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Informe de Plateado
Informe de Plateado
ELECTRODEPOSICION DE LA PLATA
POR:
HUANCAYO – PERÚ
2017
ELECTRODEPOSICIÓN
DE LA PLATA
ÍNDICE
CARATULA Error! Bookmark not defined.
RESUMEN 5
HOJA DE NOTACIÓN O NOMENCLATURA 6
I. INTRODUCCIÓN 7
OBJETIVOS 8
OBJETIVO GENERAL 8
OBJETIVO ESPECIFICO 8
II. MARCO TEÓRICO 9
2.1. ELECTROQUIMICA 9
2.1.1. EL POTENCIAL DE REDUCCIÓN 9
2.2. ELECTRODEPOSICION 10
2.3. PROCESO FISICO-QUIMICO 12
2.3.1. LEYES DE FARADAY: 12
2.3.2. Proceso electrolítico: 13
2.4. DISEÑO DE UN SISTEMA DE ELECTRODEPOSICIÓN: 14
2.4.1. ELECCIÓN DEL METAL RECUBRIDOR (ANODO) 14
2.5. REACCIONES QUÍMICAS: 16
2.5.1. Reducción catódica de la plata.- 16
2.5.2. Reducción de oxígeno y agua.- 16
2.5.3. Reacciones anódicas: 16
2.6. FACTORES QUE AFECTAN A LA EFICIENCIA ELECTRODEPOSICIÓN: 17
III. MÉTODOS Y MATERIALES 18
3.1. MÉTODO 18
3.2. DESCRIPCIÓN DEL EQUIPO 18
3.3. MATERIALES Y REACTIVOS 19
3.4. PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL 19
3.5. DATOS OBTENIDOS 20
3.6. CÁLCULOS 20
3.6.1. DETERMINACIÓN DE LA MASA TEÓRICA 21
3.6.2. DETERMINACIÓN DE LA MASA PRÁCTICA 21
3.6.3. DETERMINANDO EL ERROR RELATIVO: 22
3.6.4. DETERMINANDO LA EFICIENCIA (n) 22
IV. RESULTADO 23
V. DISCUSIÓN DE RESULTADOS 24
VI. CONCLUSIONES 25
VII. RECOMENDACIONES 26
VIII. REFERENCIA BIBLIOGRÁFIC 27
ANEXOS 28
RESUMEN
𝐸: Voltaje
OBJETIVO GENERAL
OBJETIVO ESPECIFICO
La electrodeposición se utiliza principalmente para conferir una capa con una propiedad
deseada (por ejemplo, resistencia a la abrasión y al desgaste, protección frente a la
corrosión, la necesidad de lubricación, cualidades estéticas, etc.) a una superficie que de
otro modo carece de esa propiedad. Otra aplicación de la electrodeposición es recrecer
el espesor de las piezas desgastadas p.e. mediante el cromo duro.
FIGURA 2.1: Celda de electrodeposición
Recordemos que el ánodo de este sistema estará hecho del metal con que se quiere
recubrir la pieza, para que pueda disolverse, oxidarse, cediendo electrones y aportando
iones a la solución, a medida que los iones que estaban presentes en la solución, se
reducen y se depositan sobre la pieza a recubrir, que funciona como cátodo en el sistema.
Todo este proceso es posible gracias a la corriente continua que permite la movilización
de electrones.
Otro punto a destacar es que las propiedades que tendrá la capa que recubre la pieza,
depende directamente de la corriente que se haya aplicado. La adherencia de la capa,
su calidad, la velocidad de deposición, dependen del voltaje y de otros factores
relacionados con la corriente aplicada.
También hay que tener en cuenta que si el objeto a recubrir tiene una superficie
intrincada, la capa formada será más gruesa en algunos puntos y más fina en otros. De
todos modos, existen maneras de eludir este inconveniente, por ejemplo, utilizando un
ánodo con forma similar a la de la pieza a recubrir.
Este procedimiento es utilizado para brindarle resistencia a la corrosión a una
determinada pieza, también para que aumente su resistencia a la abrasión, para mejorar
su estética, entre otras funciones.
Una de las aplicaciones frecuentes de este procedimiento, es en la joyería, en donde una
pieza realizada con un material barato, se recubre de una capa de oro o plata, para
protegerla de la corrosión y para aumentar el valor de la pieza.
Incluso se logran recubrir piezas plásticas con capas metálicas, logrando que la pieza
tenga las propiedades del metal, en su superficie.
La electrodeposición es uno de los procesos electroquímicos aplicado a nivel industrial,
que tiene mayor importancia en cuanto a volumen de producción, y es también uno de
los que causan mayor impacto económico, ya que se logra que piezas constituidas por
material barato, tengas excelentes características de resistencia a la corrosión, gracias a
la capa metálica electrodepositada. Algunos ejemplos son el zincado electrolítico, los
procesos de estañado y cromado, entre otros.
Los electrodepósitos de aleaciones de zinc tienen frecuentemente mayor resistencia a la
oxidación que los de zinc, y sustituyeron a los antiguos recubrimientos con cadmio, metal
potencialmente tóxico.
Un ejemplo de electrodeposición fácil de realizar en cualquier laboratorio, es la
electrodeposición de cobre sobre un clip.
Sólo necesitamos un trozo de cobre, una solución de sulfato de cobre, un clip y una fuente
de corriente continua. El dispositivo se armará como se ve en la figura de abajo.
FIGURA 2.2: Electrodeposición de cobre sobre un clip
Segunda ley.-
(ASM., 1994.) El proceso electrolítico consiste en hacer pasar una corriente eléctrica a
través de un electrolito, entre dos electrodos conductores denominados ánodo y cátodo.
Donde los cambios ocurren en los electrodos.
Cuando conectamos los electrodos con una fuente de energía (generador de corriente
directa), el electrodo que se une al polo positivo del generador es el ánodo y el electrodo
que se une al polo negativo del generador es el cátodo.
Una reacción de electrólisis puede ser considerada como el conjunto de dos medias
reacciones, una oxidación anódica y una reducción catódica
Criterio de elección.-
Este sistema se diseñó para contener una cuba de niquelado adecuada para recubrir
artículos con fines decorativos, debido a que esa aplicación emplea menor cantidad de
materiales; esto obedece a que mientras más delgada sea una capa de níquel, mayor
calidad de brillo ofrece su acabado.
El ánodo es el electrodo compuesto del metal recubridor, en este caso, níquel. Las líneas
de fuerza de los ánodos se comportan de la misma forma que las líneas de un campo
magnético; es decir, éstas se desplazan de ánodo al cátodo, algunas en línea recta y
otras se curvan ligeramente.
La posición y la cantidad de los ánodos dependen de la forma del objeto a recubrir, por
lo que existen varias configuraciones, de las cuales, las más comunes se ilustran a
continuación:
El recubrimiento más sencillo consiste en recubrir sólo una de las caras de la pieza, ó
cuando ésta tiene una forma regular, esto es, sin cambios drásticos en la superficie,
regularmente plana. Esta configuración también es usada para trabajar piezas muy
pequeñas (Figura 2.5).
FIGURA 2.5: Configuración de un cato y un ánodo para trabajos sencillos
Para recubrir totalmente una pieza, es necesario contar con más de un ánodo, lo que
permite un recubrimiento homogéneo, evitando así, que la pieza de trabajo sea sometida
a una segunda sesión. Generalmente se emplean dos ánodos equidistantes a la pieza a
tratar
FIGURA 2.6: Recubrimiento total de una pieza
(Elsevier, 2004) Los tanques se diseñan tan grandes y tan hondos como se requiera, éste
factor está en función de la(s) pieza(s) a recubrir. A nivel industrial, la capacidad de los
tanques varía desde un litro, en el caso de la joyería, hasta tanques de proporciones
impresionantes, según la aplicación. El objetivo de este proyecto fue diseñar y construir
un sistema que permitiera realizar prácticas de electrodeposición con fines didácticos.
2.5. REACCIONES QUÍMICAS:
2.5.1. Reducción catódica de la plata.-
La plata es electrolíticamente desplazado de soluciones cianuradas alcalinas de acuerdo
a la reacción.
𝐴𝑔(𝐶𝑁)− −
2 + 𝑒 → 𝐴𝑔 + 2𝐶𝑁
−
Breve explicación.-
El cátodo atrae predominantemente los iones positivos a una región cerca de su
superficie, conocida como la doble capa. Los complejos de iones cargados
negativamente, Ag(CN)2- , los cuales están próximos a esta capa, se polarizan en el
campo eléctrico del cátodo. La distribución alrededor del metal es distorsionada y la
difusión del complejo iónico en la capa es asistida. Los componentes ionicos o moléculas
son liberadas y el metal liberad en forma de cationes metálicos cargados positivamente.
[𝐴𝑔(𝐶𝑁)− 2]
= 1038.3
[𝐴𝑔+ ][𝐶𝑁 − ]^2
El agua puede ser reducida a hidrogenó, como está dado por la siguiente ecuación:
2𝐻2 𝑂 + 2𝑒 − → 𝐻2 + 2𝑂𝐻 𝐸 0 = −0.828 𝑉
2.5.3. Reacciones anódicas:
En la solución alcalina cianurada la mayor reacción en el ánodo es la oxidación de agua
a oxigeno:
𝑂2 + 4𝐻 + + 4𝑒 → 2𝐻2 𝑂
Esta reacción tiene que decrecer el pH de la solución junto al ánodo. El cianuro puede
ser oxidado a cianato en el ánodo.
𝐶𝑁 − + 2𝑂𝐻 − → 𝐶𝑂𝑁 − + 𝐻2 𝑂 + 2𝑒 −
Y suele hidrolizarse en forma de amoniaco y dióxido de carbono aunque esto ocurre muy
lentamente a pH altos:
𝐶𝑁 − + 𝐻2 𝑂 + 𝑂𝐻 − → 𝑁𝐻3 + 𝐶𝑂2
Esta reacción se puede identificar por el fuerte olor a amoniaco sobre muchas celdas de
electrodeposición.
- Concentración de plata.
- Hidrodinámica del electrolito.
- Temperatura.
- Área superficial del cátodo.
- Voltaje de celda.
- Corriente de celda y eficiencia de corriente.
- Conductividad de la solución.
- pH.
- Concentración de cianuro.
III. MÉTODOS Y MATERIALES
3.1. MÉTODO
El método utilizado en el presente laboratorio de electrodeposición es el MÉTODO
EXPERIMENTAL.
Según (Sampieri, 2004) se trata de demostrar (de una manera simple) que la
manipulación de una V.I., produce un cambio en la V.D. El ejemplo más simple es
la asignación de un valor de la V.I. a un grupo de sujetos (grupo experimental), y
otro valor a otro grupo (grupo control). El valor asignado al grupo experimental es el
valor o tratamiento que queremos investigar, es el tratamiento experimental, y el
valor asignado al grupo control es el tratamiento normal. Así, la diferencia entre un
tratamiento experimental y normal es el valor específico de la V.I. asignado
3.2. DESCRIPCIÓN DEL EQUIPO
FIGURA 3.1: Celda galvánica de plateado
FUENTE: Propia
Fuente de alimentación: Es un transformador que baja el voltaje de, 220 V a
tensiones menores (de 0,1 a 12 V). Además, estos equipos transforman la
corriente alterna, en corriente continua, que es la que se utiliza para estos
procesos. Esta fuente debe tener en lo posible un sistema de regulación de
voltaje, puesto que cada proceso tiene un intervalo de tensión en el cual el
resultado es óptimo.
Electrolito: Es una solución de sales metálicas, que serán las que servirán
para comenzar el proceso entregando iones metálicos, que serán
reemplazados por el ánodo. Por ejemplo, los baños de niquelado se
componen de sulfato de níquel, cloruro de níquel y ácido bórico. Los baños
de cincado contienen cianuro de sodio, hidróxido de sodio y soda cáustica
(los alcalinos) o cloruro de cinc, cloruro de potasio y ácido bórico (los ácidos).
Para este caso se usa el cianuro de plata y también cloruro de plata en bajo
porcentaje.
Ánodos: Son placas de metal muy puro, puesto que la mayoría de los
procesos no resisten las contaminaciones: níquel 99,997 %; cobre 99,95 %;
zinc 99,98 %. Cuando un ion entrega su átomo de metal en el cátodo,
inmediatamente otro lo reemplaza desprendiéndose del ánodo y viajando
hacia el cátodo. Por lo que la principal materia prima que se consume en un
proceso de galvanizado es el ánodo. Para el caso de baños de oro y plata,
es muy difícil conseguir placas de alta pureza de estos metales, por lo que
también se pueden utilizar ánodos de acero inoxidable, ya que éstos son
inertes y cumplen la función de cerrar el circuito, además de realizar el
transporte de electrones hacia el cátodo.
3.3. MATERIALES Y REACTIVOS
Fuente de alimentación de energía (rectificador).
Ánodos (placas de acero inoxidable).
Cables de cobre con sus respectivos cocodrilos.
1 celda.
1 balanza digital.
Cianuro de plata.
Material de bronce.
3.4. PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL
Como primer paso se deposita el electrolito en la celda, se procede a colocar
las placas de acero inoxidable a cada extremo de la celda.
Se colocan los cables de cobre que se enganchan gracias a los cocodrilos
los polos positivos van en el conductor donde están los ánodos y el polo
negativo va donde se va a poner el material de bronce para su respectivo
plateado.
Una vez listo el equipo se procede a limpiar el material de bronce para que
esté libre de grasas e impurezas que puedan impedir o disminuir el depósito
de la plata en el material.
Ya limpio el material de bronce se procede a su pesaje en una balanza
analítica, luego se introduce el material a la celda que tiene como electrolito
al cianuro de plata durante cinco minutos, a una intensidad de 0.1A y un
voltaje de 11V.
Cumplido el tiempo establecido se retira el material de la celda y de nuevo
se pesa obteniéndose el peso del material plateado.
Se compara la masa acumulada experimental que se obtuvo con la masa
teórica determinada por la primera ley de Faraday.
3.5. DATOS OBTENIDOS
Datos de Laboratorio:
V = 11V
I = 0.1A
t = 5min
𝑚1 = 6.3349𝑔
𝑚2 = 6.3402𝑔
𝑃. 𝐴.(𝐴𝑔) = 107.868 𝑔
3.6. CÁLCULOS
Para hacer debemos suponer que no conocemos la intensidad de corriente para
luego compara el dato experimental con el dato teórico y en cuanto varían estos.
El mecanismo de electrodeposición de la plata probablemente se produce por la
− -
deposición de 𝐴𝑔𝐶𝑁𝑎𝑑𝑠 en el cátodo seguida por las especies absorbidas como se
puede observar:
𝐴𝑔(𝐶𝑁)−
2 → 𝐴𝑔𝐶𝑁𝑎𝑑𝑠 + 𝐶𝑁
−
−
𝐴𝑔𝐶𝑁𝑎𝑑𝑠 + 𝑒 − → 𝐴𝑔𝐶𝑁𝑎𝑑𝑠
𝐴𝑔(𝐶𝑁)− −
2 + 𝑒 → 𝐴𝑔 + 2𝐶𝑁
−
𝑡 = [𝑠] : Tiempo.
𝐶
96487 ≈ 96 500 = [𝐸𝑞−𝑔] : Constante de Faraday.
𝑃. 𝐴.(𝐴𝑔)
𝑚𝑒𝑞−𝐴𝑔 =
𝑁°𝑒 −
𝑃. 𝐴.(𝐴𝑔) = [𝑔] : Peso atómico de la plata.
𝑚(𝐴𝑔) = 0.033538𝑔
𝑚(𝐴𝑔) = 0.0053g
Masa equivalente:
𝑚(𝐴𝑔) = 0.033538𝑔
Error relativo:
𝐸 = 84.18%
Eficiencia:
𝜂 = 15.8%
V. DISCUSIÓN DE RESULTADOS
Referencias
ASM. (1994.). Surface Engineering Handbook. Vol 5. Chap. 10. .
Casas. (1984). Durney Electroplating Engineering Handbook.
Elsevier. (2004). Nanoplating. Tohru Waranabe. .
Handbook. (1889). Practical Electroplating. Prentice Hall.
Mordechay Schlesinger, M. (2000). Modern Electroplating. Electrochemical Society
Series.
PAGINAS WEB:
http://es.scribd.com/doc/68130575/51/Electrodeposicion-15
http://quimica.laguia2000.com/conceptos-basicos/electrodeposicion
http://www.raulybarra.com/notijoya/archivosnotijoya9/9oro_refinacion_lixivia
cion_hidrometalurgia.htm
ANEXOS
FUENTE: Propia
FIGURA 2: Desengrase Catódico
FUENTE: Propia
FIGURA 3: Celda de electrodeposición
FUENTE: Propia
FIGUR 4: Proceso de electrodeposicion (5 minutos)
FUENTE: Propia
FIGURA 5:Depocion de la plata al objeto de electrodeposicion
FUENTE: Propia