Nanomateriales aplicados a la industria

Recubrimiento de solidos a partir de sustancias

liquidas

Los materiales y la civilización

• La edad de piedra y de arcilla
• La edad de cobre y de bronce
• La edad de oro, plata y la creación de imperios
• La edad de hierro y acero y la industrialización
• La edad del silicio y la sociedad tecnológica
• La edad de la nanotecnología

La deposición química de vapor (CVD) es una técnica simple que

implica la descomposición de un precursor en fase gaseosa,
generalmente a presión reducida, lo que produce una película delgada
sólida sobre un sustrato adecuado.
• Plasma CVD
• Arc jet CVD
Reactor MOCVD de inyección pulsada
El reactor utiliza una interfaz controlada por computadora en circuito
abierto. para inyectar líquido pulsado en vertical. precursor en una baja
presión vertical reacción para realizar CVD metal-orgánico en un
horizontal, calentado por conducción. Sustrato

Bachmann, D. Leers, H. Lydtin, HACIA UN CONCEPTO GENERAL DE

DEPOSICIÓN DE VAPOR QUÍMICO DE DIAMANTE
Soluciones orgánicas utilizadas:
acetona C3H6O
etanol C2H6O
metanol CH4O
Los mejores resultados que se obtuvieron fueron:
• Mezcla de acetona 50% y agua 50%
• Metanol al 100%
• Mezcla de etanol 40% y agua 60%
En esta figura, las relaciones C:H:0 de las correspondientes fases de
vapor CVD permiten el cálculo de las coordenadas de los puntos de
datos dentro del triángulo. Desde entonces, las posiciones para cada
solución orgánica que utilizamos están marcadas con símbolos.

Resultados:
Microscopía electrónica de barrido y su espectro Raman de diamantes
depositados sobre sustratos de silicio utilizando una mezcla de etanol y
agua como precursor