845 -40.7 1.2047606
9
-1895 -43.4 1.2326560
1
-1945 -45.6 1.2541311
3
-1995 -48.4 1.2800116
5
-2045 -50.9 1.3018840
7
-2095 -53.4 1.3227075
4

Solucin fi (zona catdica)

E mV I mA log i
Erep -0.03 -
-615 1.9277124
6
-665 -0.183 -
1.1423826
3
-715 -0.353 -
0.8570590
1
-765 -0.567 -
0.6512506
6
-815 -0.907 -
0.4472264
3
-865 -1.85 -
0.1376619
9
-915 -3.16 0.0948533
7
-965 -4.61 0.2588672
1
-1015 -6.15 0.3840414
-1065 -7.81 0.4878173
2
-1215 -9.23 0.5603679
8
-1265 -10.5 0.6163555
8
-1315 -11.7 0.6633521
5
-1365 -13.2 0.7157402
1
-1415 -14.8 0.765428
-1465 -16.4 0.8100101
3
-1515 -18 0.8504387
9
-1565 -19.7 0.8896325
1
-1615 -21.4 0.9255800
6
-1665 -23.2 0.9606542
7
-1715 -25 0.9931062
9
-1765 -26.7 1.0216775
4
-1815 -28.6 1.0515323
2
-1865 -30.4 1.0780398
 7
-1915 -32.2 1.1030221
6
-1965 -34.1 1.1279206
6
-2015 -36.1 1.1526734
9
-2065 -37.9 1.1738054
9
-2115 -39.7 1.1939567
9
-2165 -41.7 1.2153023
4

Placa de Ni (zona andica)

E mV I mA log i

Erep 0.001 -4.30103

20
70 0.004 -
4.243038
05
120 0.014 -
3.933053
21
170 0.02 -
3.929418
93
220 0.023 -
3.980694
84
270 0.027 -4
320 0.031 -
4.013788
28
370 0.039 -
3.977137
12
420 0.05 -
3.924279
 29
470 0.068 -
3.839588
95
520 0.12 -
3.636822
1
570 0.225 -
3.403692
34
620 0.961 -
2.809668
3
670 2.8 -
2.378916
77
720 5.03 -
2.155764
51
770 7.4 -
2.017259
01
820 9.63 -
1.930187
57
870 12.12 -
1.856016
63
920 14.43 -
1.804521
5
970 17.22 -
1.750738
59
1020 19.8 -
1.711934
98
1070 21.8 -
1.690927
28
1120 24 -
1.669006
78
1170 26.2 -
1.649884
57
1220 28.6 -
1.629993
8
1270 30.9 -
1.613845
24
1320 33.1 -
1.600745
94
1370 35.4 -
1.587717
31
1420 37.4 -
1.579416
74
1470 39.9 -
1.566344
44
1520 42.1 -
1.557561
49
 0
-2 -1.5 -1 -0.5 0 0.5 1 1.5

-500

-1000

E (mV) Bao Ni
Bao Co
-1500
Bao Ni-Co

-2000

-2500

log i (mA)

Comparacin grficas para determinar la solucin problema (fi)

0
-2.5 -2 -1.5 -1 -0.5 0 0.5 1 1.5

-500

-1000

E (mV)
Solucin Ni
-1500 Solucin f

-2000

-2500

log i (mA)
 0
-2.5 -2 -1.5 -1 -0.5 0 0.5 1 1.5 2

-500

-1000

E (mV)
Bao Ni-Co
-1500 Solucin f

-2000

-2500

log i (mA)

Anlisis:

Hay dos curvas que se parece mucho a la solucin fi comparadas en una grfica
conjunta, las cuales son del bao de Ni y Ni-Co. Ante esta disyuntiva se analizan
con la solucin problema por separado y se aprecia que la curva que ms se
asemeja es la de Ni-Co.

Esto nos supone que la disolucin problema contiene ms % de Ni por su similitud

con la grfica que de Co por la disparidad que presenta.

Conclusiones:

Mediante un estudio de soluciones conocidas y una solucin problema mediante

curvas de polarizacin, se obtuvo la respuesta por comparacin de grficos que la
solucin fi corresponde al bao de Ni-Co.

Mediante ste mtodo podemos resolver que bao es el que estamos usando en
caso de un mal etiquetado o falta de ste.

Tambin se puede saber el potencial a trabajar en una solucin trabajando la curva

en la zona lmite catdica- y extrapolndola en el eje de E (mV) a la curva
andica; as encontraremos el E ha trabajar favorablemente.
Actividades Complementarias.

Utilizando la curva catdica en el bao de Ni (Watts) y la curva andica del

electrodo de Ni Qu voltaje requiere la celda para obtener la densidad de corriente
recomendada en la prctica 1 para este bao?

1600

1400

1200

1000

E (mV) 800
Bao Ni catdica
600 Placa Ni andica

400

200

0
-4.5 -4 -3.5 -3 -2.5 -2 -1.5 -1

log i (mA)

Aunque las curvas catdicas y andicas no convergen en un mismo punto

alejndose entre s, podemos extrapolar grficamente el potencial requerido el cual
resulta en 2.03 V para tener una buena densidad de corriente.
En caso de no poderse obtener por tener limitacin de corriente andica, utilice la
curva andica de Pb en la solucin de sulfato de Cobre y obtenga el voltaje
requerido. Demuestre con las grficas como se obtiene este voltaje.

No fue necesario

Busque la tesis Julio Mancilla Prado. Tesis I.Q.M. Facultad de Qumica. UNAM. 1988.
Y grafique las curvas para Cd, Pb y Pb-Cd a partir de las tablas presentadas.
Corresponde La curva de La aleacin Pb-Cd a La suma de las curvas individuales
de Pb y Cd?

No se encontr el archivo en la red, por lo que no hay punto de comparacin.

Cuestionario.

1.- Cmo se define una aleacin y por cules mtodos se pueden obtener estas?

Material mecnico que se obtiene mediante combinaciones qumicas de distintos

elementos, (por ejemplo, el acero que se hace con hierro y carbono) comnmente las
aleaciones tienen mejores propiedades mecnicas que los elementos puros la mayora de
las aleaciones se preparaban mezclando los materiales fundidos. Ms recientemente, la
pulvimetalurgia ha alcanzado gran importancia en la preparacin de aleaciones con
caractersticas especiales. Otra tcnica de aleacin es la implantacin de ion, que ha sido
adaptada de los procesos utilizados para fabricar chips de ordenadores o computadoras.
Sobre los metales colocados en una cmara de vaco, se disparan haces de iones de
carbono, nitrgeno y otros elementos para producir una capa de aleacin fina y
resistente sobre la superficie del metal. Bombardeando titanio con nitrgeno, por
ejemplo, se puede producir una aleacin idnea para los implantes de prtesis.

Procesos de fusin.- Los componentes se calientan en un horno a una temperatura

superior a las de fusin, se logra una mezcla homognea y posteriormente se reduce la
temperatura hasta que solidifican de nuevo.

Electrlisis.-Si el electrolito contiene en disolucin cationes de los elementos que

queremos alear, con el paso de una corriente elctrica dichos iones se depositarn sobre
el ctodo.

Compresin.-Mediante un proceso similar a la sinterizacin, se mezclan los materiales

en forma de polvo o virutas, se aumenta la presin y se calienta la mezcla hasta
temperaturas inferiores a la de fusin.

2.- Cules son las consideraciones prcticas ms importantes para que se puedan
obtener aleaciones por la va electroltica?

Recubrimientos electrolticos.-Los procesos de recubrimientos electrolticos o qumicos

consisten en depositar por va electroqumica finas capas de metal sobre la superficie de
una pieza sumergida en una solucin de iones metlicos o electrolito. En este proceso se
usan productos qumicos relativamente puros, sales y metales, de forma que durante la
operacin se depositan completamente los metales empleados sobre las piezas.
La deposicin de un determinado metal puede obtenerse a partir de baos o electrolitos
de diferente composicin. Las propiedades especficas de los recubrimientos dependen
de los componentes del electrolito utilizado. La calidad de recubrimiento exigida para
un campo de aplicacin especfico, slo puede cumplirse manteniendo unas condiciones
de trabajos constantes y definidos y realizando un seguimiento exhaustivo de los
mismos.

La estabilidad a largo plazo de los electrolitos, de gran importancia para minimizar la

generacin de baos electrolticos contaminados a tratar, requiere un seguimiento
continuo de concentraciones de los compuestos bsicos, las condiciones fsicas y las
contaminaciones orgnicas e inorgnicas.

Asimismo hacen necesario un mantenimiento y una limpieza del bao para eliminar
partculas y sustancias contaminantes.
Existen diferentes tipos de recubrimientos: cobreado, niquelado, cromado, cincado y
qumicos por deposicin de nquel o por deposicin de cobre.

3.- Qu efectos tienen los aditivos en el depsito de las aleaciones?

Un modelo en el que los compuestos orgnicos compiten con el agua para ponerse en
contacto con el electrodo permite obtener una visin sencilla del proceso. Todo esto
ayuda a comprender si la sustancia orgnica es adsorbida o no a la diferencia de
potencial que prevalece en la interfase en la electrodeposicin. En este caso la relacin
de las velocidades de crecimiento sobre las diferentes caras se alterara con respecto a
las observadas en ausencia de aditivo orgnico y quiz las velocidades de crecimiento
podrn uniformarse lo que conducir a la formacin de depsitos uniformes planos

4.- Corresponde la aleacin de Ni-Co a la composicin de los baos de Ni y de Co?

Se asemeja ms al bao de Ni, se aleja un poco del bao de Co pero con la misma
tendencia.

5.- Qu mtodo de acercamiento de potenciales se utiliz en la obtencin de la aleacin

Ni-Co?

No entiendo la pregunta, ayuda.

6.-Si se requiere una densidad de corriente de 5 A/dm2 Qu diferencia de Voltaje

requerimos en esta celda utilizando un nodo de Ni?

Segn la grfica, no se alcanza en log i esa densidad de corriente. No le entend

tampoco.

Conclusiones:
(Anxela con base en los objetivos y a las observaciones.)
Bibliografa.
1.- Julio Mancilla Prado. Tesis I.Q.M. Facultad de Qumica. UNAM. 1988.
2.- Carlos R. Arganis Jurez. Tesis. I.Q.M. Facultad de Qumica UNAM. 1989.

Bases Tericas.
La solucin de alto campo para la ecuacin de Butler-Volmer, son las ecuaciones de
Tafel

Donde a es el sobrepotencial andico, ia es la densidad de corriente andica, io es

la densidad de corriente de intercambio y a es la pendiente de Tafel andica
definida como:

Donte R es la constante de los Gases, T es la temperatura es la fraccin que

ayuda a la reaccin andica, z el nmero de electrones intercambiados y F es la
constante de Faraday.

De igual forma para la reaccin catdica:

Dnde c es la pendiente de Tafel catdica:

Por otro lado se tiene la ecuacin de difusin de Nerst:

Dnde c es la concentracin dela solucin y co es la concentracin en la superficie

del electrodo.

La ecuacin de difusin de Nerst en funcin de la densidad de corriente i y de la

corriente lmite iL es:

Si se consideran todos los sobrepotenciales:

total= activacin+ difusin +resistencia

Dnde Rs es la resistencia de la solucin y Rf la resistencia de la capa pasiva.

A un potencial propuesto se puede iterar la corriente para cada reaccin y la corriente
total es la suma de las corrientes andicas y las corriente catdicas.
Por ejemplo para un electrodo de Zn en medio acido:

Y proponiendo estos parmetros se puede obtener la curva compuesta que es igual

a la curva experimental:

En pocas palabras, las curvas electroqumicas pueden estar compuestas por ms de

un proceso, tanto en la parte andica como en la catdica.