Documentos de Académico
Documentos de Profesional
Documentos de Cultura
Materiales Compuestos
Profesor (a):
M.C. Carlos Bojrquez Tema:
4.3.2 Tcnicas de reaccin In-Situ
Alumno (s): 4.3.3 Deposicin de Vapor CVD y CVI
JONATHAN OVALLE MARTIENEZ
REYES ZAMBRANO CESAR AUGUSTO
ALBERTO JIMNEZ GMEZ
La tcnica CVD se desarroll lentamente durante los siguientes cincuenta aos y estuvo
limitada principalmente a la extraccin y pirometalurgia para la produccin de metales
refractarios de alta pureza tales como el tantalio, el titanio y el circonio.
Fechas importantes
1960: Introduccin de los trminos CVD y PVD para distinguir entre deposicin qumica de
vapores y deposicin fsica de vapores, respectivamente.
1960: Uso de la tcnica CVD para conseguir un recubrimiento de TiC usado en herramientas de
corte y desarrollo de tugsteno con la tcnica CVD.
1990s: Rpida expansin del mtodo MOCVD para la deposicin de materiales cermicos y
metales.
No se limita a una deposicin en una nica direccin caracterstica de los procesos PVD,
evaporacin y de pulverizacin catdica (sputtering). Debido a su alto poder de deposicin,
recovecos profundos, agujeros y otras configuraciones tridimensionales pueden ser recubiertas
con relativa facilidad. Por ejemplo, un circuito integrado con agujeros de relacin 10:1 puede
ser completamente cubierto con tugsteno usando la tcnica CVD.
La tasa de deposicin es alta y se pueden obtener recubrimientos de gran espesor (de hasta
centmetros de espesor). Este proceso es generalmente competitivo y, en algunos casos,
mucho ms econmico que los procesos de PVD.
Los equipos que se utilizan para ensayos de CVD no requieren de un vaco muy alto y, la
mayora de ellos, se pueden adaptar segn las necesidades. Su flexibilidad es tal que permite
muchos cambios en la composicin durante la deposicin y es factible la deposicin de
elementos y compuestos sobre una superficie en la que ya se ha realizado previamente una
deposicin.
Dos reas de aplicacin de la tcnica CVD se han desarrollado rpidamente en los ltimos
veinte aos:
Los materiales semiconductores que se dan en mayor cantidad en produccin o en desarrollo son
germanio, carburo de silicio y diamante.
Germanio:
Se utiliza como aleacin con el silicio. Algunas aplicaciones de la aleacin silicio/germanio son:
Carburo de silicio:
El carburo de silicio se puede presentar en dos estructuras cristalinas diferentes: en forma de cubo,
llamada SiC, y en forma hexagonal conocida como SiC
Diamante:
Puede ser un material ideal para muchas aplicaciones en las que se utilizan materiales
semiconductores, como puede ser transistores de alta frecuencia, alta potencia y ctodos fros, o
en el duro ambiente que se da en la combustin interna y en los motores a reaccin.
APLICACIONES PTICAS
La siguiente lista muestra una serie de materiales pticos que son obtenidos actualmente por
CVD o bien en produccin o experimentalmente:
Recubrimientos antirreflectantes:
La funcin de un recubrimiento antirreflectante es reducir la reflexin de la superficie de los
elementos pticos e incrementar la cantidad de luz transmitida.
Recubrimientos reflectantes:
El objetivo de un recubrimiento reflectante es proporcionar la mxima reflexin. La principal
aplicacin de estos recubrimientos se encuentra en los espejos.
Recubrimientos de separacin de calor y luz:
Estos recubrimientos (tambin conocidos como espejos calientes y fros) son
aplicaciones importantes que separan la radiacin infrarroja de la visible.