TALER

1) ¿Qué es un patrón interno y por qué se utiliza?

El patrón interno es la cantidad conocida de una especie que posee propiedades
semejantes a las de un analito y que se incluye en las soluciones patrón y de muestra. el
fundamento del análisis es, por tanto, la proporción entre la señal del patrón interno y la
del analito.
2) ¿Por qué el método de patrón interno se utiliza a menudo en la espectroscopia de
emisión de plasma?
Cuando se usa estándar interno, el cociente de la intensidad de la línea del analito a eso
del estándar interno se traza en función de la concentración del analito. Si el estándar
interno y las especies del analito están influenciadas de la misma manera por la variación
en la tasa de aspiración y la temperatura de la llama, y es el estándar interno presente en
aproximadamente la misma concentración, la relación de la intensidad debe ser
independiente de estas variables.

3) ¿Por qué las líneas de iones predominan en los espectros de chispa y las líneas de átomo
en los espectros de arco y en los de plasma de acoplamiento por inducción?
La temperatura de una chispa de alto voltaje es alto (≈ 40.000 k) que presentan la mayoría
de los átomos se ionizan.
En un arco de temperatura más bajo (≈400k) solo los elementos más ligeros se ionizan a
cualquier extensión significativa, la alta concentración de electrones en un plasma,
suprime la ionización extensa del analito.
4) Calcule la dispersión lineal reciproca teórica de una red de escalera cuya distancia focal
es de 0.85m. con una densidad de hendiduras surcos de 120 surcos/mm y un ángulo de
difracción de 63°26´, cuando el orden de difracción es a) 30 b)90
D−1=¿ ¿
2∗1 mm
∗107 Ȧ
120 surcos
∗cos 63° 26 ´
a) mm 2.9 Ȧ
D =
−1
=
30∗0.85∗10 mm 3
mm
m
2∗1 mm
∗107 Ȧ
120 surcos
∗cos 63° 26 ´
b) mm 0.97 Ȧ
D =
−1
=
90∗0.85∗10 mm3
mm
m
5) ¿porque las fuentes de arco se cubren a menudo con una corriente de gas inerte?
En presencia de aire y con electrodos de grafito, bandas fuertes de cianógenos (CN) hacen
que la región de la longitud de onda de 350 a 420 nm de poco uso, mediante la exclusión
de nitrógeno con un gas inerte, las intensidades de estas bandas se reducen
considerablemente. Habiendo posible detección de varios elementos con líneas en esta
región.
 6) ¿Describa 3 forma de introducir la muestra en una antorcha de plasma acoplado por
inducción?
- Nebulización
- Vaporización electrotermica
- Ablación laser
7) ¿Cuáles son las ventajas y desventajas de las antorchas de plasma acoplado por
inducción y de las antorchas de argón de corriente continua?
Las ventajas del ICP sobre la DCP son mayo sensibilidad por varios elementos y la libertad
de algunas interferencias y problemas de mantenimiento. Los electrodos no necesitan ser
remplazados en el ICP que el DCP, los electrodos de grafito deben sustituirse a cada
momento.
Ventajas de DCP incluye menor consumo de argón y equipo más sensible y menos costoso
8) ¿porque las interferencias de ionización son menos importantes en la espectroscopia de
emisión de plasma acoplado por inducción que en la espectroscopia de emisión de
llama?
Las interferencias de ionización son menos severas en el ICP que en emisión de la llama
porque los plasmas de argón tienen una alta concentración de electrodos que reprimen la
ionización del analito.
9) ¿Cuáles son alguna de las ventajas de las fuentes de plasma comparadas con las de llama
en la espectrometría de emisión?
Ventajas de las fuentes de plasma
- espectros de emisión para muchos elementos puede obtenerse con un conjunto de
condiciones de la excitación.
- reduce interferencias.
- plasmas fuentes usualmente tienen un rango de linealidad que cubre varias décadas en
la concentración.
- espectros puede obtenerse para los elementos que tienden a formar compuestos
refractarios.

10) ¿porque el método de patrón interno se utiliza a menudo en la espectrometría de emisión

de plasma?

A menudo se utiliza en el método de estándar interno en la preparación de las curvas de

calibración de ICP para compensar errores instrumentales aleatorios que surgen de las
fluctuaciones en la salida de la fuente de plasma.