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distancia 1.

5 m
Potencial [V] (Cu-Cu2+ Potencial [V] (Cu-Cu2+
Medicion Resistencia [Ω]
fabricado) Laboratorio)
1 15 0.34130 0.31310
2 8 0.33480 0.36530
3 6.5 0.37220 0.36440
4 5.5 0.36140 0.37900
5 10 0.33900 0.36340
6 9.3 0.39600 0.41900
7 11.5 0.33090 0.39900
8 33.5 0.36690 0.39050
9 12.5 0.33380 0.36800
10 14 0.34800 0.36000

distancia 3 m
Potencial [V] (Cu-Cu2+ Potencial [V] (Cu-Cu2+
Medicion Resistencia [Ω]
fabricado) Laboratorio)
1 6.6 0.404 0.410
2 4.7 0.407 0.414
3 5.4 0.411 0.414
4 5.1 0.413 0.417
5 5.1 0.417 0.424
6 4.5 0.424 0.430
7 5.1 0.422 0.430
8 3.3 0.424 0.429
9 4.3 0.423 0.427
10 4.3 0.421 0.424
Observaciones

1 toma de agua tratada entre


el segundo y tercer electrodo

1 piedra y 1 toma de agua tratada

Observaciones

árbol
registro

árbol

toma de agua tratada

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