REAL MEZA JUAN CARLOS

MK3

EJERCICIO2
Se realiza un experimento para determinar el efecto de la velocidad de flujo del C2F6 sobre l
en una oblea de silicio usada para fabricar circuitos integrados. Se usan tres velocidades de fl
resultante ( en porciento) de seis replicas se muestran en la TABLA 2del archivo adjunto ¿La v
uniformidad del grabadoquimico?

tabla2
OBSRVACION
Flujo de C2F6 1 2 3 4
125 2,7 4,6 2,6 3
160 4,9 4,6 5 4,2
200 4,6 3,4 2,9 3,5

CUADRADOS
TRATAMIENTO 1 2 3 4
125 7,29 21,16 6,76 9
160 24,01 21,16 25 17,64
200 21,16 11,56 8,41 12,25

GRADOS DE LIBERTAD CUADRADOS MEDIOS(MC)

MEDIOS (MS)
TOTAL 17 TRATAMIENTO 1,82
TRATAMIENTOS 2 ERRORES 0,51
ERRORES 15

F0 3,59
a 0,01
Fa, grados libertad 1, grados
6,36 libertad 2
Prueba log. Aceptar H0
elocidad de flujo del C2F6 sobre la uniformidad del grabado quimico
os. Se usan tres velocidades de flujo en el experimento y la uniformidad
TABLA 2del archivo adjunto ¿La velocidad de flujo del C2F6 afecta la

5 6 Total TOTAL CUADRAD

yi2/n
3,2 3,8 19,9 396,01 66 a
3,6 4,2 26,5 702,25 117,04 n
4,1 5,1 23,6 556,96 92,83
Suma 70 1655,22 275,87

5 6 TOTAL
10,24 14,44 68,89
12,96 17,64 118,41
16,81 26,01 96,2
SUMA 283,5

SSt 11,28
Sstratamientos 3,65
SSE 7,63
3
6