PROYECTO CONTROL Final Entrega

ANÁLISIS DE CONTROL DE UN PROCESO DE SAPONIFICACIÓN DE
ACETATO DE ETILO EN UN REACTOR CSTR NO ISOTÉRMICO.
Integrantes:
Oscar Alberto Linares Velosa 2154614

Daniela del Pilar Ferreira García 2144301
Andrés Mauricio Carrillo Hernández 2155238
Tatiana Andrea Tobar Cañas 2154611
Neil Arnstrong Ramirez Argumedo 2154741
Daniel Alberto Roa Guarin 2154739
DOCENTE:
Ing. Giovanni Morales
UNIVERSIDAD INDUSTRIAL DE SANTANDER

ESCUELA DE INGENIERÍA QUÍMICA
CONTROL DE PROCESOS QUÍMICOS- J1
BUCARAMANGA
2020-1
1
INTRODUCCIÓN
El Acetato de Sodio es un producto originado a partir de la reacción de

saponificación de C4H8O2, que es una reacción exotérmica que consiste en la
hidrólisis de una grasa alcalina con la presencia de una base acuosa fuerte
produciendo jabón para fines de limpieza o uso industrial y un alcohol. Este dicho
producto que es muy usado como aditivo alimenticio, y el etanol, un alcohol primario
más usado en la industria farmacéutica, alimentaria, etc.
En las industrias de proceso, los reactivos se convierten en los productos de manera

definida y controlada. El descontrol de las reacciones químicas ocurre bajo
condiciones anormales, por ejemplo, el mal funcionamiento del sistema de
refrigeración, presencia de contaminantes que afectan al producto como las
variables de temperatura, presión, el uso de catalizadores y contaminantes como el
agua, oxígeno del aire, gases generadas durante la reacción y otros que pueden
modificar las condiciones bajo las cuales las reacciones tienen lugar.
Con este trabajo se realiza un estudio y análisis de un reactor CSTR no isotérmico

donde se lleva a cabo una reacción exotérmica, desde el punto de vista del control
de la temperatura de salida del reactor y la concentración de Acetato de Sodio que
es nuestro producto de interés. Con el propósito es examinar y seleccionar un
mejor controlador apto para el lazo de control adecuado para este proceso.
Nuestro trabajo se enfoca en el diseño de un lazo de control para un reactor CSTR

no isotérmico, a través de la simulación Simulink Matlab como apoyo académico
para todo el desarrollo de un buen diseño funcional y mecánico de los equipos
presentes en la planta de obtención de Acetato de Sodio, así como las realizaciones
de la mayor parte de las tareas de un modo automatizado. Mediante el sistema de
control se pueden tener vigiladas y controladas, todo tipo de perturbaciones y
posibles desviaciones que ocurran a lo largo del proceso, que pueden llevar a cabo
de prevención de cualquier tipo de problemas que se presentan en la planta ya sea
por los factores que se llevan al descontrol de las reacciones químicas, accidentes,
fallas eléctricas, entre otros. Asimismo, el sistema de control se puede encargar de
devolver al estado estacionario del proceso o después de la marcha inicial para
poder mantener en ese estado, se pueden ver las distintas variables presentes
como: Concentraciones de entrada y salida, temperaturas y los flujos de entrada y
salida, mientras tanto analizando y regulando las posibles desviaciones y
perturbaciones que se produzcan a lo largo de la operación del reactor CSTR no
isotérmico.
2
OBJETIVO GENERAL
Analizar el comportamiento de control del proceso de saponificación del acetato de

etilo en un reactor CSTR no isotérmico, utilizando la herramienta computacional de
Simulink-Matlab.
OBJETIVOS
1. Comparar los resultados de la sintonización en lazo cerrado y abierto del

reactor CSTR no isotérmico.
2. Analizar el tipo de respuesta del sistema en lazo cerrado en un reactor CSTR

no isotérmico.
3. Determinar los offset en el diagrama de bloques del proceso de

saponificación de Acetato de Etilo en un reactor CSTR no isotérmico por
medio de un programa computacional a través de Simulink-Matlab.
4. Comparar los tipos controladores adecuados para este proceso de

saponificación del Acetato de Etilo en un reactor CSTR no isotérmico.
Figura 1. Esquema de un reactor CSTR con sus 3 lazos de control de

Concentración y Temperatura.
3
DEFINICIÓN DE LOS ELEMENTOS DE CONTROL PARA LOS DOS LAZOS
CERRADOS (SENSORES, ACCIÓN EN FALLA DE LA VÁLVULA, ACCIÓN DEL
CONTROLADOR).
Sensor
Es el elemento de control que predice el valor de la variable de salida, mediante un
cambio en una de sus propiedades y por el uso de una escala de calibración. La
transmisión de la información se efectúa con una señal digital, usualmente en el
intervalo entre 4 y 20 mA.
Selección de los sensores aplicado para este proceso:
• El sensor medidor de Concentración de Salida se trata de un refractómetro

iPR Basic 3, fabricada por la empresa alemana Schmidt-Haensch, miden
continuamente el índice de refracción, la concentración en milimolar y, por lo
tanto, la concentración de una mezcla líquida binaria o cuasi binaria. La
medición es independiente de la intensidad de la luz del diodo emisor de luz
(LED) y está libre de la deriva de la señal, lo que garantiza una máxima
precisión y un control mejorado del proceso. La medición en línea se realiza
en intervalos superior a 1 segundo. Su diseño especial y su configuración
electrónica lo hacen altamente flexible y muy fácil de operar. La programación
con un software de Windows también es muy sencilla. Opcionalmente, está
disponible un registrador de datos. Muy usado en las industrias de alimentos,
farmaceútica, laboratorios y sector químico.
Imagen tomada de la empresa Schmidt-Haensch
• El sensor medidor de Temperatura se trata de un, fabricada por la empresa

alemana Schmidt-Haensch, consta de un tubo de Flujo con sensor de
temperatura integrado, es muy común usado para medir el calor con el fin de
4
asegurar que el proceso se encuentre, o bien dentro de un cierto rango, lo
que proporciona seguridad en el uso de la aplicación, o bien en cumplimiento
de una condición obligatoria cuando se trata de calor extremo, riesgos, o
puntos de medición inaccesibles. De la imagen mostrada los tubos también
están hechos en acero inoxidable resistente a productos químicos o con
acoplamiento autosellante para una conexión / desconexión rápida y segura
de los circuladores de agua. Usado en laboratorios químicos, industria
petroquímica,textil, alimentos, etc.
Imagen tomada de la empresa Schmidt-Haensch

Controlador
Es el elemento del lazo de control que, en base de la señal enviada por el sensor y
el set point, define la señal que envía a la válvula; y esta ajusta su posición según
la señal del controlador.
Válvula
Es el elemento principal de control o regulación de un fluido. Dependiendo de la
seguridad del proceso, esta tiene dos acciones, abierta en falla o cerrada en falla.
Para este tipo de procesos es normalmente usada la válvula de estilo globo con
puerto único:
Válvula Tipo Globo:
Empresa Fabricante: EMERSON AUTOMATIONS SOLUTIONS
5
Cuerpos de válvula de puerto único
• El estilo de cuerpo de válvula de puerto único es el más común y tiene una
estructura sencilla.
• Las válvulas de puerto único están disponibles en diversas formas, como
globo, ángulo, barra sólida, forjadas y partidas.
• En muchos cuerpos de válvula de un solo asiento se utiliza una estructura de
jaula o de retención para retener el anillo de asiento, guiar el obturador de la válvula
y proporcionar un medio para establecer determinadas características de flujo.
Partes de una válvula tipo Globo.

Se anexa la tabla de especificaciones de la válvula aplicado para este proceso
6
Especificaciones de la valvula para manipular el flujo 1:
- valvula lineal
- tamaño de valvula: 1/2 in
- estilo del obturador de la valvula: guiado por poste
- diametro del puerto: 0,38 in
- carrera nominal: 0,5 in
- Cv: 2,41
Especificaciones de la valvula para manipular el flujo 2:

- valvula lineal
- tamaño de valvula: 1/2 in
- estilo del obturador de la valvula: guiado por poste
- diametro del puerto: 0,38 in
- carrera nominal: 0,5 in
- Cv: 2,41
Especificaciones de la valvula para manipular el flujo de

chaqueta de enfriamiento:
- valvula isoporcentual
- tamaño de valvula: 1 in
- estilo del obturador de la valvula: micro-form
- diametro del puerto: 1/2 in
- carrera nominal: 3/4 in
- Cv:4,91
Tabla 1. Especificaciones de las válvulas aplicadas para este proceso
7
Los lazos de control elegidos son:
• Lazo de control de la temperatura de salida del reactor
En este caso, la acción de la válvula es abierta en falla por seguridad de

procesos, esto se debe a que, si la temperatura dentro del reactor aumenta,
la presión aumenta, lo cual podría ocasionar accidentes o descomposición
de los reactivos y productos.
La acción del controlador es inversa ya que la válvula al ser abierta en falla

necesita una máxima señal para abrirse y dejar pasar mayor flujo de
refrigerante para controlar la temperatura a la salida del reactor.
• Lazo de control de la concentración del producto principal F (Acetato de

Sodio), el cual depende de las concentraciones de los reactivos, porque se
deben instalar dos sensores y dos controladores y dos válvulas.
En este caso, la acción de la válvula es cerrada en falla por conveniencia del

proceso, esto se debe a que, por ejemplo, en situaciones donde hay falla en
la electricidad de la planta, la válvula se cierra para evitar que los reactivos
sigan produciendo productos con concentraciones indeseadas.
La acción del controlador es directa ya que la válvula al ser cerrada en falla

necesita una mínima señal para cerrarse y no permitir el paso del flujo de los
reactivos.
Lazo cerrado Sensor Controlador Válvula

[4-20] mA
Temperatura de Acción Abierta en
Rango [K]
la chaqueta inversa falla
[297.99986, 298]
[4-20] mA Acción Cerrada en
Concentración F1
Rango [mmol/m3] directa falla
de salida del
producto Acción Cerrada en
principal [10,1E+10] F2
directa falla
8
Funciones de transferencia para el sensor y de la válvula
Para los flujos F1 y F2
𝑺𝒆𝒏𝒔𝒐𝒓 𝑯(𝒔) 𝒑𝒂𝒓𝒂 𝑪𝑭𝟐 𝑽á𝒍𝒗𝒖𝒍𝒂 𝑮𝒗 (𝒔)𝒑𝒂𝒓𝒂 𝑪𝑭𝟐
𝟏. 𝟓𝟓 ∗ 𝟏𝟎−𝟗 𝟏. 𝟒
𝑯(𝒔) = 𝑮𝒗 (𝒔) =
𝒔+𝟏 𝟐𝒔 + 𝟏
Para el flujo Fch
𝑺𝒆𝒏𝒔𝒐𝒓 𝑯(𝒔) 𝒑𝒂𝒓𝒂 𝒍𝒂 𝑻𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂 𝑽á𝒍𝒗𝒖𝒍𝒂 𝑮𝒗 (𝒔)𝒑𝒂𝒓𝒂 𝒍𝒂 𝒕𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂
𝟏. 𝟒 ∗ 𝟏𝟎−𝟒 −𝟐. 𝟖𝟔
𝑯(𝒔) = 𝑮𝒗 (𝒔) =
𝒔+𝟏 𝟐𝒔 + 𝟏
SINTONIZACIÓN EN LAZO CERRADO
CONTROLADOR PROPORCIONAL (Controller P):

Para los 2 steps de los flujos 𝐹1 𝑦 𝐹2 va con el mismo sensor para medir la
concentración del producto principal Acetato de Sodio 𝐶𝐹2 .
Figura 2. Configuración de Gain para controlador P donde 𝐾𝑝 = 0.5 ∗ 𝐾𝑢 a partir de

la tabla de sintonización de Ziegler-Nichols.
9
Figura 3. Sintonización de ZN para el lazo de control P de la concentración 𝐶𝐹2 .
Donde 𝐾𝑢 = 115000 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟓 ∗ 𝟏𝟏𝟓𝟎𝟎𝟎 = 𝟓𝟕𝟓𝟎𝟎.
Para el step flujo 𝐹𝑐ℎ donde se controla la Temperatura del reactor.
Figura 4. Configuración de Gain para controlador P donde 𝐾𝑝 = 0.5 ∗ 𝐾𝑢 a partir de

la tabla de sintonización de Ziegler-Nichols.
10
Figura 5. Sintonización de ZN para el lazo de control P de la Temperatura.
Donde 𝐾𝑢 = 1080 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟓 ∗ 𝟏𝟎𝟖𝟎 = 𝟓𝟒𝟎
CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO (Controller PI):

Figura 6. Configuración de Gain para controlador PI donde 𝐾𝑝 = 0.45 ∗ 𝐾𝑢 a partir

de la tabla de sintonización de Ziegler-Nichols.
Donde 𝐾𝑢 = 150000 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟒𝟓 ∗ 𝟏𝟓𝟎𝟎𝟎𝟎 = 𝟔𝟕𝟓𝟎𝟎.
11
Figura 7. Sintonización de ZN para el lazo de control PI de la concentración 𝐶𝐹2 .
Figura 8. Configuración de Gain para controlador PI donde 𝐾𝑝 = 0.45 ∗ 𝐾𝑢 a partir

12
Figura 9. Sintonización de ZN para el lazo de control PI de la Temperatura.
Donde 𝐾𝑢 = 900 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟒𝟓 ∗ 𝟗𝟎𝟎 = 𝟒𝟎𝟓
CONTROLADOR PROPORCIONAL-DERIVATIVO (Controller PD):

Figura 10. Configuración de Gain para controlador PD donde 𝐾𝑝 = 0.8 ∗ 𝐾𝑢 a partir

Donde 𝐾𝑢 = 72500 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟖 ∗ 𝟕𝟐𝟓𝟎𝟎 = 𝟓𝟖𝟎𝟎𝟎
13
Figura 11. Sintonización de ZN para el lazo de control PD de la concentración 𝐶𝐹2 .
Figura 12. Configuración de Gain para controlador PD donde 𝐾𝑝 = 0.8 ∗ 𝐾𝑢 a partir

Donde 𝐾𝑢 = 670 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟖 ∗ 𝟔𝟕𝟎 = 𝟓𝟑𝟔
14
Figura 13. Sintonización de ZN para el lazo de control PD de la Temperatura.
CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO-DERIVATIVO (Controller

PID):
Figura 14. Configuración de Gain para controlador PID donde 𝐾𝑝 = 0.6 ∗ 𝐾𝑢 a partir
Donde 𝐾𝑢 = 110000 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟔 ∗ 𝟏𝟏𝟎𝟎𝟎𝟎 = 𝟔𝟔𝟎𝟎𝟎
15
Figura 15. Sintonización de ZN para el lazo de control PID de la concentración 𝐶𝐹2 .
Figura 16. Configuración de Gain para controlador PID donde 𝐾𝑝 = 0.6 ∗ 𝐾𝑢 a partir
Donde 𝐾𝑢 = 530 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟔 ∗ 𝟓𝟑𝟎 = 𝟑𝟏𝟖
16
Figura 17. Sintonización de ZN para el lazo de control PID de la Temperatura.
Tabla de Resultados de Sintonización de Ziegel-Nichols para Lazo Cerrado
Concentración del producto principal Acetato de Sodio 𝐶𝐹2 .
Controlador Ganancia 𝒕𝒊 𝒕𝑫
P 57500 - -
PI 67500 1708.33 -
PID 66000 1025 256.25
PD 58000 - 256.25
Temperatura del Reactor
P 540 - -
PI 405 1741.66 -
PID 318 1045 261.25
PD 536 - 261.25
SINTONIZACIÓN EN LAZO ABIERTO.

Diagrama de lazo Abierto (Rectificado)
Al rectificar nuevamente de la primera entrega, podemos observar que hubo varias
inconsistencias en los balances de masa y energía en el reactor CSTR no
Isotérmico, realizamos de manera cuidadosa los procedimientos para hallar las
funciones de transferencias antes de proceder a la simulación, rectificar nuevamente
los signos, las derivadas y operaciones, entonces al simular, si se pudo estabilizar
en lazo abierto para las concentraciones de entrada, concentraciones de salida y
de las temperaturas del reactor y de la chaqueta. Se anexa los gráficos de la
respuesta como parte de la evidencia de la rectificación de la primera entrega.
17
Respuesta de Simulación en lazo abierto:
Para las concentraciones de salida
Las concentraciones de los reactivos y productos se presentan una perturbación

desde el inicio, a medida de que el tiempo ocurra la reacción para generar el
producto se estabiliza aproximadamente con un tiempo de simulación 12000 u.t.
Para las temperaturas de chaqueta y del reactor.
18
Las temperaturas del reactor y de la chaqueta, se puede observar que está
realizando el papel de enfriar el reactor, a medida de que el tiempo ocurra la reacción
para generar el producto y asi mismo se estabiliza la temperatura del reactor
aproximadamente con un tiempo de simulación cercana 10000 u.t.
RESPUESTA PARA LOS PRODUCTOS
Figura 18. Gráfica de simulación en lazo abierto para los productos de la reacción.
19
Respuesta: 2108.870
𝒚𝟏 = 0.283 ∗ 2108.870 = 596.810 𝒚𝟐 = 0.632 ∗ 2108.870 = 1332.806
𝐾 = 10544.35
Figura 19. Gráfica de simulación en lazo abierto para productos generada

por Matlab con aproximación FTPOMTM.
Deducimos los tiempos de la gráfica

𝑡1 = 77.116 𝑠 𝑡2 = 147.341 𝑠
Aplicando las fórmulas
𝜏
77.116 = 𝑡0 + 147.341 = 𝑡0 + 𝜏
3
Despejando de la fórmula
𝑡0 = 42.0035 𝑠 𝜏 = 105.338 𝑢. 𝑡.
P 0.000238 - -
PI 0.000214 139.872 -
PID 0.000285 84.007 21.00175
20
RESPUESTA PARA LOS REACTIVOS
Figura 20. Gráfica de simulación en lazo abierto para los reactivos.

Respuesta: 1520.223
𝒚𝟏 = 0.283 ∗ 1520.223 = 430.223 𝒚𝟐 = 0.632 ∗ 1520.223 = 960.781
K=7601.115
21
Figura 21. Gráfica de simulación en lazo abierto para reactivos generada
por Matlab con aproximación FTPOMTM.
Deducimos los tiempos de la gráfica

𝑡1 = 22.935 𝑠 𝑡2 = 73.674 𝑠
Aplicando las fórmulas
𝜏
22.935 = 𝑡0 + 73.674 = 𝑡0 + 𝜏
3
Despejando de la fórmula
𝑡0 = 0 𝑠 𝜏 = 73.4011 𝑢. 𝑡.
P 0.000132 - -
PI 0.000118 - -
PID 0.000158 - -
22
ANÁLISIS DE LAS RESPUESTAS DEL SISTEMA EN LAZO CERRADO CON
CONTROL P, PI, PID Y PD, ANTE PERTURBACIONES DE ±20% EN LAS
VARIABLES DE ENTRADA (ESCALÓN).
Escalón a=+0.2
CONTROLADOR PROPORCIONAL (P Controller):

Para los flujos 𝐹1 𝑦 𝐹2 va con el mismo sensor para medir la concentración del
producto principal Acetato de Sodio 𝐶𝐹2 .
Figura 22. Gráfica de simulación de Respuesta de las concentraciones de

Reactivos y Productos (Controlador P).
Figura 23. Gráfica de simulación de Respuesta de las Temperaturas del reactor y

de la chaqueta de enfriamiento (Controlador P).
23
Resultados en el display para el controlador P
Figura 24. Display de la simulación de controlador P.
CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO (PI Controller):


Reactivos y Productos (Controlador PI).
24

de la chaqueta de enfriamiento (Controlador PI).
Resultados en el display para el controlador PI
Figura 27. Display de la simulación de controlador PI.
25
CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO- DERIVATIVO (PID
Controller):

Reactivos y Productos (Controlador PID).

de la chaqueta de enfriamiento (Controlador PID).
26
Resultados en el display para el controlador PID
Figura 30. Display de la simulación de controlador PID.
CONTROLADOR PROPORCIONAL-DERIVATIVO (PD Controller):

Reactivos y Productos (Controlador PD).
27

Resultados en el display para el controlador PD
Figura 33. Display de la simulación de controlador PD.
28
Escalón a=-0.2
CONTROLADOR PROPORCIONAL (P Controller ):

Reactivos y Productos (Controlador P).

de la chaqueta de enfriamiento (Controlador P).
29
Resultados en el display para el controlador P
Figura 36. Display de la simulación de controlador P.
CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO (PI Controller):


Reactivos y Productos (Controlador PI).
30
Resultados en el display para el controlador PI
31
CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO- DERIVATIVO (PID
Controller):

Reactivos y Productos (Controlador PID).

de la chaqueta de enfriamiento (Controlador PID).
32
Resultados en el display para el controlador PID
CONTROLADOR PROPORCIONAL-DERIVATIVO (PD Controller):

Reactivos y Productos (Controlador PD).
33

de la chaqueta de enfriamiento (Controlador PD).
Resultados en el display para el controlador PD
Tabla de Resultados de Displays (Resumen)

Con escalón positivo
Controlador 𝑪𝑨𝟐 𝑪𝑩𝟐 𝑪𝑭𝟐 = 𝑪𝑮𝟐 𝑻𝒋 𝑻
P 𝟏𝟔𝟎𝟑 𝟏𝟔𝟎𝟑 𝟐𝟐𝟏𝟐 𝟑𝟐𝟏. 𝟑 −𝟑𝟐. 𝟕𝟕
PI 𝟐𝟏𝟔𝟓 𝟐𝟏𝟔𝟑 𝟐𝟗𝟓𝟒 𝟓𝟑𝟕. 𝟏 −𝟑𝟎. 𝟔
PID 𝟐𝟓𝟎𝟎 𝟐𝟒𝟗𝟖 𝟑𝟑𝟗𝟕 𝟔𝟔𝟕. 𝟏 −𝟐𝟖. 𝟖𝟔
PD 𝟏𝟔𝟎𝟒 𝟏𝟔𝟎𝟒 𝟐𝟐𝟏𝟑 𝟑𝟐𝟏. 𝟑 −𝟑𝟐. 𝟗𝟐
34
Con escalón negativo
Controlador 𝑪𝑨𝟐 𝑪𝑩𝟐 𝑪𝑭𝟐 = 𝑪𝑮𝟐 𝑻𝒋 𝑻
P 𝟏𝟔𝟎𝟑 𝟏𝟔𝟎𝟑 𝟐𝟐𝟏𝟐 𝟑𝟐𝟏. 𝟑 −𝟑𝟐. 𝟕𝟕
PI 𝟐𝟏𝟑𝟒 𝟐𝟏𝟑𝟓 𝟐𝟗𝟏𝟓 𝟓𝟐𝟓. 𝟕 −𝟑𝟎. 𝟕𝟐
PID 𝟐𝟒𝟓𝟑 𝟐𝟒𝟓𝟓 𝟑𝟑𝟑𝟕 𝟔𝟒𝟗. 𝟖 −𝟐𝟗. 𝟎𝟒
PD 𝟏𝟔𝟎𝟒 𝟏𝟔𝟎𝟒 𝟐𝟐𝟏𝟑 𝟑𝟐𝟏. 𝟑 −𝟑𝟐. 𝟗𝟐
En los dos lazos de control para la concentración y temperatura del reactor en el

sistema, se obtiene una respuesta similar al comportamiento de diferentes
controladores, como en el caso P y PD se presentan comportamiento muy idéntico
tanto como el PI y PID no se estabiliza el sistema, se puede ver que para ambos
escalones tienen el mismo comportamiento sin embargo la variación de los datos
de la respuesta es similar como en las concentraciones de salida y la temperatura
salida del reactor del sistema.
A medida que avanza la reacción, la chaqueta cumple el papel de recibir el calor

generado por la reacción, mientras tanto hace enfriar el reactor, el flujo de la
chaqueta sale con una temperatura menor a la del reactor, por lo que se asume que
la chaqueta pasa a ser una chaqueta de enfriamiento y se pudo estabilizar
comparado en la primera entrega.
CÁLCULO DE LOS OFFSET.

Para el controlador P
Figura 46. Display de la simulación de controlador P
35
Variable de control Escalón Positivo Escalón Negativo
𝑻𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂 𝒅𝒆𝒍 𝑹𝒆𝒂𝒄𝒕𝒐𝒓 𝟎. 𝟎𝟎𝟒𝟔𝟔𝟗 −𝟎. 𝟎𝟎𝟒𝟗𝟐
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟏) −𝟖. 𝟗𝟒𝟓 ∗ 𝟏𝟎−𝟕 −𝟓. 𝟗𝟔𝟖 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟐) −𝟏. 𝟑𝟔𝟓 ∗ 𝟏𝟎−𝟔 −𝟓. 𝟒𝟗𝟖 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
Para controlador PI

Variable a Controlar Escalón Positivo Escalón Negativo
𝑻𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂 𝒅𝒆𝒍 𝑹𝒆𝒂𝒄𝒕𝒐𝒓 𝟎. 𝟎𝟎𝟒𝟑𝟖𝟐 𝟎. 𝟎𝟒𝟐𝟏𝟗
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟏) −𝟐. 𝟎𝟑𝟗 ∗ 𝟏𝟎−𝟔 −𝟕. 𝟎𝟓𝟖 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟐) −𝟐. 𝟓𝟎𝟗 ∗ 𝟏𝟎−𝟔 −𝟔. 𝟓𝟖𝟖 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
Para controlador PID

Variable a Controlar escalón Positivo Escalón Negativo
𝑻𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂 𝒅𝒆𝒍 𝑹𝒆𝒂𝒄𝒕𝒐𝒓 𝟎. 𝟎𝟎𝟒𝟏𝟑𝟔 𝟎. 𝟎𝟎𝟑𝟗𝟕
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟏) −𝟐. 𝟕𝟐𝟓 ∗ 𝟏𝟎−𝟔 −𝟕. 𝟕𝟏𝟐 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟐) −𝟑. 𝟏𝟗𝟓 𝟏𝟎−𝟔 −𝟕. 𝟐𝟒𝟐 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
36
Para controlador PD

Variable a Controlar Escalón Positivo Escalón Negativo
𝑻𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂 𝒅𝒆𝒍 𝑹𝒆𝒂𝒄𝒕𝒐𝒓 𝟎. 𝟎𝟎𝟒𝟔𝟔𝟔 𝟎. 𝟎𝟎𝟒𝟓𝟏𝟒
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟏) −𝟖. 𝟗𝟒𝟒 ∗ 𝟏𝟎−𝟕 −𝟓. 𝟗𝟕 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
𝑪𝒐𝒏𝒄𝒆𝒏𝒕𝒓𝒂𝒄𝒊ó𝒏 𝑪𝑭𝟐 (𝑭𝟐) −𝟏. 𝟑𝟔𝟒 ∗ 𝟏𝟎−𝟔 −𝟓. 𝟓 ∗ 𝟏𝟎−𝟔
SELECCIÓN DEL CONTROLADOR MÁS ADECUADO PARA CADA LAZO.

La utilización de un controlador ofrece la capacidad de modificar la función de
transferencia en lazo abierto de manera que puede mejorarse significativamente el
comportamiento en lazo cerrado. Los controladores utilizados en forma industrial
son los controladores proporcionales (P), proporcional integral (PI) y la proporcional
integral-derivativo (PID). Estos controladores se pueden explicar en mejor forma
tomando en cuenta el lazo de control, Al utilizar el controlador P, la salida es
proporcional al error.
La utilización de un controlador P proporciona un aumento del número de tipo con
la correspondiente mejora de la capacidad de seguimiento en un estado
estacionario, El controlador P no cambia la forma del lugar de la raíz, dando una
mejor respuesta en el momento de la simulación en comparación con los demás
controladores utilizados para efectos de elección el mismo, Además, un controlador
P no entrega cero error en estado estacionario (a entrada escalón).
En el controlador P a medida de realizar un aumento de la ganancia permite reducir
el error en estado estacionario siendo el sistema estable, y el controlador
proporcional no añade al sistema ningún elemento integrador.
37
CONCLUSIONES.
Con base a lo anterior analizado en la simulación de Matlab-Simulink en lazo
cerrado de un reactor CSTR no isotérmico se puede concluir lo siguiente:
• Debido a que el sistema en la primera entrega era inestable, se volvió a

rectificar los valores de los parámetros de todos los balances se obtuvo que
había varias inconsistencias y esto proporcionó una propagación de errores
a través del sistema, luego de arreglar los errores se llegó a que el sistema
en general es estable en lazo abierto.
• Con la rectificación hecha la proceso, por la forma obtenida de las gráficas

de la respuesta ante la perturbación escalón se asume que la respuesta para
las diferentes variables son de tipo Subamortiguada.
• No se puede realizar sintonización de lazo abierto para la 𝑇𝑗 y es debido a

que los avances calculados para la sintonización no cruzan con la
aproximación de la curva de reacción estimada para un FTPOMTM.
• No es posible sintonizar la T en lazo abierto y esto se debe a que la

aproximación estimada arroja una línea con pendiente decreciente que
impide la sintonización ya que no cumple con la forma de la curva de reacción
para los cálculos necesarios.
• La razón por la que se escogen los sensores con rangos tan amplios es
porque para el sistema manejado se evidenció que los sistemas tendían a
ser estables entre más sensible era el sensor.
• Según el análisis de las respuestas del sistema para escalones positivo y

negativo los controladores P y PD para la respuesta del sistema tanto de
concentración como temperatura dieron una tendencia estable. Mientras que
al hacer la comparación con los controladores PI y PID, las respuestas del
sistema nunca llegaron a estabilizarse, dando como resultado curvas
exponencial. Como conclusión, los controladores que mejor se ajustan a este
tipo de sistema son los P y PD.
• Con las ganancias obtenidas de los controladores en lazo cerrado, se logra

evidenciar que la magnitud de la acción del controlador para la temperatura
es mucho más grande que la de los controladores para la concentración del
producto.
38
REFERENCIAS BIBLIOGRÁFICAS
[1] MUKHTAR, Ahmad; SHAFIQ, Umar; KHAN, Ali Feroz; QADIR, Hafiz Abdul y
QIZILBASH Masooma. “Estimation of Parameters of Arrhenius Equation for Ethyl
Acetate Saponification Reaction”. Octubre-Noviembre [2015]. Disponible en:
https://doi.org/10.21597/jist.410336
[2] AFZAL, Ahmad; MUHAMMAD, Imran Ahmad; MUHAMMAD, Younas; HAYAT,

Khan y MANSOOR, ul Hassan Shah. “A Comparative Study of Alkaline Hydrolysis
of Ethyl Acetate Using Design of Experiments”. Iranian Journal of Chemistry and
Chemical Engineering, 32(4), (Agosto 2013). Disponible en:
https://www.researchgate.net/publication/293158491_A_Comparative_Study_of_Al
kaline_Hydrolysis_of_Ethyl_Acetate_Using_Design_of_Experiments
[3] SEADER, J.D. y SOUTHWICK, L.M. “Saponification of Ethyl Acetate in Curved-

Tube Reactors”. (1981). Chemical Engineering Communications,9:1-6,Disponible
en: DOI: 10.1080/00986448108911022
[4] MUHAMMAD, Imran Ahmad e IHSAN, Ullah. Optimization of Saponification

Reaction in a Continuous Stirred Tank Reactor. NFC IEFR Journal of Engineering
and Scientific Research, [S.l.], v. 1, uly 2017. ISSN 2521-0114. Disponible en:
http://nijesr.com/ojs/index.php/archive/article/view/80
[5] DANISH, Mohd; MOHAMMED, K. Al Mesfer y MUHAMMAD Mamoon Rashid.

“Effect of Operating Conditions on CSTR performance: an Experimental Study.”
International Journal of Engineering Research and Applications 5 (2015): 74-78.
Disponible en: DOI: https://doi.org/10.1515/ijcre-2016-0174
[6] MENDIBURU DÍAZ, Henry A. “Diseño de un neurocontrolador dinámico (DBP)

aplicado a un reactor químico continuo (CSTR)”. Tesis para optar el título de Mg en
Ingeniería de Control y Automatización. Pontificia Universidad Católica del Perú.
(2011). Disponible en: http://tesis.pucp.edu.pe/repositorio/handle/20.500.12404/138
[7] NUÑEZ, Oscar, y CABRERA, Carlos C. “Comportamiento dinámico de la

saponificación del acetato de etilo en un reactor de tanque con reacción continua.”
Revista del Instituto de investigación de la Facultad de minas, metalurgia y ciencias
geográficas 14, no. 28 (2011). Disponible en:
https://revistasinvestigacion.unmsm.edu.pe/index.php/iigeo/article/view/676
[8] ZARE, Kirti; RAMTEKE, Sayali Sunil y MOHITE, Sapna Anil. “MODELLING AND
SIMULATION OF SAPONIFICATION REACTION IN DIFFERENT TYPE OF
39
REACTOR.” (2017). Disponible en:
https://www.academia.edu/32238349/MODELLING_AND_SIMULATION_OF_SAP
ONIFICATION_REACTION_IN_DIFFERENT_TYPE_OF_REACTOR
[9] ACOSTA MONGUA, Jair Alberto y PÉREZ MORENO, Rolando José. “Estudio
experimental y simulación de la saponificación del acetato de etilo en tres reactores
CSTR en serie”. Tesis para optar al título de Ingeniería Química. Universidad de
Cartagena (2012). Disponible en:
https://repositorio.unicartagena.edu.co/handle/11227/107
[10]MOUSA, Khalid M y DAWOOD, Zainab Essaim. “Study on Control of CSTR

Using Intelligent Strategies”. Al-Nahrain University, College of Engineering Journal
(NUCEJ) Vol.18 No.2, 2015 pp.294 – 303. Disponible en:
https://www.researchgate.net/publication/309940803_Study_on_Control_of_CSTR
_Using_Intelligent_Strategies
[11] WIJAYARATHNE, Upl y WASALATHILAKE, Kimal Chandula. “Aspen Plus

Simulation of Saponification of Ethyl Acetate in the Presence of Sodium Hydroxide
in a Plug Flow Reactor.” Journal of Chemical Engineering & Process Technology 5
(2014): 1-8. Disponible en: DOI:10.4172/2157-7048.1000205
[12] PEÑA T., Eliana; PÉREZ R.,Aida; MIRANDA,Auder J. y SÁNCHEZ, José H.

“Modelado de un reactor químico tipo CSTR y evaluación del control predictivo
aplicando Matlab-Simulink”. Centro de Investigación y Tecnología en
Automatización, Electrónica y Control (CITAEC), REVISTA INGENIERÍA UC. Vol.
15, No 3, 97-112, (2008). Disponible
en:https://www.researchgate.net/publication/237039047_Modelado_de_un_reactor
_quimico_tipo_CSTR_y_evaluacion_del_control_predictivo_aplicando_Matlab-
Simulink
[13] VILLARREAL González, Mauricio Joaquín. “Sensibility analysis to produce ethyl

acetate with sodium hydroxide in a tubular reactor from a simulation in COMSOL.”
Universidad Tecnológico de Monterrey. Disponible en:
https://www.researchgate.net/publication/323642391
[14] CHEN, Yue; MANOUSIOUTHAKIS, Vasilios y EDGAR, Thomas. “GLOBALLY

OPTIMAL NONLINEAR FEEDBACK: APPLICATION TO NONISOTHERMAL CSTR
CONTROL.” Chemical Engineering Communications, 193:2, 233-245 (2007),
Disponible en DOI: 10.1080/009864490949107.
40
[15] KANDIYOTI, Rafael. (2009) FUNDAMENTALS OF REACTION ENGINEERING.
Editorial Bookboon. Disponible en: https://bookboon.com/es/fundamentals-of-
reaction-engineering-ebook
[16] CHEN, Kuo-Chieh; TSENG, Ching-Guey y WEN-TENGTeng Wu. ADAPTIVE

CONTROL OF A NONISOTHERMAL CSTR WITH OUTPUT CONSTRAINT.
Chemical Engineering Communications, 110:1, 187-197, (2010), Disponible en DOI:
http://dx.doi.org/10.1080/00986449108939949
[17] CZECZOT, Jacek. ”Balance-based adaptive control methodology and its

application to the non-isothermal CSTR”. Institute of Automatic Control, Silesian
University of Technology, ul. Akademicka 16, 44-100 Gliwice, Poland. Disponible en
DOI: https://doi.org/10.1016/j.cep.2005.10.002
[18] SMITH, J. M. (1997). “Ingeniería de la Cinética Química”. Editorial CECSA.

México. Disponible en:
https://ingenieriapetroquimicaunefazulia.files.wordpress.com/2011/05/ingenieria-
de-la-cinetica-quimica-de-j-r-smith.pdf
[19] SHINSKEY, F. G. (1988). “Process Control Systems (Application, Design and

Tuning)”. Mc Graw Hill. Third Edition. U.S.A. Disponible en:
ftp://ftp.unicauca.edu.co/Facultades/FIET/DEIC/Materias/Instrumentacion%20Indus
trial/Instrument%20Engineers%27%20Handbook,%20Fourth%20Edition,%20Volu
me%20Two-%20Process%20Control%20and%20Optimization/1081ch2_3.pdf
[20] LUYBEN, W.L. (1990). “Process modeling, simulation, and control for chemical
engineers”. McGraw-Hill. New York. Disponible en:
https://www.academia.edu/37228967/Process_Modeling_Simulation_and_Control_
for_Chemical_Engineers
[21] FOGLER, S. (2008). “Elementos de ingeniería de las reacciones químicas”.

Pearson Prentice Hall. Cuarta Edición. México. Disponible en:
https://www.academia.edu/31081071/Fogler_elementos_de_ingenieria_de_las_rea
cciones_quimicas_150827030617_lva1_app
[22] PERRY, Robert. (1994). “Manual del Ingeniero Químico”. (4 Tomos). McGraw-
Hill. 7ed. México. Disponible en:
https://es.slideshare.net/josejuanrochalopez1/manual-del-ingeniero-qumico-perry-
tomos-16
41
[23] “Ingeniería de Calor, Capitulo 3: Cambiadores de Calor de serpentines y
chaqueta.” Disponible en:
https://librosdrvaliente.files.wordpress.com/2015/09/capc3adtulo-3-cambiadores-
de-calor-de-serpentin-y-chaqueta.pdf
[24] PEREIRA,Borja;CASASSAS García, Gil; MONSERRAT,Margalida Servera;

TKATCHENKO,Raphaela y GIMENEZ DE LA FUENTE, Raúl. “Manual de cálculo:
Capítulo XI: Planta de producción de Ácido Fórmico”. Universidad Autónoma de
Barcelona (2015-2016). Disponible en:
https://ddd.uab.cat/pub/tfg/2016/168452/TFG_AFOR_v11.pdf
[25] VILLARACO-García Nieva, Guillermo. “Chem. Reactor Simulator: Herramienta

de simulación de CSTR como apoyo a la docencia.”. Tesis para optar al título de
Ingeniería Química. Escuela Técnica Superior de Ingenieros Industriales de la
Universidad Politécnica de Madrid (2016). Disponible en:
http://oa.upm.es/42867/1/TFG_GUILLERMO_NIEVA_GARCIA_VILLARACO.pdf
[26] PÉREZ, Velasco A.;RAMÍREZ, Álvarez J.; GONZÁLEZ, Solar R. “CONTROL

MÚLTIPLE ENTRADA UNA SALIDA (MISO) DE UN CSTR.” Revista Mexicana de
Ingeniería Química. Vol 10. (2011). Disponible en:
http://www.scielo.org.mx/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1665-
27382011000200016
[27] COX, C., TINDLE, J., & BURN, K.. A comparison of software-based approaches
to identifying FOPDT and SOPDT model parameters from process step response
data. Applied Mathematical Modelling, 40(1), 100–114. (2016) Disponible en DOI:
10.1016/j.apm.2015.05.007
[28] SCHMIDT-HAENSCH, Referencia del SENSOR DE TEMPERATURA tipo tubo

de Flujo con sensor de temperatura integrado. Disponible en: https://schmidt-
haensch.com/products/accessories/polarimeter/flow-through-tube-with-integrated-
temperature-sensor/
[29] SCHMIDT-HAENSCH, Referencia del SENSOR DE CONCENTRACIÓN tipo

iPR Basic 3. Disponible en: https://schmidt-haensch.com/products/process-
instruments
[30] EMERSON AUTOMATIONS SOLUTIONS, Guía de Válvulas de Control 5ed.

Disponible en: https://www.emerson.com/documents/automation/gu%EDa-de-v%E1lvulas-
de%A0control-control-valve-handbook-es-5459932.pdf
42
ANEXOS
1) Diagrama de Bloques completo en la simulación versión PDF en Lazo Abierto
con las funciones rectificadas.
2) Diagrama de Bloques completo en la simulación tipo PDF para análisis de
respuesta.
3) Diagrama de Bloques completo en la simulación tipo PDF para el cálculo de
Offset.
4) Diagrama de Bloques completo en la simulación tipo PDF para la
sintonización de Lazo Cerrado.
5) 4 Carpetas con 13 simuladores correspondientes junto con las evidencias ya
mencionadas.
43

PROYECTO CONTROL Final Entrega

Cargado por

Información del documento

Descripción original:

Título original

Derechos de autor

Formatos disponibles

Compartir este documento

Compartir o incrustar documentos

Opciones para compartir

¿Le pareció útil este documento?

¿Este contenido es inapropiado?

Copyright:

Formatos disponibles

PROYECTO CONTROL Final Entrega

Cargado por

Copyright:

Formatos disponibles

ANÁLISIS DE CONTROL DE UN PROCESO DE SAPONIFICACIÓN DE

ACETATO DE ETILO EN UN REACTOR CSTR NO ISOTÉRMICO.

Oscar Alberto Linares Velosa 2154614

UNIVERSIDAD INDUSTRIAL DE SANTANDER

El Acetato de Sodio es un producto originado a partir de la reacción de

En las industrias de proceso, los reactivos se convierten en los productos de manera

Con este trabajo se realiza un estudio y análisis de un reactor CSTR no isotérmico

Nuestro trabajo se enfoca en el diseño de un lazo de control para un reactor CSTR

Analizar el comportamiento de control del proceso de saponificación del acetato de

1. Comparar los resultados de la sintonización en lazo cerrado y abierto del

2. Analizar el tipo de respuesta del sistema en lazo cerrado en un reactor CSTR

3. Determinar los offset en el diagrama de bloques del proceso de

4. Comparar los tipos controladores adecuados para este proceso de

Figura 1. Esquema de un reactor CSTR con sus 3 lazos de control de

• El sensor medidor de Concentración de Salida se trata de un refractómetro

Imagen tomada de la empresa Schmidt-Haensch

• El sensor medidor de Temperatura se trata de un, fabricada por la empresa

Imagen tomada de la empresa Schmidt-Haensch

Partes de una válvula tipo Globo.

Especificaciones de la valvula para manipular el flujo 2:

Especificaciones de la valvula para manipular el flujo de

Tabla 1. Especificaciones de las válvulas aplicadas para este proceso

En este caso, la acción de la válvula es abierta en falla por seguridad de

La acción del controlador es inversa ya que la válvula al ser abierta en falla

• Lazo de control de la concentración del producto principal F (Acetato de

En este caso, la acción de la válvula es cerrada en falla por conveniencia del

La acción del controlador es directa ya que la válvula al ser cerrada en falla

Lazo cerrado Sensor Controlador Válvula

𝑺𝒆𝒏𝒔𝒐𝒓 𝑯(𝒔) 𝒑𝒂𝒓𝒂 𝑪𝑭𝟐 𝑽á𝒍𝒗𝒖𝒍𝒂 𝑮𝒗 (𝒔)𝒑𝒂𝒓𝒂 𝑪𝑭𝟐

Para el flujo Fch

𝑺𝒆𝒏𝒔𝒐𝒓 𝑯(𝒔) 𝒑𝒂𝒓𝒂 𝒍𝒂 𝑻𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂 𝑽á𝒍𝒗𝒖𝒍𝒂 𝑮𝒗 (𝒔)𝒑𝒂𝒓𝒂 𝒍𝒂 𝒕𝒆𝒎𝒑𝒆𝒓𝒂𝒕𝒖𝒓𝒂

SINTONIZACIÓN EN LAZO CERRADO

CONTROLADOR PROPORCIONAL (Controller P):

Figura 2. Configuración de Gain para controlador P donde 𝐾𝑝 = 0.5 ∗ 𝐾𝑢 a partir de

Donde 𝐾𝑢 = 115000 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟓 ∗ 𝟏𝟏𝟓𝟎𝟎𝟎 = 𝟓𝟕𝟓𝟎𝟎.

Para el step flujo 𝐹𝑐ℎ donde se controla la Temperatura del reactor.

Figura 4. Configuración de Gain para controlador P donde 𝐾𝑝 = 0.5 ∗ 𝐾𝑢 a partir de

Donde 𝐾𝑢 = 1080 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟓 ∗ 𝟏𝟎𝟖𝟎 = 𝟓𝟒𝟎

CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO (Controller PI):

Figura 6. Configuración de Gain para controlador PI donde 𝐾𝑝 = 0.45 ∗ 𝐾𝑢 a partir

Donde 𝐾𝑢 = 150000 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟒𝟓 ∗ 𝟏𝟓𝟎𝟎𝟎𝟎 = 𝟔𝟕𝟓𝟎𝟎.

Para el step flujo 𝐹𝑐ℎ donde se controla la Temperatura del reactor.

Figura 8. Configuración de Gain para controlador PI donde 𝐾𝑝 = 0.45 ∗ 𝐾𝑢 a partir

Donde 𝐾𝑢 = 900 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟒𝟓 ∗ 𝟗𝟎𝟎 = 𝟒𝟎𝟓

CONTROLADOR PROPORCIONAL-DERIVATIVO (Controller PD):

Figura 10. Configuración de Gain para controlador PD donde 𝐾𝑝 = 0.8 ∗ 𝐾𝑢 a partir

Donde 𝐾𝑢 = 72500 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟖 ∗ 𝟕𝟐𝟓𝟎𝟎 = 𝟓𝟖𝟎𝟎𝟎

Para el step flujo 𝐹𝑐ℎ donde se controla la Temperatura del reactor.

Figura 12. Configuración de Gain para controlador PD donde 𝐾𝑝 = 0.8 ∗ 𝐾𝑢 a partir

Donde 𝐾𝑢 = 670 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟖 ∗ 𝟔𝟕𝟎 = 𝟓𝟑𝟔

CONTROLADOR PROPORCIONAL-INTEGRATIVO-DERIVATIVO (Controller

Donde 𝐾𝑢 = 110000 y 𝑲𝒑 = 𝟎. 𝟔 ∗ 𝟏𝟏𝟎𝟎𝟎𝟎 = 𝟔𝟔𝟎𝟎𝟎

SINTONIZACIÓN EN LAZO ABIERTO.

Las concentraciones de los reactivos y productos se presentan una perturbación

Figura 19. Gráfica de simulación en lazo abierto para productos generada

Deducimos los tiempos de la gráfica

Figura 20. Gráfica de simulación en lazo abierto para los reactivos.

Deducimos los tiempos de la gráfica

CONTROLADOR PROPORCIONAL (P Controller):

Figura 22. Gráfica de simulación de Respuesta de las concentraciones de

Para el step flujo 𝐹𝑐ℎ donde se controla la Temperatura del reactor.

Figura 23. Gráfica de simulación de Respuesta de las Temperaturas del reactor y