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RECUBRIMIENTOS.

UNA TECNOLOGA EN DESARROLLO EN EL


CAMPO DEL VIDRIO

F. ORGAZ
Instituto de Cermica y Vidrio. C.S.LC. Arganda del Rey (Madrid)

RESUMEN

Se resaltan los factores de tipo tcnico y econmico ms importantes que han impulsado el desarrollo
de los recubrimientos en los ltimos aos. Se exponen los mtodos generales de aplicacin, las tcnicas
analticas de estudio y de control, as como los distintos materiales y aplicaciones de los recubrimientos de
acuerdo con su funcionalidad especfica: elctrica, qumica, mecnica, ptica, etc. Finalmente se hace un
anlisis de las aplicaciones de dos tipos de recubrimientos: los antirreflectantes y los reflectantes de calor,
de gran importancia en el campo de la conservacin y conversin de la energa.

Coatings. A developing technology in the glass field.

The most important technical and economical factors that have driven the development of coatings in
latest years are stressed. A description is made of the general methods of application, the analytical
techniques of study and control and also of the different materials and applications of coatings in
accordance with their specific use: electrical, chemical, mechanical, optical, etc.
Finally, an analysis is made of the applications of two types of coatings: anti-reflecting and heat
merror, which are of great importance in the field of energy conservation and conversion.

Les revtements, technologie en plein essor dans le domaine du verre

La prsente tude nonce les facteurs les plus importants, d'ordre technique et conomique, qui, ces
dernires annes, ont pouss dvelopper l'emploi des revtements. Elle prcise quels sont les mthodes
gnrales d'application, les techniques analytiques d'tude et de controle, ainsi que les diffrents mat-
riaux et les diffrentes applications des revtements selon leur fonction spcifique: lectrique, chimique,
mcanique, optique, etc. Elle se termine par une analyse des applications de deux types de revtements (les
revtements antirflexion et les revtements rflecteurs de chaleur), d'une grande importance dans le
domaine de la conservation et de la transformation de l'nergie.

Beschichtungen - Eine Entwicklungstechnologie in der Glasbehandlung

Es werden die wichtigsten technischen und wirtschaftlichen Faktoren beschrieben, die im Lauf der
letzten Jahre die Entwicklung von Beschichtungen vorangetrieben haben. Es werden die allgemeinen
Anwendungsverfahren, die analytischen Untersuchungs und Kontrollmethoden sowie die einzelnen
Werkstoffe fr Beschichtungen sowie deren Anwendungen unter Bercksichtigung ihrer elektrischen,
chemischen, mechanischen, optischen u.a. Eigenschaften erlutert. Abschliessend werden die Anwendun-
gen von zwei Beschichtunsarten, den Reflex und Antireflexschichten, nher untersucht, die fr die
Erhaltung und Umwandlung von Energie grojSe Bedeutung besitzen.

1. INTRODUCCIN
1. Un crecimiento importante de la demanda, conse-
Vidrios recubiertos con xidos metlicos u otros cuencia de nuevos propsitos industriales capaces de
materiales tienen especficas propiedades pticas, elctri- satisfacer los requerimientos de las nuevas tecnologas
cas, mecnicas o de corrosin y estn encontrando (por ejemplo la necesidad de recubrimientos antirreflec-
actualmente un renovado inters. Estos recubrimientos tantes de amplia banda y de ampUo ngulo para su uso
no son el resultado de nuevos desarrollos cientficos en aplicaciones de energa solar y capaces de resistir altas
puesto que muchos de ellos fueron ya aplicados en intensidades ert la ptica de lseres).
vidrios pticos hace ya muchos aos. 2. Los mercados potenciales que los recubrimientos
Este renovado inters de los recubrimientos en la tec- van a tener en los sectores tradicionales de aplicacin del
nologa moderna del vidrio puede ser debido a diferentes vidrio, tales como en la construccin, el transporte,
causas, si bien, cuatro podran ser las razones fundamen- vidrio hueco, etc. por diversos motivos: ahorro de ener-
tales de su desarrollo: ga, mejora del confort, seguridad, calidad de vida, etc..

(1) Conferencia presentada a la Reunin Monogrfica sobre tratamientos de la superficie del vidrio (Madrid, 22 de Noviembre de 1984).

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3. El desarrollo de mtodos y tcnicas de formacin buena adherencia al sustrato


de films cada vez ms sofisticados y reproducibles que alta estabilidad al rayado
permiten una mayor diversidad de la oferta de recubri- alta estabilidad a las condiciones del entorno
mientos, capaces de satisfacer la demanda presente o (atmsfera industrial, reactivos, etc.)
futura. Un ejemplo de ello es la tcnica de sol-gel la cual no altos costos de produccin, etc.
est permitiendo la posibilidad de recubrir vidrios y otros En vista de tales requerimientos cada mtodo tiene su
materiales con todo tipo de xidos de una forma sencilla. particular campo de aplicacin en lo que a parmetros
funcionales de la capa depositada, dificultades tcnicas y
4. Finalmente, y no menos importante, el desarrollo a la naturaleza y cahdad de la capa, se refiere. Esto hace
de un arsenal de modernas tcnicas analticas y de con- que a veces no sea fcil elegir el mtodo ms apropiado al
trol capaces de determinar la calidad y naturaleza del recubrimiento que se quiere depositar.
film y medir su comportamiento. Mediante exactas y El extenso nmero de procesos por el cual se pueden
precisas tcnicas analticas es posible conocer qu se ha depositar films (1,2) puede ser a primera vista confuso,
producido exactamente (su naturaleza qumica, fsica, especialmente para un no especialista enfrentado al pro-
estructural, microestructural, etc.) as como sus propie- blema de tener que decidir cmo depositar mejor un film
dades y establecer las relaciones entre ellas. En definitiva, particular. Sin embargo, en realidad existen muy pocos
nos permite establecer y optimizar los parmetros que les mtodos bsicos para apHcar films, el resto son procesos
caracterizan y establecer una base cuantitativa que per- hbridos o modificaciones de los bsicos. Algunos de los
mita su optimizacin. mtodos son fsicos, otros operan sobre principios fsico-
qumicos y otros son de naturaleza qumica.
Cada uno de los mtodos se diferencian en sus:
2. CONCEPTO Y MTODOS DE APLICACIN fundamentos tericos
DE RECUBRIMIENTOS
requerimientos tecnolgicos
Un recubrimiento puede ser definido como aquella aptitud para depositar materiales con caractersti-
regin cerca de la superficie Qon unas propiedades dife- cas especficas y diferentes
rentes de las del material base o sustrato. Estos materia- Tipo de variables que influyen, etc.
les pueden ser deseables o an necesarios por una amplia
lo que exige adaptar el mtodo ms adecuado segn las
gama de razones econmicas, propiedades nicas o de
caractersticas del recubrimiento a depositar.
flexibilidad de ingeniera y diseo, las cuales pueden ser
Un nmero de extensivas revisiones de estos procesos
obtenidas separando las propiedades superficiales de los
de formacin describen la teora y prctica de los mismos
requerimientos estructurales.
(3). Muchas de estas tcnicas son utilizadas en la indus-
Cuando se habla de recubrimientos sobre vidrio en
tria ptica donde la formacin de recubrimientos ha sido
cierta manera se hace referencia no slo a las propiedades
vital para su desarrollo, otras son utilizadas ms como
fsicas y qumicas de los propios recubrimientos sino
tcnicas de investigacin y otras son una realidad en su
tambin a las interacciones de este material con su
aplicacin industrial por lo que tienen de facilidad de
entorno y su sustrato. Por tanto, un recubrimiento es un
automatizacin, de procesamiento en continuo y de bajo
fenmeno complejo de amplio espectro en el que se estu-
coste. A continuacin se presentan algunos de los distin-
dian las interacciones fsicas y qumicas con el entorno y
tos procesos de recubrimiento empleados sobre vidrio as
el sustrato.
como las caractersticas y propiedades de los mismos.
En algunos casos, un recubrimiento es un nuevo
material depositado sobre el sustrato por cualquier
mtodo (recubrimiento depositado o aditivo). En otros
casos, el recubrimiento puede ser producido alterando la 2.1. Procesos de deposicin por reaccin qumica en fase
superficie del sustrato dando lugar a una capa superficial lquida
compuesta del material aadido y el material del sustrato
(recubrimiento de conversin o sustractivo). Los recu- Por aplicacin de estos mtodos pueden ser deposita-
brimientos tambin pueden ser formados por cualquier dos metales, xidos y pelculas orgnicas. El ms viejo y
proceso encaminado a cambiar las propiedades de la mejor conocido de estos procesos de mojado es la forma-
superficie del material sin cambiar su composicin qu- cin de espejos (5). Una amplia gama de recubrimientos
mica (ejemplo: por deformacin mecnica). En general, pueden ser obtenidos por esta tcnica tales como semirre-
son obtenidos recubrimientos con una o ms capas de flectante de oro y plata, as como semitransparentes de
material tanto metlico, cermico, vitreo o plstico. nquel y sulfuro de plomo. El proceso Brashear (6) para
depositar plata es el ms ampliamente utilizado. Son
Las propiedades de un recubrimiento, cualquiera que
procesos de inversin moderada con velocidades de pro-
sea su naturaleza, dependen en gran medida de la calidad
duccin en funcin de la longitud de la planta (7). El
de la capa aplicada, la cual, a su vez, depender, bajo
control logrado sobre el proceso es lo suficientemente
condiciones de deposicin ptima, del mtodo de aplica-
bueno como para depositar de forma uniforme capas
cin utilizado. En principio, y desde una perspectiva
finas metlicas transparentes. Esto es realizado bien por
general, todo recubrimiento debe reunir una serie de
inmersin o por pulverizacin de las disoluciones sobre el
caractersticas:
vidrio, el cual es mantenido horizontalmente sobre una
alta funcin en si misma (ptica, elctrica, etc.) cinta transportadora. Las disoluciones constan de una sal
buena apariencia y homogeneidad de metal a depositar y de un agente reductor. El metal es
espesor adecuado precipitado de la disolucin y, si es hecho correctamente,
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Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio

lo cual implica el uso de un agente sensibilizador (Cl2Sn) sis u oxidacin. El proceso se basa en exponer el vidrio
y una buena limpieza de la superficie del vidrio, se forma caliente a una fina pulverizacin de una mezcla apro-
un recubrimiento denso sobre la superficie del vidrio. Sin piada en un sistema abierto o semicerrado a fin de alcan-
embargo, en general, necesitan proteccin debido a la zar el recubrimiento deseado. Una amplia gama de pre-
escasa interaccin superficie vidrio-metal. Tratamientos siones es utilizada. Los procesos de reaccin representa-
entre 300 y 500 C en atmsfera oxidante, especialmente tivos incluyen:
para plata y cobre, aumentan dicha interaccin al produ-
cirse fenmenos de difusin. Los recubrimientos de plata CVD: Cloruro voltil + O2 (o H2O) = CI2 + xidos
y oro son adecuados para alta reflectancia en el infrarojo. Piroltico: Sales metlicas dispersas + O2 (o H2O) =
Sin embargo, la transmisin en el visible puede verse Oxido.
reducida entre un 50 y un 20% en funcin del espesor del Una distincin entre ambos, en trminos de la natura-
recubrimiento. Su conductividad elctrica es tan alta que leza de los estados intermedios que se generan, ha sido
permite su aplicacin en sistemas de calentamiento. Los discutida (21).
recubrimientos semitransparentes de nquel y sulfuro de Estos procesos estn adquiriendo gran popularidad
plomo (8) presentan, por otra parte, unas propiedades en ya que son de inversin no muy costosa y pueden ser
el infrarrojo que no son tan satisfactorias como las de obtenidos gran cantidad de recubrimientos de gran cali-
plata y oro. Sus coeficientes de reflexin, emisividades y dad. Las propiedades prcticas son alcanzadas funda-
conductividades elctricas son funciones del espesor y su mentalmente en condiciones oxidantes si bien compues-
aspecto es grisceo con transmisiones entre el 20 y 40%. tos como sulfuros o trabajar en condiciones reductoras
Recubrimientos semitransparentes de nquel pueden pueden tambin llevarse a cabo. Ejemplo de ello es la
tambin ser preparados por reduccin de carbonilos de preparacin de capas fotovoltaicas de SCd-SCu2 o calco-
nquel a aproximadamente 200 C en una atmsfera de genuros de S2 Ge, S3 AS2 los cuales tienen tiles propie-
hidrgeno. Tales recubrimientos tienen propiedades an- dades pticas y son producidos a partir de vapores de
logas a otros recubrimientos metlicos de nquel. compuestos voltiles.
Otro mtodo de formacin de recubrimientos en fase Como ejemplos de materiales depositados por esta
lquida que est actualmente en una etapa creciente de tcnica destacan:
expansin y desarrollo es el basado en los procesos de xidos metlicos coloreados. Ej.: Co/Fe/Cr. Son
sol-gel (9) (10). Tales procesos son especialmente ade- muy resistentes qumicamente. Utilizados en exterio-
cuados para depositar capas dielctricas de xidos. res de edificios. No tienen propiedades elctricas con-
Dicho mtodo se basa en el estirado vertical, pulveriza- ductoras y por tanto no presentan reflexin en el
cin o centrifugado (spinning) de sustratos de vidrio de infrarrojo.
disoluciones diluidas de compuestos metal-orgnicos (eti- recubrimientos reflectantes y absorbentes de xidos
latos, butilatos, etc.) hidrolizados en un medio alcoh- de Co, Ni, Cr, Ti, V, o mezclas a partir de organome-
lico, o en una atmsfera de vapor de agua. El espesor de tlicos.
la capa despus del tratamiento trmico a 500 C depende produccin de recubrimientos de silicio elemental, el
fundamentalmente de la viscosidad de la disolucin, de la cual presenta una mayor reflectancia que el xido. Se
concentracin de los componentes activos y de la veloci- produce por reaccin del silano, SH4, en atmsfera
dad de estirado del sustrato (11). El mtodo ha sido utili- reductora.
zado exitosamente para la preparacin de una amplia
xido de titanio. Tiene un ndice de refraccin elevado
variedad de recubrimientos tales como antirreflectantes
por lo que presenta propiedades reflectantes elevadas.
(12), coloreados (13), reflectantes de calor (14), etc. as
Tiene tambin caractersticas fotoqumicas interesan-
como todo tipo de pelculas de SO2, SO2 - TO2 (15), etc.
tes.
xido de hierro: presenta propiedades anlogas al
El mtodo Langmuir-Blodgett (16) permite depositar xido de titanio. Es coloreado.
pelculas orgnicas a partir de disoluciones. Las aplica- Cr203 + Fe203 y V2O3 tienen tiles propiedades pti-
ciones tecnolgicas de tales films han sido hasta la fecha cas y electrnicas.
poco exploradas. Sin embargo, una produccin cuidado- xido de estao. Exhibe excepcionales propiedades
samente controlada de los mismos ofrece interesantes electroconductoras cuando se dopa con Sb o F". Tiene
aplicaciones tales como mscaras de ataque sensibles a la interesantes propiedades pticas, baja emisividad y
radiacin (17), aparatos electroluminiscentes a base de buena resistencia mecnica debido a s^i lubricidad
pelcula de antraceno (18), ptica integrada (19) etc. (extremo caliente-extremo fro).
In203 + Sn02 (ITO). Presenta excelentes propiedades
2.2. Procesos de deposicin qumica en fase de vapor semiconductoras. Gran reflector del infrarrojo.
(CVD) y por pulverizacin piroltica MoOx - WOx Presentan comportamiento electrop-
tico.
En trminos generales, el trmino deposicin qumica
en fase de vapor, involucra la deposicin de metales, xi- 2.3. Procesos de deposicin fsica en fase de vapor o
dos, carburos, sulfuros, nitruros, siliciuros, etc. a partir deposicin a vacio
de precursores gaseosos (20). Tales precursores son, en
general, higroscpicos y propensos a la oxidacin, lo que La familia de los denominados procesos de deposi-
hace trabajar en sistemas cerrados. Sin embargo, para el cin fsica en fase de vapor (PVD) incluyen tres diferen-
recubrimiento de vidrio con xidos, el sustrato es estable tes tcnicas de recubrimiento: (1) evaporacin y conden-
al aire y el vapor de agua es un reactivo til para hidrli- sacin, (2) sputtering y (3) ion plating. La deposicin de
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una pelcula a partir de una fase de vapor involucra, cristalina, la composicin qumica y la microestructura y
aparte de la necesaria reaccin qumica (por ejemplo la conectarlas con las propiedades del film resultante.
de formar xidos), los procesos fsicos de evaporacin, En los ltimos diez aos se ha avanzado enorme-
condensacin, nucleacin y crecimiento, etc. Los par- mente en el desarrollo de tcnicas analticas que dan deta-
metros que controlan estas operaciones son tambin los llada informacin sobre la estructura y composicin de
que determinan la estructura y microestructura, es decir, los recubrimientos, as como su transformacin, lo cual
su grado de cristalinidad, su orientacin, su pureza qu- no era accesible con las primitivas tcnicas. Un excelente
mica, su morfologa estructural superficial y en definitiva libro sobre tcnicas analticas instrumentales para el an-
sus caractersticas pticas, elctricas y mecnicas. lisis de superficies slidas es el publicado por Kane y
Los procesos de deposicin a vaco fueron inicial- Larrabbe (31). En general, el anlisis de recubrimientos
mente limitados a evaporacin a vaco y su aplicacin a est referido a espesores muy pequeos que varan de
la ptica, donde son requeridos recubrimientos de alta monocapas atmicas a varias mieras. En principio nin-
calidad, especialmente en lo relativo a la pureza y estruc- guna tcnica analtica simple es capaz de suministrar
tura de la capa. En este caso el material a depositar es todos los requisitos de informacin para caracterizar la
calentado por una varilla de tungsteno o por un haz de composicin y estructura del film por lo que una clara
electrones a presiones tan bajas como 1310"^Pa. La imagen de los mismos slo puede emerger de una combi-
pureza y estructura de la capa puede ser controlada va nacin de las mismas.
presin de los gases residuales, velocidad de evaporacin, En la tabla I se presentan algunas de las tcnicas ana-
temperatura y naturaleza del vidrio a recubrir. Haluros lticas utilizadas frecuentemente en el estudio y caracteri-
(22), elementos qumicos (23), xidos (24), sulfuros (25), zacin de recubrimientos.
y aleaciones han sido depositados por esta tcnica.
Debido a la naturaleza puntual de la fuente, las dificulta- TABLA I
des en obtener recubrimientos en grandes reas y distan-
cias han hecho que el proceso sea caro y a veces MTODOS DE ANALISIS
problemtico.
El sputtering a vaco donde el depsito es arrastrado Composicin
por una descarga de gas sobre un sustrato en movi-
miento, proporciona una mayor uniformidad al recubri- Microsonda electrnica (EMPA)
miento, si bien hasta muy recientemente el proceso era Fluorescencia de rayos X (XRF)
muy lento. El sputtering magntico ha logrado intensifi- Espectroscopia Auger (AES)
car las descargas de gas logrando unas velocidades de Espectroscopia fotoelectrnica de rayos X (XPS)
deposicin mucho mayores. Mediante esta tcnica se ha Especroscopia de iones secundarios (SIMS)
logrado intensificar las descargas de gas logrando unas Retrodispersin Rutherford (RES)
velocidades de deposicin mucho mayores. Mediante Anlisis de reaccin nuclear (NRA)
esta tcnica puede depositarse cualquier metal y aleacin
no magntica y por introduccin de gases reactivos en la
cmara de vacio, se pueden obtener todo tipo de com- Estructura
puestos tales como xidos, nitruros, sulfuros, etc. En Diafraccin de rayos X
general, las tcnicas reactivas en todas sus modalidades: Microscopa electrnica de transmisin
evaporacin (28), sputtering (29), ion plating (30) permi- Difraccin de electrones
ten depositar todo tipo de compuestos sin ninguna difi- Espectroscopia de reflexin infrarroja (IRRS)
cultad. En equipos semicontinuos es posible depositar y
producir recubrimientos a gran escala de grandes lminas
de vidrio. Recubrimientos conductores y semirreflectan- Morfologa
tes de oro y plata son depositados satisfactoriamente por
esta va. As pues, el sputtering, la evaporacin a vaco Microscopa electrnica de barrio (SEM)
(26), junto al ion plating (27), tienen un ampHo abanico Microscopa electrnica de transmisin (TEM)
de posibilidades ya que pueden ser depositados la mayor Microscopa ptica de reflexin
parte de metales, aleaciones y compuestos tales como
xidos, sulfuros, nitruros, etc. Sin embargo, la inversin Interfases
es aka, dependiendo de las caractersticas del equipo, el
tamao del sustrato y la demanda de produccin. Microscopa electrnica de transmisin
Retrodispersin Rutherford
Canalizacin de iones (ion Channelling)
3. TCNICAS DE ANALISIS Y CONTROL Espectroscopia Auger
DE RECUBRIMIENTOS Espectroscopia fotoelectrnica de rayos X

El desarrollo de nuevos recubrimientos no hubiera


sido posible sin el desarrollo paralelo de tcnicas analti- Microanlisis
cas capaces de controlar la calidad y naturaleza de los Microscopa de emisin de campo inico
films y medir su comportamiento. Esto exige conocer la Microscopa de electrnica de transmisin por
naturaleza qumica y fsica de los mismos sobre diminu- Barrido (STEM)
tas cantidades de material con dimensiones de espesor Microscopa electrnica analtica (AEM)
menores de una miera. Se ha de determinar la estructura
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Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio

La determinacin de la composicin elemental y su tura cristalina es la difraccin de rayos X. La microsco-


distribucin con la profundidad o perfil, necesario para pa electrnica de transmisin tambin puede proporcio-
la determinacin de la relacin composicin-propiedad nar informacin acerca de la estructura cristalina cuando
no es siempre fcil, especialmente en el caso de la existen- se utilizan tcnicas selectivas adecuadas de ataque (37).
cia de elementos ligeros y muy finos espesores (32). Las La difraccin de electrones se presenta tambin como
tcnicas analticas convencionales usualmente no permi- una tcnica adecuada en estructuras microcristalinas. La
ten ni alta sensibilidad ni adecuada resolucin de pro- espectroscopia de reflexin infrarroja (IRRS) ha demos-
fundidad. Por ejemplo, las tcnicas de microsonda elec- trado ser sensitiva a los cambios qumicos y estructurales
trnica y fluorescencia de rayos X integran la que se producen, a travs del anlisis de los desplaza-
informacin en unas pocas mieras de profundidad de la mientos de las frecuencias de los picos (38).
muestra y tienen bajas sensibilidades para los elementos Para la determinacin de la morfologa superficial, la
ligeros. Por consiguiente, un anlisis qumico exacto microscopa electrnica de barrido o scanning sigue
para extremadamente finos recubrimientos, multicapas y siendo la tcnica habitual. Haciendo una rplica de la
capas de reaccin superficial conteniendo gradientes de superficie, a veces atacada previamente, y sombreando
composicin, puede requerir tcnicas adicionales. La con metales pesados es posible utilizar tambin la
espectroscopia electrnica Auger y la espectrometra de microscopa electrnica de transmisin para examinar la
masas de iones secundarios (SIMS) junto a la espectros- morfologa de la superficie de un recubrimiento. Igual-
copia fotoelectrnica de rayos X (XPS) han sido utiliza- mente es de amplio uso en el anlisis de films la micros-
das para investigar perfiles de composicin superficial copia electrnica de transmisin para examinar la morfo-
debido a que las profundidades de penetracin del haz loga de la superficie de un recubrimiento. Igualmente es
son pequeas (5A) (33). Espectroscopia Auger junto a de amplio uso en el anlisis de films la microscopa ptica
bombardeo inico han sido utilizadas (34) para la deter- de reflexin.
minacin de perfiles qumicos a nivel subatmico en Otro aspecto importante en el estudio y caracteriza-
muestras de biovidrios corrodos. Sin embargo, estas cin de recubrimientos es el estudio de las interfases. Es
tcnicas presentan el inconveniente de que las profundi- conocido que muchas de las propiedades de inters no
dades de deteccin son poco profundas por lo que es estn asociadas con el film depositado en s mismo sino
necesario decapar la superficie a fin de determinar la con los fenmenos de interfase. Ha sido recientemente
composicin en los pocos cientos de nonametros exterio- cuando se ha podido observar directamente la estructura
res. Adems, existe una fuerte influencia del decapado y composicin de las interfases a travs de la utilizacin de
por bombardeo inico sobre la composicin qumica por diferentes tcnicas. La microscopa electrnica de trans-
lo que medidas cuantitativas son difciles de obtener. misin y de barrido de secciones transversales da infor-
El uso de tcnicas nucleares para el anlisis de muy macin acerca de las interfases y de las propias capas
finos recubrimientos sobre vidrio ha sido propuesto (39). Retrodispersin Rutherford y canalizacin de iones
recientemente (35). Retrodispersin Rutherford, (RBS) (ion channelling) proporcionan a su vez informacin de
de iones (usualmente "^He^) de alta energa (1. 8MeV), es la composicin y estructura, respectivamente de interfa-
una extremadamente exacta herramienta para la deter- ses y capas. En situaciones en las cuales las interfases
minacin de la composicin en funcin de la profundi- pueden ser examinadas capa a capa, las tcnicas superfi-
dad. Esta tcnica ha hecho posible analizar films de ciales, particularmente la espectroscopia Auger y fotoe-
varias mieras de espesor con una resolucin en profundi- lectrnica son bastante tiles.
dad de varios cientos de A. Su dificultad est en su poca Como elemento de futuro debe decirse que paralela-
sensibilidad para los elementos ligeros. Una tcnica com- mente a la microfabricacin, existe una tendencia actual
plementaria a RBS, especialmente til en el anlisis de hacia el microanalisis, esto es, la facultad para determi-
elementos de bajo nmero atmico, est basada en el nar la composicin y estructura de microagregados de
anlisis de reaccin nuclear (NRA) de reacciones induci- material a escala de 10 a 100 A. En los ltimos aos est
das por partculas cargadas. Estas proporcionan infor- habiendo importantes desarrollos en este campo tales
macin sensitiva a istopos. Los productos de reaccin como la microscopa electrnica de transmisin por
observados son usualmente partculas cargadas, las cua- barrido con sistemas de microanalisis incorporados
les son detectadas y analizadas con el mismo sistema que (microscopa electrnica analtica) (40) Estas tcnicas
para RBS. Varios ejemplos de aplicacin de estas tcni- exigen una serie de requerimientos funcionales tales
cas son encontrados en la literatura (36). As han sido como alta resolucin (del orden de las dimensiones at-
utilizadas en el anlisis de resistores de alta calidad para micas), alta intensidad y ultravaco. Un sistema disponi-
la industria microelectrnica, a base de tntalo dopado ble comercialmente para microscopa de transmisin por
con nitrgeno, con oxgeno o con nitrgeno-oxgeno, barrido, puede proyectar un haz de dimetro v
depositados sobre AI2O3 policristalina o sobre sustratos suficientemente intenso como para analizar un agregado
de vidrio. Igualmente han sido utilizadas en los procesos de 1.000 tomos en un vaco de 10"^ torrs.
de predeposicin de boro sobre silicio as como en el En definitiva, debe decirse, que un anlisis til de
anlisis de recubrimientos reflectantes comerciales y en films e interfases requiere la combinacin de tcnicas,
estudios de deposicin de TO2 sobre lmina de vidrio y algunas de las cuales deben ser adaptadas a cada uso, ya
en pelculas absorbentes de TiN, Si02/Cr. El anlisis ha que el anlisis de cada tipo tiene sus propios problemas y
proporcionado informacin del espesor, la composicin, sus propias soluciones. Es de esperar que en el futuro se
estequiometrica y secuencia de capas, de forma no des- presentarn nuevos y espectaculares desarrollos en este
tructiva y de rpidos resultados. campo.
La herramienta tradicional para determinar la estruc- Por otra parte, es de gran significancia para aplica-
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ciones prcticas la determinacin de las propiedades de con una funcionalidad diferente. En la tabla II se presen-
los recubrimientos tales como: espesor (por elipsometra, tan diferentes tratamientos utilizados, de acuerdo con la
interferometra, Talystep, etc), transmisin espectral en funcionalidad perseguida. Algunos de ellos son descritos
el ultravioleta, visible e infrarrojo, conductividad elc- en este nmero por lo que en esta revisin solo se descri-
trica, emisividad, resistencia a la abrasin, etc. Existe al birn dos de ellos, que por su importancia tecnolgica
respecto una amplia variacin de equipos en el mercado estn ocupando actualmente grandes esfuerzos de inves-
capaces de establecer un rpido control para cada aplica- tigacin; tales son los recubrimientos antireflectantes y
cin. los recubrimientos reflectantes de calor de gran impor-
tancia en el campo de la conservacin y conversacin de
la energa.
4. APLICACIONES

4.1. Recubrimientos anti-reflectantes


Como se ha sealado anteriormente, los tratamientos
superficiales del vidrio modifican sus propiedades pti- Los recubrimientos anti-reflectantes constituyen una
cas, mecnicas, elctricas, etc. dando lugar a materiales parte muy importante de todos los recubrimientos pti-

TABLA II

APLICACIONES GENERALES DE RECUBIMIENTOS SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO

Funciones elctricas Aplicaciones


Materiales aislantes (Al203,BeO, MgO) Sustratos de circuitos integrados
Materiales ferroelctricos (Ti03Ba, TiOjSr) Condensador cermico
Materiales semiconductores (Ti03Ba, V2O5, Sn02
/ S b / F In203/Sn02, Sn04Cd, Ti02/Pd Elctricamente conductores sensores de infrarojo
Filtros de luz
Materiales conductores inicos Sensores de oxgeno
-AI2O3, Zr02 Electrolitos bateras.

Funciones pticas
Capas anti-reflectantes Optica tradicional (lentes, etc)
(Capas porosas, F2Mg, Ti02-Ta205 SO2-TO2, etc) Uso fotovotico. Optica de lseres
Capas absorbentes Coloreadas, fotocrmicas, fotosensibles, electrocr-
micas.
Capas altsima transmisin pptica Optica integrada
Capas de emisin secundaria Luminiscentes
Almina translcida Lmpara vapor alta tensin de sodio
Cermicos PLZT Optoelectrnicos

Funciones qumicas
Sensores de gases (ZnO, Sn02, Fe203) Detectores de hidrgeno
Baja atacabilidad qumica Botellas y productos de vidrio
(capas SO2, Si02-Zr02, SO2-AI2O3)
Sensores de humedad
Catlisis orgnica

Funciones mecnicas
(Cambio inico, capas de bajo coeficiente dilatacin). Endurecimiento qumico
Capas Sn02 y plsticos Proteccin mecnica
(Extremo fro-extremo caliente) envases, lubricacin
Capas resistentes abrasin (fosfatos metlicos, nitruros,
etc)

Funciones biolgicas
Capas de hidroxiapatito y biovidrios (Si02-CaO-Na20-
P2O5) prtesis

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Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio

eos producidos actualmente. Tales recubrimientos son Utilizado ampliamente (41) al tener una buena adherencia
utilizados en lentes para objetivos fotogrficos, en vidrios y resistencia a la abrasin y al rayado. Dicha capa es
oftlmicos, en lentes y prismas de microscopios, binocu- tambin resistente a la humedad, atmsfera y disolventes
lares, etc. La deposicin de recubrimientos anti- orgnicos. Sin embargo la efectividad de dicha capa de
reflectantes aumenta la transmisin de la luz en sistemas F2Mg es mayor a medida que aumenta el indice de
de lentes pticas y favorece el contraste de imgenes. refraccin del sustrato de vidrio. As, la deposicin de
Ahora bien, un renovado inters por esta ya vieja rea de una capa de alto ndice de refraccin sobre el sustrato
la tecnologa ha surgido recientemente como consecuen- aumenta la capacidad reflectante del F2Mg. Tales siste-
cia de los nuevos requerimientos exigidos en la aplicacin mas de doble capa han sido utilizados por varios autores
del vidrio en energa solar y en la ptica de lseres. (42). Cuando se requiere un film de baja reflexin en un
Como es sabido, la reflexin de la radiacin por un amplio rango de longitudes de onda, son utilizados films
medio transparente viene dado por la ecuacin de Fres- multicapas basados en construcciones alternativas de
nel: materiales de alto y bajo ndice de refraccin con varios
espesores. Clculos de tales recubrimientos anti-reflec-
R - (1/2) [sen2 (i r)/sen2(i + r) + tg2(i r)/ tantes de ancha banda han sido llevados a cabo por dife-
tg2(i + r)] [1] rentes autores (43). Los modernos recubrimientos anti-
reflexin generalmente presentan de tres a siete capas. En
donde i es el ngulo de incidencia y r el ngulo de refle- la figura 1 se presenta un tpico recubrimiento tricapa a
xin. Para incidencia normal (i = 0), esta ecuacin se base de F2Mg-SZn-Al203.
simplifica a:
R = [(n2 n ,)/(n2 + n,)] [2]
donde Uj es el ndice de refraccin del medio y n2 el indice
de refraccin del sustrato. Para una interfase de aire (n =
1,), los vidrios sodo-clcicos tendrn unas prdidas por
reflexin del 4,3% aproximadamente. Para una superfi-
cie de silicio, con un indice de refraccin de Usi = 3,9, las
prdidas por reflexin seran del orden del 35%. Estos
valores seran mucho ms altos para ngulos de inciden- Q.0^4f
cia elevados. Esto conduce a un desperdicio de energa y
consiguientemente a una falta de eficiencia de los apara-
tos o sistemas que utilizan luz transmitida. El recubri-
miento de la superficie del sustrato con un film no absor-
bente ha sido va tradicional para eliminar tales efectos.
Para una superficie recubierta, la reflexin mnima viene
dada por
Rm = [(nc2-n,n2)/(nc2 + n,n2)P [3]
donde Uc es el indice de refraccin del recubrimiento, Uj el Fig. 1. Curva de reflectancia para un triple recubrimiento de
F2Mg-SZn-l20y
indice de refraccin del medio y n2 es el indice del sus-
trato. Para reflectancia mnima igual a cero, la relacin
Sin embargo, con respecto al espectro solar, cuya dis-
entre ndices debe ser:
tribucin de longitudes de onda para aplicaciones foto-
1/2
Uc = (nin2) [4] voltaicas de silicio vara de 0,3 a 1,1 |im, la situacin
fsica que describe los parmetros de un recubrimiento de
y el espesor del film, Cf debe reunir el requerimiento del un cuarto de longitud de onda, es ms compleja. Existe
espesor ptico de un cuarto de longitud de onda, es decir: necesidad de recubrimientos de banda ahcha y amplio
ngulo para aplicaciones de energa solar y para aquellos
t{= (1/4) (Xmin/nc) [5]
recubrimientos que han de sufrir altas intensidades de luz
donde >.min es la longitud de onda de la luz a la cual el en ptica de lseres. Seis son al menos los factores que
mnimo es producido. han de tenerse en cuenta al disear un recubrimiento de
Las ecuaciones [2], [3], [4] y [5] representan, pues, este tipo, los cuales varan con la longitud de onda a lo
una simplificacin de los parmetros que deben ser anali- largo de la regin espectral que se considere:
zados para determinar el ndice de refraccin y el espesor a) el ndice de refraccin del sustrato, el cual no es
de un recubrimiento, y son aplicables para una longitud lineal y decrece con la longitud de onda.
de onda y temperatura, es decir, pueden ser aplicables b) la reflexin del sustrato. La reflectancia aumenta
para una estrecha banda de longitud de onda. Esto signi- al disminuir la longitud de onda.
fica, que para un vidrio de ndice de refraccin de 1,52, el c) el ndice de refraccin del recubrimiento, el cual
recubrimiento anti-reflectante (AR) deber tener un decrece con la longitud de onda.
ndice de refraccin de 1,23. Este requerimiento de tan d) energa del espectro solar.
bajo ndice de refraccin, hace prcticamente imposible e) respuesta espectral.
disear un recubrimiento de capa simple, ya que el mate- f) reflectancia del recubrimiento anti-reflectante. La
rial inorgnico de ms bajo indice en el F2Mg que tiene aplicacin de un recubrimiento AR de un cuarto de lon-
un ndice de 1,38. Nos obstante este compuesto ha sido gitud de onda produce una reflectancia mnima en una
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985 329
F. ORGAZ

estrecha longitud de onda, aumentando en ambos extre- La preparacin de capas superficiales microporosas
mos. superficiales ha sido realizada no solo por las tcnicas de
Esta compleja situacin fsica indica el grado de difi- ataque referidas anteriormente sino tambin por otras
cultad en la determinacin del espesor ptimo y del tcnicas. Las tcnicas de sol-gel se presentan como exito-
ndice de refraccin de un recubrimiento de un cuarto de sas. Yoldas (45) prepar una capa transparente porosa de
longitud de onda. El ndice de refraccin ideal de un AI2O3 con una porosidad abierta de 63-65% con poros de
recubrimiento AR a fin de alcanzar mxima efectividad a tamao inferior a 100 A. y un ndice de refraccin super-
lo largo del espectro solar, debe ser una funcin de la ficial de L296. Tales films se presentan como excelentes
longitud de onda y seguir la ecuacin [4]. El recubri- candidatos para la preparacin de capas simples AR
miento integral de gradiente (GIAR), producido por la sobre vidrios sodico-calcicos. Por su parte Mukherjee
modificacin de la superficie del vidrio, parece ser una (46) produjo por esta tcnica films de borosilicato sobre
solucin a estos problemas (figura 2). Estos recubrimien- diferentes sustratos de vidrio los cuales, despus de tra-
tos estn formados por ataque qumico de un vidrio de tamiento trmico y lixiviacin, daban lugar a reflectivi-
borosilicato a travs de un proceso de separacin de fases dades de 0,20,4% a Ijim y a ngulos de incidencia de
y lixiviacin (44). Eligiendo la combinacin correcta de hasta 70% con unos umbrales al deterioro lser de hasta
composicin, tratamiento trmico y condiciones de ata- 25J/cm2.
que, es posible producir un film con gradiente de porosi- La principal desventaja de todos los recubrimientos
dad y consecuentemente con gradiente de ndice de anti-reflectantes GIAR ha sido su relativamente baja
refraccin, capaz de presentar las caractersticas anti- resistencia al deterioro, especialmente a la abrasin y al
reflectantes deseadas. deterioro causado por las intensidades de luz experimen-
tadas en la ptica de lseres (47). Esto hace que, aun
cuando puedan ser utilizados en sistemas pticos prote-
gidos, su utilizacin a gran escala necesita de mtodos
capaces de endurecer estos films sin destruir sus corres-
pondientes propiedades pticas.

4.2. Capas reflectantes y su papel en el campo de la con-


prvpinn
servacin yv conversin
ponvArciti ()^
de ]la^ energa.
ener&a.

Toda funcin de proteccin antisolar puede ser lle-


vada a cabo a varios niveles de realizacin. A un bajo
nivel, se trata simplemente de acristalamientos colorea-
dos en la masa; a nivel medio, los acristalamientos com-
portan una capa de xido el cual interviene tanto por el
poder reflectante que le confiere un elevado ndice de
Z=0 Z=d refraccin como su propia absorcin; por ltimo, a un
ms alto nivel, se saca partido de las propiedades pticas
PROFUNDIDAD EN MATERIAL
de las capas metlicas o de capas semiconductoras. As,
Fig. 2. Representacin esquemtica de variacin del ndice de refrac-
pues, la reflectividad de vidrios puede ser incrementada
cin con a profundidad, de un film GIAR obtenido por separacin de por el uso de metales, particularmente plata, oro, alumi-
fases, lixiviacin y ataque nio, cobre, rodio, nquel, etc. y sus aleaciones, as como
con capas dielctricas las cuales manifiestan muy bajos
valores del factor de absorcin, as como una reflectivi-
dad selectiva en un cierto intervalo del espectro, depen-
El efecto de la porosidad sobre el ndice de refraccin
diendo del material aplicado. Esto significa que las capas
se establece por la relacin existente entre ndice de
ms interesantes son las que concillan una buena trans-
refraccin y densidad. El ndice de refraccin puede ser
parencia en el espectro solar y un poder reflectante ele-
bajado al bajar la densidad y por tanto al aumentar la
vado en la zona del infrarrojo. Esto lo cumplen los meta-
porosidad. Sin embargo, se requiere que el tamao de
les y ciertos semiconductores, los cuales, al ser
poro sea sustancialmente ms pequea que la longitud de
fuertemente reflectantes en el infrarrojo, se prestan a la
onda de la luz, y que la distribucin de poros sea homo-
creacin de capas dbilmente emisivas. Segn la ley de
gnea a fin de no afectar a la transmisin de la luz y
Kirchoff, existe una relacin simple entre la emisividad y
causar dispersin. La densidad e ndice de refraccin en
el coeficiente de reflexin: R + E = 1 . Ahora bien, el
este tipo de material estn relacionados por la expresin:
aumento de espesor reducir la transmisin por lo que un
(n 2 l)/(n2 _ 1) = dp/d [6] compromiso entre reflectancia y transmitancia ha de ser
buscado. Un espejo reflectante de calor es definido, pues,
donde n y d son el ndice de refraccin y densidad del como un recubrimiento selectivo de longitud de onda que
material no poroso y Up y dp las correspondientes al mate- exhibe apropiada reflectancia o transmitancia para la
rial poroso. La ecuacin [6] puede ser escrita en trminos energa radiante en tres partes del espectro electromagn-
de porosidad como: tico. Estas regiones son la de alta energa solar (inclu-
yendo el visible) entre 0,3 y 0,77^m, la zona del infra-
np = (n2 1)(1 P/100)+ 1 [7] rrojo prximo entre 0,77 y 2,0|am y la zona del
donde P es el porcentaje de porosidad. infrarrojo entre 2,0 y 100|im. Los espejos reflectantes
330 BOL. SOC. ESP. CERAM. VIDR. VOL. 24-NUM.5
Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio

generalmente exhiben una transmitancia media o alta en 1,0


la zona del visible y alta reflectancia en el infrarrojo. Las
propiedades para el infrarrojo prximo varan de
a) ^
acuerdo con el diseo y la aplicacin. Un espectro solar 0,8
simplificado junto a dos superpuestos cuerpos negros y a
un espejo reflectante de calor se muestra en la figura 3. o: 0,6

- 0,4
LONGITUD DE ONDA [eV] Infrarrojo
4 3 2 1 0L5 025 O l ^ Cp65 Q025 ^ uv iViSi irp
0,2

0^ o[5 i 2 5
10 50
LONGITUD DE ONDA [>am]

0^ Q5 1 2 5 10 2D 50 100
LONGITUD DE ONOA[iuij
infrarrojo
Fig. 3.Espectro solar A M2 con dos cuerpos negros (4(P C, 30 C) asi
0,4 kuv IviS
IP+
como reflectancia idealizada de un recubrimiento reflectante de calor a
base de dixido de estao. o^h
Desde el punto de vista de la utilidad de un espejo T
0,2 0,5 11 2 5 10 50
reflectante de calor en un acristalamiento simple de un
edificio, caben dos situaciones diferentes. La primera es LONGITUD DE ONDA [^m]
para calentamiento en invierno, donde es importante
aprovechar la energa solar a fin de reducir consumo Fig. 4. Respuestas espectrales idealizadas de espejos reflectantes de
calor para sistemas de aprovechamiento de calor(a) y para sistemas de
energtico en el edificio. El espejo reflectante de calor aprovechamiento de refrigeracin(b).
ideal sera aquel que transmitiera tanto la zona de alta
energa del espectro como la zona del infrarrojo prximo
hasta una longitud de onda de aproximadamente 2|im,
como se ve en la figura 4a. El infrarrojo trmico es refle-
4.2.1. DEPSITOS TRANSPARENTES A BASE DE
jado hacia el interior del edificio. De esta manera la
CAPAS METLICAS
mayora de la energa solar es aprovechada durante el Los metales tales como el oro, la plata, etc. permiten
da. La segunda situacin poda ser tratada como una conciliar una buena reflexin infrarroja y una transmi-
reduccin en la energa de refrigeracin, donde toda la sin en el visible suficiente cuando se trata de realizar
energa infrarroja es reflejada a fin de reducirle el con- acristalamientos antisolares; reduciendo el espesor de la
sumo de aire acondicionado. Un espejo reflectante de capa se puede lograr el objetivo de una transparencia
calor de este tipo debe tener la propiedad bsica mos- adecuada. Ahora bien, debe mantenerse un equilibrio
trada en la figura 4b. El recubrimiento permite una entre transmitancia y reflectancia, ya que por debajo de
transmisin de la energa visible a travs de la ventana, un cierto espesor se pierden las propiedades de reflectan-
mientras que toda la energa infrarroja, incluyendo la del cia y conductividad elctrica. Una solucin consiste en
sol, es reflejada fuera del edificio. El diseo de un ptimo interponer entre el vidrio y la capa metlica un material
espejo de reflexin de calor involucra un compromiso que fije el metal y evite su segregacin; el xido de bis-
entre transmitancia en el visible y reflectancia en el infra- muto ha demostrado presentar esta propiedaci (48). En la
rojo. La situacin ms compleja se presenta cuando se figura 5a y 5b se representan los espectros de transmisin
han de satisfacer los requerimientos de ahorro de calor en y reflexin de una capa de oro y de plata depositados
invierno y de aire acondicionado en verano. Para este sobre sustratos de vidrio, respectivamente. En las figuras
caso, la mejor situacin la presentan los recubrimientos 5c y 5d se representan los espectros obtenidos deposi-
con propiedades variables y reversibles, tales como los tando las mismas cantidades de metal en presencia de
fotocrmicos, termocrmicos o materiales electrocr- una capa intermedia de xido de bismuto de unos pocos
micos. angstrons. Puede observarse como la incorporacin de
Es concebible, por tanto, que dentro de unos aos las bismuto favorece una mayor transmisin en el visible y
unidades de acristalamiento incorporen vidrio recubierto una mayor reflexin en el infrarrojo, lo que mejora la
y puedan reemplazar a los clsicos dobles acristalamien- utilidad del recubrimiento. Resultados anlogos son
tos como forma estndar de ventana para la construc- obtenidos con otros dielctricos tales como xido de
cin. titanio (49).
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985 331
F. ORGAZ

rencia en el visible es lograda con materiales con un alto


lOOi
salto de banda tipo aislador. Algunos semiconductores
depositados como finas pelculas sobre sustratos de
vidrio permiten la combinacin de ambas caractersticas
cuando se dopan adecuadamente. Los ms importantes
de stos son los xidos de indio, estao y cadmio y mez-
clas de estos xidos as como los xidos de cinc, vanadio,
hierro y titanio. Materiales como TiN han sido tambin
utilizados (51). Los films de xido de indio dopado y de
xido de estao dopado con F~,Sb3^(52) e incluso P(53),
junto a mezclas de ambos (xidos de estao-xido indio
o ITO) son los que presentan mayor inters ya que pue-
1,2 1,6 2,0 Q.2 0^4 0^6 den ser preparados con una alta conductividad elctrica,
LONGITUD DE ONDA [um] adems de ser altamente transparentes en el visible y en el
infrarrojo prximo. Adems, tales capas son fsicamente
y qumicamente resistentes y se adhieren bien a muchos
100] sustratos. Ambos son conductores tipo-n procedente de
vacantes de oxgeno para el Sn02 (54) y de desviaciones
de la estequiometra para el lujOa (55). La sustitucin de
In^^ por Sn"*^ determina un nivel de donor en la amplitud
de la banda de energa (56). lUjOa Y Sn02 presentan una
anchura de banda entre 3,5 y 4 eV. Las propiedades fsi-
cas, elctricas y pticas dependen de factores tales como
la concentracin de dopante, de las desviaciones este-
quiomtricas, mtodo de preparacin, temperatura,
espesor, presin parcial de oxgeno, etc. (57). Los par-
metros tpicos para un semiconductor ITO son: resistivi-
0,4 0,6 0 ^ 1,2 0,2 0,4 O dad de 5.10'^ n cm, coeficiente de transmisin en el
LONGITUD DE ONDA [/xm] rango entre 0,3 y l,5^tm entre 80 y 90% y una resistencia
de lmina R^ de 10 l. Las densidades de electrones libres
encontradas son del orden de lO"^ cm"^ y las movilidades
Fig. 5.Espectros de transmisin y reflexin para depsitos transpa-
rentes a hase de capas metlicas, a) Oro. b) plata, c) oro sobre subcapa
de B2O2 y d) plata sobre subcapa de BijOy

La principal desventaja de los depsitos metlicos es


la falta de adherencia sobre el sustrato, por lo que necesi-
tan una cierta proteccin lo cual se realiza a travs del
doble acristalamiento. Actualmente este tipo de recubri-
mientos en ventanas multifuncionales existen en el mer-
cado, empleando, por ejemplo, capas de oro sobre la
parte interna del panel externo del doble acristalamiento,
reteniendo la radiacin del infrarrojo lejano generado en
los sistemas de calentamiento (50). Actualmente tales
ventanas son realmente caras, por lo que su mercado est
limitado a edificios de prestigio. Sin embargo, en muchos
laboratorios se est trabajando actualmente en solucio-
nes ms econmicas, tratando de depositar capas de 400 600 800 1200
xido con similares, si no mejores, cualidades que los
recubrimientos metlicos. Un doble acristalamiento no ITO ITO
excesivamente caro que sea capaz de prevenir la penetra-
cin de la radiacin infrarroja solar en el edificio y de
retener el calor generado durante las estaciones fras, con 12 12
un K=I,4 W/m^C, alcanzar la produccin en masa mm mm
dentro de no muchos aos. Bsicamente estos recubri- AIRE AIRE
mientos estn formados por materiales a base de xidos
semiconductores.

4.2.2. DEPSITOS TRANSPARENTES A BASE DE


CAPAS SEMICONDUCTORAS Gnnri 6 mnn 6 mfn

Una eficiente reflectancia infrarroja de ancha banda VIDRIO FLOTADO


es obtenida de forma eficaz en materiales altamente con- Fig. 6.Curvas de transmisin y reflexin de un triple acristalamiento
ductores de tipo metlico, mientras que buena transpa- recubierto con ITO obtenido por sol-gel.

332 BOL. SOC. ESP. CERAM. VIDR. VOL. 24-NUM.5


Recubrimientos. Una tecnologa en desarrollo en el campo del vidrio

donde e es la carga electrnica, m* es la masa efectiva de


los electrones libres en la banda de conduccin, 8L, es la
constante dielctrica del material sin electrones libres, SQ
la permitividad del espacio libre, 7, la constante de amor-
tiguamiento electrnico, 7 = e/m*u, u la movilidad y CQ
la velocidad de la luz en el vaco.
Un filtro con borde muy profundo, sugiere un amor-
tiguamiento electrnico pequeo por lo que 7^ puede ser
despreciado en la ecuacin [8]. Puesto que la masa efec-
tiva de los portadores de carga, m*, no difiere en la prc-
0.4 \p 2 15 tica de la masa de un electrn libre, la eficacia de la capa
depende de la concentracin de portadores, N, y de su
LONGITUD DE ONDA [ x ] movilidad, u. Por tanto, el borde de transmisin puede
ser desplazado cambiando la densidad electrnica, N, y
Fig. 7.Curvas de reflexin y transmisin espectral de diferentes recu- esto se realiza dopando el xido semiconductor.
brimientos de Sn02 y /2^3 dopados: p = 0,3 um. En la regin de transmisin, las prdidas son debidas
SnOj: Sb N= 6.10^^ cnn
....InjOy Sn N = .lO^Unf^ a la absorcin de los electrones libres de la capa de espe-
.~.\n20^: Sn N= 13.10^^ cm'^ sor d. Dicha absorcin viene dada por la expresin:
A = (X2e3/47r2oC3o nm*2) (Nd/u) i [9]
del orden de 10-70 cm'^y-is'^ si se dopan adecuada- En la regin de reflexin infrarroja, las prdidas son
mente. Tales capas han sido preparadas por pulveriza- debidas a dos efectos diferentes. Para pelculas muy
cin (58), CVD (59), r.f. sputtering (60), sputtering reac- finas, la radiacin puede penetrar parcialmente en el sus-
tivo (61), evaporacin reactiva (62), magnetron sputte- trato a travs de la capa conductora, el cual en el IR es
ring (63), etc., cuyas propiedades son bastante parecidas casi un cuerpo negro absorbente. Pelculas muy espesas
cuando son tratados a temperaturas inferiores a 500 C son equivalentes al material en masa y la radiacin no
(64). Recientemente la tcnica de sol-gel ha mostrado ser reflejada es directamente absorbida por la pelcula. Tales
una eficiente y competitiva va para preparar estos recu- prdidas vienen dadas por la expresin:
brimientos (14). En la figura 6a y 6b se presentan los
espectros de reflexin y transmisin de un triple acrista- l-R = (47reoCo/e)(l/Ndu) [10]
lamiento con un recubrimiento de ITO entre dos paneles
de vidrio ordinario, obtenidos por el proceso de sol-gel. La reflexin infrarroja puede ser calculada tambin a
Los recubrimientos de estannato de cadmio son partir de la resistencia superficial del film
conocidos tambin por tener alta conductividad elctrica R = (1 + 2 eoCoRa)-^ [11]
y baja absorcin en el visible cuando son procesados bajo
condiciones bien elegidas (9, 65), con la ventaja de ser Una comparacin de las prdidas dadas por las ecua-
menos caros. Anlogas propiedades presenta el xido de ciones [9] y [10] muestra que ambas prdidas no pueden
cinc (66). minimizarse simultneamente. Mientras que las prdidas
IR decrecen con Nd, las prdidas visuales incrementan.
Esto significa que para una serie de filtros con diferentes
4.2.3. RELACIONES TERICAS RELEVANTES N y d existe una correlacin entre ambas prdidas, la cual
Las propiedades pticas estn relacionadas con las es independiente de N y d.
propiedades elctricas a travs del modelo del electrn A (1 - R) = (Xe/7rCom* u)2/n [12])
libre de Drude (67). La reflexin de la radiacin en un
recubrimiento de una capa metlica de un depsito
transparente semiconductor es explicado por la presencia siendo n el ndice de refraccin del film a la longitud de
de portadores libres de carga. onda \. Un filtro con relativamente bajas prdidas en el
visible y en el infrarrojo viene, pues, reptesentado por
Las propiedades ms relevantes que han de ser descri-
una hiprbola donde el segundo miembro de la ecuacin
tas son los valores de transmisin mxima alcanzados en
[12] es tan bajo como posible. Esto significa, indepen-
el visible, los valores mximos de reflectancia en el infra-
dientemente de Nd, que la movilidad u y la masa efectiva
rojo, as como el correspondiente borde de absorcin.
m* de los electrones libres debe ser lo ms alta posible;
Todos estos valores estn correlacionados con el espesor
estos requerimientos han de ser buscados eniel material
del film, y con la densidad y movilidad de los electrones
durante su preparacin. Puede ser demostrado que para
libres y pueden ser calculados utilizando las ecuaciones
un ptimo recubrimiento transparente reflectante de
de interferencia para un material con constantes pticas
calor, se necesita una movilidad electrnica alta de al
n y k (68).
menos 4,0 10"^ m^V^s'^ y una densidad electrnica de
La ecuacin clsica de Drude para la denominada aproximadamente 3.102^ m"^
longitud de onda de plasma, Xp, puede ser usada para
En la figura 7 se presenta la tpica reflexin y transmi-
calcular el lmite entre la transmisin y la reflexin de la
sin espectral de capas semiconductoras reflectantes de
radiacin. Esta frecuencia depende fundamentalmente de
calor sobre sustrato de vidrio. Las variaciones en la
la concentracin de portadores libres de carga, N, y viene
regin de corta longitud de onda son debidas fundamen-
dada por la expresin:
talmente a fenmenos de interferencia. La transmisin
1/2
Xp = 27rCo (Ne2/eo ^Lm* - 72)-V [8] media est entre el 85 y 90%. El espesor de la capa puede
SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985 333
F. ORGAZ

ser calculado entre dos mximos o dos mnimos (69) por BIBLIOGRAFA
la expresin:
e = (MX,2)/2n(X, - 2) [13] 1. VOSSEN, J.L., KERN, W . : Thin Films Processes. Edit.
Academic Press, New York, 1978.
donde M es el nmero de oscilaciones entre dos extremos 2. MAISSEL, L.I., GLANG, R . : Handbook of thin film
de longitudes de onda Xj y X2 Y ^ ^s el ndice de refrac- technology. Edit. McGraw Hill, New York 1970.
cin. 3. PULKER. H.K.: Coating on Glass. Edit. Elsevier,
New York, 1984.
4.2.4. EJEMPLOS DE APLICACIN DE CAPAS 4. PLUMAT, E.: Glass Ind. (1981) 14-18.
TRANSPARENTES DE BAJA EMISIVIDAD 5. SCHWEIG. B.: Mirrors. Edit. Pelham Books, London
1973.
Las aplicaciones de estos recubrimientos las encon- 6. BLUM, N . , HOGABUM, H . : Principles of electropla-
tramos en el campo de la ptica, electrnica, energa ting and Electroforming. Edit. McGraw Hill, New
solar, etc. York, 1940.
El primer uso industrial de estas capas fue como sis- 7. HERRANZ, D . : Planta para metalizado de vidrios.
tema de calentamiento transparente para el deshielo de E.T.S. Ingenieros Industriales de Madrid, 1983.
parabrisas de aviones. Actualmente son usadas como 9. DiSLiCH, H., HUSSMANN, E.: Thin solids films, 77.
ventanas pticas del espectro solar y como conductores (1981) 129-139.
transparentes. 10. DiSLiCH, H.: / . Non-Cryst. Solids 57(1983) 371-388.
En el campo de la conversin de la energa y ms 11. ORGAZ, F . , CAPEL., F.: XIV International Congress
concretamente en la conversin fotovoltica, estos recu- on Glass. New Delhi, India 1986 (en prensa).
brimientos son vlidos para la produccin de electrodos 12. MUKHERJEE, S., LONDERMILK, W.: /. Non-Crvst.
transparentes de clulas solares de SCd/SCu (70). La Solids 48. (1982) 177-184.
eficiencia en sistemas de calentamiento solar ha sido 13. ORGAZ, F., RAWSON, H . : J"^ Workshop on Glasses
notablemente incrementada, tanto cubriendo los paneles from gels, Montepellier, 1985.
con recubrimientos antireflectantes de S3N4, como utili- 14. ARFSTEN, N . : J. Non-Cryst. Solids 61. (1984) 243.
zando en el lado opuesto al absorbente un sustrato de 15. SCHRODER, H . : Phys. Thin Films (1969) 87-140.
vidrio recubierto con un conductor de Sn02 ITO (71). 16. BLODGETT, K . , LANGMUIR, L : Phys.Rev. 51. (1937)
Electrodos transparentes de ITO y Sn02 son igualmente 964.
utilizados como displays digitales y como diodos emiso- 17. KERN, W . , DECKERT, C : Chemical, etching, en Vos-
res de luz. Aplicaciones electrotrmicas antiniebla, apan- sen, J. y KERN, W. (edit). Thin film processes. Edit.
tallamiento de calor de hornos y apantallamiento trmico Academic Press, New York, 1978.
en general (72), (73), en lmparas de sodio e incandescen- 18. DRESNER, J.: RCA Review 30. (1969) 322.
tes (74), (75), (figura 8) recubrimientos antiestticos, 19. PITT, C , WALPITA, L.: Thin solids films 68 (1980)
resistores de alta estabilidad, apantallamiento de 101.
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SEPTIEMBRE-OCTUBRE 1985 335


PUBLICACIONES EDITADAS POR LA
SOCIEDAD ESPAOLA DE CERMICA Y VIDRIO
PRECIO
Socios No socios

I Semana de estudios cermicos (Madrid, 1961) 600 800


II Semana de estudios cermicos (Madrid, 1963) 600 800
III Semana de estudios cermicos (Madrid, 1965) 600 800
IV Semana de estudios cermicos (Madrid, 1967) 600 800
XI Congreso Internacional de Cermica (Madrid, 22-28 septiembre 1968) . 2.000 2.000
Terminologa de los defectos del vidrio (Madrid, 1973) 800 1.000
Horno elctrico de arco (I Reunin Monogrfica de la Seccin de Refracta-
rios, Marbella, 28-30 mayo, 1973) 500 700
El caoln en Espaa (Madrid, 1974) E. Galn Huertos y J. Espinosa de los
Monteros .200 1.500
Refractarios en colada continua (Madrid, 1974) 500 700
Refractarios en la industria petroqumica (III Reunin Monogrfica de la
Seccin de Refractarios, Puerto de la Cruz, 2-3 mayo, 1976) 500 700
Refractarios para la industria del cemento (Madrid, 1976) 500 700
Refractarios para tratamiento de acero y cucharas de colada, incluyendo
sistemas de cierre de cucharas (XX Coloquio Internacional sobre Refracta-
rios, Aachen, 13-14 octubre 1977) 3.000 3.500
Refractarios para incineradores industriales y tratamiento de residuos urba-
nos (XXI Coloquio Internacional sobre Refractarios, Aachen, 19-20
octubre 1978) 3.000 3.500
1.** Jornadas Cientficas. El color en la cermica y el vidrio (Sevilla, 1978) .. 800 1.200
Pastas Cermicas (Madrid, 1979) E. Gippini (Agotado) 2.000 2.500
2/^^ Jornadas cientficas. Reactividad de slidos en cermica y vidrio (Valen-
cia, 1979) 800 1.200
3.' Jornadas cientficas (Barcelona, 1980) 1.300 1.600
4."' Jornadas cientficas (Oviedo, 1981) 1.500 2.000
Separacin de fases en vidrios. El sistema Na2O.B2O3.SiO2 (Madrid, 1982)
J. Rincn y A. Duran 1.500 2.000
I Congreso Iberoamericano de Cermica, Vidrio y Refractarios (dos vol-
menes) (Torremolinos, 7-11 junio 1982) (Madrid, 1983) 4.500 4.500
5."* Jornadas cientficas. (Santiago de Compostela, 1984) 1.500 2.000
Tablas cermicas (Instituto de Qumica Tcnica. Universidad de Valencia) .
Vocabulario para la industria de los materiales refractarios (espaol-francs-
ingls-ruso) UNE 61-000 (Madrid, 1985) 4.500 4.500
Jornadas sobre materiales refractarios y siderurgia (Arganda del Rey, 4-5
mayo 1984. Madrid, 1985) 4.500 4.500

Los pedidos deben dirigirse a: SOCIEDAD ESPAOLA DE CERMICA Y VIDRIO


Ctra. Valencia, Km. 24,300
ARGANDA DEL REY (Madrid)

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La Sociedad Espaola de Cermica y Vidrio ofrece a sus socios los siguientes servicios de documentacin:
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Traducciones de artculos.
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