CARATULA

UNIVERSIDAD NACIONAL DEL CENTRO DEL PERÚ

FACULTAD DE INGENIERIA QUIMICA
E.A.P. DE INGENIERIA QUIMICA
ELECTTROQUIMICA INDUSTRIAL Y CORROSION

ELECTRODEPOSICION DE LA PLATA

PRESENTADO A: ING. LUIS RICHIO

POR:

 CANTURIN CABRERA, Carmen

 CASTILLO ZEVALLOS, Cecilia

 NAVARRO ARIAS, Yadira

 RAMOS CHAVEZ, Madely Fernanda

 RUIZ QUISPE, Rey Airton

ALUMNOS DEL DEL NOVENO SEMESTRE

HUANCAYO – PERÚ
2017
ELECTRODEPOSICIÓN
DE LA PLATA
ÍNDICE
CARATULA 1
RESUMEN 5
HOJA DE NOTACIÓN O NOMENCLATURA 6
I. INTRODUCCIÓN 7
OBJETIVOS 8
OBJETIVO GENERAL 8
OBJETIVO ESPECIFICO 8
II. MARCO TEÓRICO 9
2.1. ELECTROQUIMICA 9
2.1.1. EL POTENCIAL DE REDUCCIÓN 9
2.2. ELECTRODEPOSICION 10
2.3. PROCESO FISICO-QUIMICO 12
2.3.1. LEYES DE FARADAY: 12
2.3.2. Proceso electrolítico: 13
2.4. DISEÑO DE UN SISTEMA DE ELECTRODEPOSICIÓN: 13
2.4.1. ELECCIÓN DEL METAL RECUBRIDOR (ANODO) 14
2.5. REACCIONES QUÍMICAS: 16
2.5.1. Reducción catódica de la plata.- 16
2.5.2. Reducción de oxígeno y agua.- 16
2.5.3. Reacciones anódicas: 16
2.6. FACTORES QUE AFECTAN A LA EFICIENCIA ELECTRODEPOSICIÓN: 17
III. MÉTODOS Y MATERIALES 18
3.1. MÉTODO 18
3.2. DESCRIPCIÓN DEL EQUIPO 18
3.3. MATERIALES Y REACTIVOS 19
3.4. PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL 19
3.5. DATOS OBTENIDOS 20
3.6. CÁLCULOS 20
3.6.1. DETERMINACIÓN DE LA MASA TEÓRICA 21
3.6.2. DETERMINACIÓN DE LA MASA PRÁCTICA 21
3.6.3. DETERMINANDO EL ERROR RELATIVO: 22
3.6.4. DETERMINANDO LA EFICIENCIA (n) 22
IV. RESULTADO 23
V. DISCUSIÓN DE RESULTADOS 24
VI. CONCLUSIONES 25
VII. RECOMENDACIONES 26
VIII. REFERENCIA BIBLIOGRÁFIC 27
ANEXOS 28
RESUMEN

El objetivo del presente informe fue determinar la eficiencia de la corriente en un

proceso de plateado, por lo tanto se tuvo como objetivos específicos conocer los
factores que intervienen en el proceso de electrodeposición, calcular la masa
teórica del objeto a platear y hallar la masa práctica del objeto; basándonos en
estudio de la primera Ley de Faraday, en la cual la cantidad de cationes plata
liberados es proporcional a la cantidad de electricidad que atraviesa las solución.

El método desarrollado es el experimental. Se trabajó en una celda con un voltaje

de 11 V y amperios de 0.1 A, dejándose el objeto – cátodo (debidamente limpio)
por 5 minutos en la celda electrolítica y unas placas de acero inoxidable - ánodo
paralelas al objeto plateado. Los resultados hallados son: masa teórica (0.033538 g
), masa practica (0.0053 g) y eficiencia de 15.8%.Se concluyó que
HOJA DE NOTACIÓN O NOMENCLATURA

E: Voltaje

F: Constante de Faraday 96500( A . s/mol)

I: Corriente (A)
M : Masa atómica del metal (g/mol)
n: Valencia del metal
t: Tiempo (s)
W : Cantidad de metal que se ha corroído o depositado (g)
I. INTRODUCCIÓN

La electrodeposición es uno de los procesos electroquímicos aplicado a nivel

industrial, que tiene mayor importancia en cuanto a volumen de producción, por lo
tanto al impacto económico, ya que se logra que las piezas constituidas por
material barato tengan excelentes características de resistencia a la corrosión,
abrasión, desgaste. Por lo tanto se considera en el presente informe como objetivo
principal la determinación de la eficiencia de la corriente en el proceso de
plateado, determinando su masa teórica y práctica del objeto.

Se realizó en una celda en la que la pieza que se desea recubrir se sitúa en el

cátodo del circuito, mientras que el ánodo es el metal con el que se desea cubrir la
pieza. Al ser reducidos los cationes precipitan sobre la superficie creando un
recubrimiento. El espesor dependerá de varios factores
OBJETIVOS

OBJETIVO GENERAL

 Determinar la eficiencia de la corriente en un proceso plateado

OBJETIVO ESPECIFICO

 Determinar la eficiencia de la electrodeposición de plata

 Conocer los factores que intervienen en el proceso de electrodeposición.
 Calcular la masa teórica del objeto a platear.
 Hallar la masa práctica del objeto plateado.
II. MARCO TEÓRICO
II.1. ELECTROQUIMICA
[ CITATION Els04 \l 10250 ] Es una rama de la química que estudia los cambios
químicos producidos mediante la corriente eléctrica y la producción de electricidad
mediante reacciones químicas. En otras palabras, se refiere a las reacciones químicas
que se dan en la interfase de un conductor eléctrico (llamado electrodo, que puede ser
un metal o un semiconductor) y un conductor iónico (el electrolito) pudiendo ser una
disolución y en algunos casos especiales, un sólido.

Si una reacción química es conducida mediante un voltaje aplicado externamente, se

hace referencia a una electrólisis, en cambio, si el voltaje o caída de potencial eléctrico,
es creado como consecuencia de la reacción química , se conoce como un "acumulador
de energía eléctrica", también llamado batería o celda galvánica.

Todas las reacciones electroquímicas implican la transferencia de electrones y son por

tanto reacciones de óxido-reducción. La oxidación y la reducción se pueden encontrar
separadas físicamente de modo que la oxidación ocurre en un lugar y la reducción en
otro, o en la misma solución electrolítica donde algún ion se oxida y otro se reduce,
encontrándose en un entorno conectado a un circuito eléctrico. Los procesos
electroquímicos requieren algún método por el cual poder introducir una corriente de
electrones en el sistema químico de reacción y algún método por el cual retirar
electrones. En la mayoría de las aplicaciones el sistema reaccionante está contenido en
una celda, y por los electrodos entra o sale una corriente eléctrica.
II.1.1. EL POTENCIAL DE REDUCCIÓN
[CITATION Han89 \l 10250 ] Es la espontaneidad, o la tendencia que tiene la reacción
redox a ocurrir entre dos especies químicas. Una reacción redox se puede suponer
como la suma de dos semirreacciones. Se puede atribuir a cada una de las semipilas o
electrodos un potencial fijo, así, el potencial de la pila (Eº) vendrá dado por la diferencia
de los dos potenciales de electrodo:
E0Celda =E0Catodo −E0 Anodo (2.1)

Es necesario aclarar que el "potencial de electrodo" es la carga electrostática que tiene

un electrodo, y el "potencial de reducción" es la carga electrostática que tiene un
electrodo asociado a una reacción de reducción.
El signo del potencial depende del sentido en el cual transcurre la reacción del
electrodo. Por convenio, los potenciales de electrodo se refieren a la semirreacción de
reducción. El potencial es entonces positivo cuando la reacción que ocurre en el
electrodo (enfrentado al de referencia) es la reducción, y es negativo cuando es la
oxidación. El electrodo más común que se toma como referencia para asignar
+
potenciales de electrodo es el del par H (ac, 1M)/H (1 atm), que se denomina
2
electrodo de referencia o normal de hidrógeno (ENH), el cual, por convenio
internacional, se le asigna arbitrariamente un potencial de exactamente 0,00 V.
Contiene una pieza de metal recubierto electrolíticamente con una superficie negra
+
granulosa de un metal inerte como el platino, sumergido en disolución 1,0M de H . El
hidrógeno, H , es burbujeado a 1 atm de presión a través de una funda de vidrio sobre
2
el electrodo platinizado.
II.2. ELECTRODEPOSICION
[ CITATION Mor00 \l 10250 ] La electrodeposición, o galvanoplastia, es un proceso
electroquímico de chapado donde los cationes metálicos contenidos en
una solución acuosa se depositan en una capa sobre un objeto conductor. El proceso
utiliza una corriente eléctrica para reducir sobre la superficie del cátodo los cationes
contenidos en una solución acuosa. Al ser reducidos los cationes precipitan sobre la
superficie creando un recubrimiento. El espesor dependerá de varios factores.

La electrodeposición se utiliza principalmente para conferir una capa con una propiedad
deseada (por ejemplo, resistencia a la abrasión y al desgaste, protección frente a la
corrosión, la necesidad de lubricación, cualidades estéticas, etc.) a una superficie que
de otro modo carece de esa propiedad. Otra aplicación de la electrodeposición es
recrecer el espesor de las piezas desgastadas p.e. mediante el cromo duro.
FIGURA 2.1: Celda de electrodeposición

FUENTE: [ CITATION Mor00 \l 10250 ]

Su funcionamiento es el antagónico al de una celda galvánica, que utiliza una reacción

redox para obtener una corriente eléctrica. La pieza que se desea recubrir se sitúa en el
cátodo del circuito, mientras que el ánodo es del metal con el que se desea recubrir la
pieza. El metal del ánodo se va consumiendo, reponiendo el depositado. 1 En otros
procesos de electrodeposición donde se emplea un ánodo no consumible, como los
de plomo o grafito, los iones del metal que se deposita debe ser periódicamente
repuestos en el baño a medida que se extraen de la solución

Recordemos que el ánodo de este sistema estará hecho del metal con que se quiere
recubrir la pieza, para que pueda disolverse, oxidarse, cediendo electrones y aportando
iones a la solución, a medida que los iones que estaban presentes en la solución, se
reducen y se depositan sobre la pieza a recubrir, que funciona como cátodo en el
sistema. Todo este proceso es posible gracias  a la corriente continua que  permite la
movilización de electrones.
Otro punto a destacar es que las propiedades que tendrá la capa que recubre la pieza,
depende directamente de la corriente que se haya aplicado. La adherencia de la capa,
su calidad, la velocidad de deposición, dependen del voltaje y de otros factores
relacionados con la corriente aplicada.
También hay que tener en cuenta que si el objeto a recubrir tiene una superficie
intrincada, la capa formada será más gruesa en algunos puntos y más fina en otros. De
todos modos, existen maneras de eludir este inconveniente, por ejemplo, utilizando un
ánodo con forma similar a la de la pieza a recubrir.
Este procedimiento es utilizado para  brindarle resistencia a la corrosión a una
determinada pieza, también para que aumente su resistencia a la abrasión, para
mejorar su estética, entre otras funciones.
Una de las aplicaciones frecuentes de este procedimiento, es en la joyería, en donde
una pieza realizada con un material barato, se recubre de una capa de oro o plata, para
protegerla de la corrosión y para aumentar el valor de la pieza.
Incluso se logran recubrir piezas plásticas con capas metálicas, logrando que la pieza
tenga las propiedades del metal, en su superficie.
La electrodeposición es uno de los procesos electroquímicos aplicado a nivel industrial,
que tiene mayor importancia en cuanto a volumen de producción, y es también uno de
los que causan mayor impacto económico, ya que se logra que piezas constituidas por
material barato, tengas excelentes características de resistencia a la corrosión, gracias
a la capa metálica electrodepositada. Algunos ejemplos son el zincado electrolítico, los
procesos de estañado y cromado, entre otros.
Los electrodepósitos de aleaciones de zinc tienen frecuentemente mayor resistencia a
la oxidación que los de zinc, y sustituyeron a los antiguos recubrimientos con cadmio,
metal potencialmente tóxico.
Un ejemplo de electrodeposición fácil de realizar en cualquier laboratorio, es la
electrodeposición de cobre sobre un clip.
Sólo necesitamos un trozo de cobre, una solución de sulfato de cobre, un clip y una
fuente de corriente continua. El dispositivo se armará como se ve en la figura de abajo.
FIGURA 2.2: Electrodeposición de cobre sobre un clip

FUENTE: [ CITATION Mor00 \l 10250 ]

 II.3. PROCESO FISICO-QUIMICO
[CITATION Dur84 \l 10250 ] Ambos componentes se sumergen en una solución
llamada electrolito que contiene uno o más sales de metal disuelto, así como otros
iones que permiten el flujo de electricidad. Una fuente de alimentación de corriente
continua genera un potencial eléctrico en el ánodo y en el cátodo. En el cátodo, los
iones metálicos disueltos en la solución electrolítica se reducen en la interfase entre la
solución y el cátodo y desaparecen de la disolución. Esto crea un desequilibrio de
cationes en la disolución. Este exceso de cationes se combina los átomos del metal del
cátodo formando la sal que se disuelve dejando el metal restante al descubierto, y por
otro lado reponiendo los iones precipitados.
El cátodo es un sumidero de cationes metálicos y un generador de aniones mientras
que en el ánodo sucede lo contrario es un sumidero de aniones y generador de
cationes. La cantidad de ambos está regulada por la constante de disociación y las
leyes de equilibrio lo cual conlleva a que la velocidad a la que se disuelve el ánodo es
igual a la velocidad a la que el cátodo se recubre. Aunque circula una corriente eléctrica
esta no la constituyen electrones que viajan entre los electrodos en los aniones, sino
que un electrón, o varios, del cátodo reducirá un catión metálico que se depositará. Esto
producirá un desequilibrio en la disolución por lo que hará que alguna molécula del
electrólito se disocie. Si está lejos del ánodo se volverá a recombinar, pero si está cerca
este reaccionará entregando un electrón, o varios, a este y generando una sal soluble
que se desprenderá.
FIGURA 2.3: Proceso físico-quimico

FUENTE:[ CITATION Dur84 \l 10250 ]

II.3.1. LEYES DE FARADAY:

[ CITATION ASM94 \l 10250 ] La ley de Faraday constituye el principio fundamental de la
electrólisis. Con la ecuación de esta ley se puede calcular la cantidad de metal que se
ha corroído o depositado uniformemente sobre otro, mediante un proceso
electroquímico durante cierto tiempo, y se expresa en los siguientes enunciados

 Primera ley.-

“La cantidad de cualquier elemento (radical o grupo de elementos) liberada ya sea en el

cátodo o en el ánodo durante la electrólisis, es proporcional a la cantidad de electricidad
que atraviesa la solución”.
I ×t × M
W=
n×F
Donde:
W : Cantidad de metal que se ha corroído o depositado (g)
I: corriente (A)
t: Tiempo (s)
M : masa atómica del metal (g/mol)
n: Valencia del metal
F: constante de Faraday 96500( A . s/mol)

 Segunda ley.-

“Las cantidades de elementos o radicales diferentes liberados por la misma cantidad de

electricidad, son proporcionales a sus pesos equivalentes”.

II.3.2. Proceso electrolítico:

[ CITATION ASM94 \l 10250 ] El proceso electrolítico consiste en hacer pasar una corriente
eléctrica a través de un electrolito, entre dos electrodos conductores denominados
ánodo y cátodo. Donde los cambios ocurren en los electrodos.
Cuando conectamos los electrodos con una fuente de energía (generador de corriente
directa), el electrodo que se une al polo positivo del generador es el ánodo y el
electrodo que se une al polo negativo del generador es el cátodo.
Una reacción de electrólisis puede ser considerada como el conjunto de dos medias
reacciones, una oxidación anódica y una reducción catódica

FIGURA 2.4: Elementos que intervienen en un proceso electrolitico

 FUENTE: [ CITATION ASM94 \l 10250 ]

II.4. DISEÑO DE UN SISTEMA DE ELECTRODEPOSICIÓN:

En el diseño de un sistema de electrodeposición, en general, se consideran las

características del lugar donde se pretende instalar, como son: los materiales que
constituyen el área de trabajo, el tipo de ventilación, la temperatura ambiental, la clase
de pintura u otros recubrimientos que se tengan en paredes, techo y suelo, los tipos de
instalaciones con las que se cuenta, como eléctrica y toma de agua, etc.
Además, de las restricciones específicas del sistema.
II.4.1. ELECCIÓN DEL METAL RECUBRIDOR (ANODO)
 Factores considerados.-

En galvanoplastia, a nivel industrial, el níquel es un metal muy importante debido a que

se aplica sobre varios metales ferrosos y no ferrosos sin la necesidad de un
revestimiento previo.

 Criterio de elección.-

Este sistema se diseñó para contener una cuba de niquelado adecuada para recubrir
artículos con fines decorativos, debido a que esa aplicación emplea menor cantidad de
materiales; esto obedece a que mientras más delgada sea una capa de níquel, mayor
calidad de brillo ofrece su acabado.

 Posición y número de ánodos.-

El ánodo es el electrodo compuesto del metal recubridor, en este caso, níquel. Las
líneas de fuerza de los ánodos se comportan de la misma forma que las líneas de un
campo magnético; es decir, éstas se desplazan de ánodo al cátodo, algunas en línea
recta y otras se curvan ligeramente.
La posición y la cantidad de los ánodos dependen de la forma del objeto a recubrir, por
lo que existen varias configuraciones, de las cuales, las más comunes se ilustran a
continuación:

 Recubrimiento parcial de una pieza.-

El recubrimiento más sencillo consiste en recubrir sólo una de las caras de la pieza, ó
cuando ésta tiene una forma regular, esto es, sin cambios drásticos en la superficie,
regularmente plana. Esta configuración también es usada para trabajar piezas muy
pequeñas (Figura 2.5).
 FIGURA 2.5: Configuración de un cato y un ánodo para trabajos sencillos

FUENTE: [ CITATION ASM94 \l 10250 ]

 Recubrimiento total de una pieza.-

Para recubrir totalmente una pieza, es necesario contar con más de un ánodo, lo que
permite un recubrimiento homogéneo, evitando así, que la pieza de trabajo sea
sometida a una segunda sesión. Generalmente se emplean dos ánodos equidistantes a
la pieza a tratar
FIGURA 2.6: Recubrimiento total de una pieza

FUENTE: [ CITATION ASM94 \l 10250 ]

 Diseño del tanque (celda).-

[ CITATION Els04 \l 10250 ] Los tanques se diseñan tan grandes y tan hondos como se
requiera, éste factor está en función de la(s) pieza(s) a recubrir. A nivel industrial, la
capacidad de los tanques varía desde un litro, en el caso de la joyería, hasta tanques
de proporciones impresionantes, según la aplicación. El objetivo de este proyecto fue
diseñar y construir un sistema que permitiera realizar prácticas de electrodeposición con
fines didácticos.
 II.5. REACCIONES QUÍMICAS:
II.5.1. Reducción catódica de la plata.-
La plata es electrolíticamente desplazado de soluciones cianuradas alcalinas de
acuerdo a la reacción.
Ag¿

La deposición del metal ocurre en potenciales bajos aproximados 3 V aunque el

potencial exacto va depender de las condiciones de la solución como la conductividad,
temperatura, pH.
El mecanismo de electrodeposición de la plata probablemente se produce por la
deposición de Ag(CN)- en el cátodo seguida por las especies absorbidas como se
puede observar: −¿ ¿
AgCN +CN ¿
Ag(CN )−¿→2
ads

−¿¿

AgCN ads +e−¿→ AgCN ¿ ads

El paso de la reducción catódica es entonces seguido por la disociación de las especies

reducidas: −¿¿
Ag +CN ¿
AgCN −¿→
ads
En sobre potenciales catódicos altos el peso de transferir electrones es probable que
sea directo, y las especies intermedias adsorbidas es probable que no se formen. Esta
distinción entre mecanismos de deposición bajo diferentes condiciones es importante ya
que las características físicas de la plata depositada por los dos son muy diferentes

 Breve explicación.-
El cátodo atrae predominantemente los iones positivos a una región cerca de su
superficie, conocida como la doble capa. Los complejos de iones cargados
negativamente, Ag(CN)2- , los cuales están próximos a esta capa, se polarizan en el
campo eléctrico del cátodo. La distribución alrededor del metal es distorsionada y la
difusión del complejo iónico en la capa es asistida. Los componentes ionicos o
moléculas son liberadas y el metal liberad en forma de cationes metálicos cargados
positivamente.

¿¿

II.5.2. Reducción de oxígeno y agua.-

El oxígeno que es producido naturalmente en el ánodo por oxidación de agua suele, en

una celda sin membrana, migrar o difundirse a cátodo donde es reducido de regreso al
agua por cualquiera de las vías de dos o cuatro electrones:
0

O2 +2 H +¿+2 e → H O E =+0,682 V ¿
2 2

O 2 +2 H 2 O+4 e →OH −¿ E =+0.410 V ¿

El agua puede ser reducida a hidrogenó, como está dado por la siguiente ecuación:
0

2 H 2 O+2 e−¿→ H +2 OH E =−0.828 V ¿

2
 II.5.3. Reacciones anódicas:

En la solución alcalina cianurada la mayor reacción en el ánodo es la oxidación de agua

a oxigeno:
O 2 +4 H +¿+ 4 e→ 2 H O ¿ 2

Esta reacción tiene que decrecer el pH de la solución junto al ánodo. El cianuro puede
ser oxidado a cianato en el ánodo.
−¿ +H O +2e
−¿ ¿
¿
2
−¿→CON ¿
−¿+2 OH ¿
CN
Y suele hidrolizarse en forma de amoniaco y dióxido de carbono aunque esto ocurre
muy lentamente a pH altos:
−¿→ NH3 + CO2 ¿

CN −¿+ H O +OH
2 ¿

Esta reacción se puede identificar por el fuerte olor a amoniaco sobre muchas celdas de
electrodeposición.

II.6. FACTORES QUE AFECTAN A LA EFICIENCIA ELECTRODEPOSICIÓN:

Vienen hacer el voltaje y corriente de celda aplicada las cuales son determinadas por
las propiedades de la solución:

- Concentración de plata.
- Hidrodinámica del electrolito.
- Temperatura.
- Área superficial del cátodo.
- Voltaje de celda.
- Corriente de celda y eficiencia de corriente.
- Conductividad de la solución.
- pH.
- Concentración de cianuro.
III. MÉTODOS Y MATERIALES
III.1. MÉTODO
El método utilizado en el presente laboratorio de electrodeposición es el MÉTODO
EXPERIMENTAL.
Según (Sampieri, 2004) se trata de demostrar (de una manera simple) que la
manipulación de una V.I., produce un cambio en la V.D. El ejemplo más simple es
la asignación de un valor de la V.I. a un grupo de sujetos (grupo experimental), y
otro valor a otro grupo (grupo control). El valor asignado al grupo experimental es
el valor o tratamiento que queremos investigar, es el tratamiento experimental, y el
valor asignado al grupo control es el tratamiento normal. Así, la diferencia entre un
tratamiento experimental y normal es el valor específico de la V.I. asignado
III.2. DESCRIPCIÓN DEL EQUIPO
FIGURA 3.1: Celda galvánica de plateado

FUENTE: Propia
 Fuente de alimentación: Es un transformador que baja el voltaje de, 220 V
a tensiones menores (de 0,1 a 12 V). Además, estos equipos transforman la
corriente alterna, en corriente continua, que es la que se utiliza para estos
procesos. Esta fuente debe tener en lo posible un sistema de regulación de
voltaje, puesto que cada proceso tiene un intervalo de tensión en el cual el
resultado es óptimo.

 Electrolito: Es una solución de sales metálicas, que serán las que servirán
para comenzar el proceso entregando iones metálicos, que serán
reemplazados por el ánodo. Por ejemplo, los baños de niquelado se
componen de sulfato de níquel, cloruro de níquel y ácido bórico. Los baños
de cincado contienen cianuro de sodio, hidróxido de sodio y soda cáustica
(los alcalinos) o cloruro de cinc, cloruro de potasio y ácido bórico (los
 ácidos). Para este caso se usa el cianuro de plata y también cloruro de
plata en bajo porcentaje.

 Ánodos: Son placas de metal muy puro, puesto que la mayoría de los
procesos no resisten las contaminaciones: níquel 99,997 %; cobre 99,95 %;
zinc 99,98 %. Cuando un ion entrega su átomo de metal en el cátodo,
inmediatamente otro lo reemplaza desprendiéndose del ánodo y viajando
hacia el cátodo. Por lo que la principal materia prima que se consume en un
proceso de galvanizado es el ánodo. Para el caso de baños de oro y plata,
es muy difícil conseguir placas de alta pureza de estos metales, por lo que
también se pueden utilizar ánodos de acero inoxidable, ya que éstos son
inertes y cumplen la función de cerrar el circuito, además de realizar el
transporte de electrones hacia el cátodo.
III.3. MATERIALES Y REACTIVOS
 Fuente de alimentación de energía (rectificador).
 Ánodos (placas de acero inoxidable).
 Cables de cobre con sus respectivos cocodrilos.
 1 celda.
 1 balanza digital.
 Cianuro de plata.
 Material de bronce.
III.4. PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL
 Como primer paso se deposita el electrolito en la celda, se procede a
colocar las placas de acero inoxidable a cada extremo de la celda.
 Se colocan los cables de cobre que se enganchan gracias a los cocodrilos
los polos positivos van en el conductor donde están los ánodos y el polo
negativo va donde se va a poner el material de bronce para su respectivo
plateado.
 Una vez listo el equipo se procede a limpiar el material de bronce para que
esté libre de grasas e impurezas que puedan impedir o disminuir el depósito
de la plata en el material.
 Ya limpio el material de bronce se procede a su pesaje en una balanza
analítica, luego se introduce el material a la celda que tiene como electrolito
al cianuro de plata durante cinco minutos, a una intensidad de 0.1A y un
voltaje de 11V.
 Cumplido el tiempo establecido se retira el material de la celda y de nuevo
se pesa obteniéndose el peso del material plateado.
 Se compara la masa acumulada experimental que se obtuvo con la masa
teórica determinada por la primera ley de Faraday.
 III.5. DATOS OBTENIDOS
Datos de Laboratorio:
V = 11V
I = 0.1A
t = 5min
m 1=6.3349 g

m 2=6.3402 g

P . A .( Ag)=107.868 g

III.6. CÁLCULOS
Para hacer debemos suponer que no conocemos la intensidad de corriente para
luego compara el dato experimental con el dato teórico y en cuanto varían estos.
El mecanismo de electrodeposición de la plata probablemente se produce por la
−¿¿
deposición de AgCN ads - en el cátodo seguida por las especies absorbidas como se
puede observar:
−¿ ¿
AgCN
Ag(CN )−¿→ ads +CN ¿
2

−¿¿

AgCN ads +e−¿→ AgCN ads ¿

El paso de la reducción catódica es entonces seguido por la disociación de las

especies reducidas:
−¿¿
−¿→ Ag +CN ¿
AgCN ads

Siendo el desplazamiento electrolítico la siguiente reacción:

Ag¿

De la primera ley de Faraday se tiene:

meq− Ag
m (Ag) = It
96500
Donde:
m (Ag) =[ g] : Masa depositada o liberada de una sustancia en un electrodo.
 g
m eq −Ag =[ ] : Masa equivalente de la plata producida el electrodo.
Eq−g
C
I =[ A= ] : Intensidad de corriente.
s
t=[s] : Tiempo.
C
96487 ≈ 96 500=[ ] : Constante de Faraday.
Eq−g
P . A .( Ag)
meq−Ag =
N ° e−¿ ¿
P . A .( Ag)=[g] : Peso atómico de la plata.

N ° e−¿ ¿ : Numero de electrones transferidos.

III.6.1. DETERMINACIÓN DE LA MASA TEÓRICA

 Determinación de la masa equivalente:

Remplazando el dato de peso atómico y se sabe que el número de electrones
transferidos es 1.
107.868
m eq−Ag =
1
g
m eq−Ag =107.868
Eq−g
Reemplazando en la primera ley de Faraday los datos:
meq− Ag
m (Ag) = It
96500

g
107.868
Eq−g 0.1 C
m(Ag) = × × 300 s
C s
96487
Eq−g

m (Ag) =0.033538 g

III.6.2. DETERMINACIÓN DE LA MASA PRÁCTICA

Ahora se determina la masa acumulada experimental

m ( Ag )=m 2−m 1
 m( Ag )=6.3402−6.3349

m ( Ag )=0.0053 g

Determinando la diferencia entre la masa depositada teórica y la experimental.

m(Ag)teorica −m( Ag )experimental =0.028238

III.6.3. DETERMINANDO EL ERROR RELATIVO:

m ( Ag) teorica −m( Ag) experimental
× 100=84.18 %
m (Ag)teorica

III.6.4. DETERMINANDO LA EFICIENCIA (n)

mP
η= ∗100
mT
0.0053 g
η= ∗100
0.033538 g
η=15.8 %
IV. RESULTADOS

 Masa equivalente:
m (Ag) =0.033538 g

 Masa acumulada experimental

m ( Ag )=0.0053 g

 Diferencia entre la masa depositada teórica y la experimental.

m(Ag)teorica −m( Ag )experimental =0.028238

 Error relativo:
E=84.18 %
 Eficiencia:
η=15.8 %
V. DISCUSIÓN DE RESULTADOS

En el laboratorio hecho sobre el plateado se ha notado que la deposición de plata

en nuestro objeto de bronce ha sido mínima, posiblemente una de las razones
seria el poco tiempo que fue de 5 minutos.

Otro de los motivos por el cual no se ha depositado la plata en el objeto de bronce

sea porque presentaba impurezas

Otro de los motivos del porque no ha sido significativa la deposición de plata en

nuestro objeto de bronce fue porque no ha pasado suficiente tiempo en la celda de
desengrase catódico y no se haya eliminado del todo las grasas.
VI. CONCLUSIONES

 Se determinar la eficiencia de la corriente que fue de 15.8 % en el proceso

de electrodeposición del plateado.

 Se logró conocer los factores que intervienen en el proceso de

electrodeposición.

 La masa de plata teórica depositada en el objeto de bronce, adorno en

forma de llama, se calculó aplicando la primera ley de Faraday que fue de
0.033538 gramos de plata.

 La masa de plata experimental depositada en el objeto de bronce fue

determinada por diferencia de pesos (peso inicial y peso final) fue de
0.0053 gramos de plata al ser sometido al proceso de electrodeposición.

 El porcentaje de error determinada fue de 84.18% en la deposición de plata

en el objeto de bronce.
VII. RECOMENDACIONES
 Se debe controlar que haya una correcta preparación superficial de la pieza
antes de la electrodeposición. Es diferente la preparación de la pieza según
sea el metal del sustrato.
 La solución debe tener los componentes según que metal se quiera
depositar. Se deben analizar la acidez de la solución (pH) y cada
componente: buffer, aditivos, concentraciones de metal, complejantes.
 Se controlan los electrodepósitos periódicamente con una Celda de Hull
(aspecto, presencia de tensiones). También se puede verificar cómo se
modifican los depósitos cuando la solución se ha tratado (con carbón, por
ejemplo, en el caso de impurezas orgánicas).
 La disposición de los electrodos en la cuba o celda es importante. La
relación de áreas entre ánodo y cátodo.
 Es también primordial tener en cuenta la distribución de corriente en la
pieza para que sea parejo el espesor.
 Para una buena distribución de corriente, tienen que estar el ánodo y el
cátodo enfrentados y si es posible que tengan formas parecidas.
Además que sean accesibles las líneas de corriente a todos los puntos de
la pieza.
 Existe una fórmula que da un criterio de diseño, que permite evaluar si es
bueno dicho diseño. La relación se obtiene dividiendo el valor del Espesor
promedio en varios puntos / Espesor mínimo y que si es de 2 ó 3, el diseño
es bueno, para una buena distribución de corriente (un depósito parejo), si
es más alto que 2 ó 3 el diseño no es bueno
 Mayores espesores aseguran que la orientación cristalina sea tal que las
fuerzas de unión de los átomos en la estructura y en la superficie sean
mayores. Por lo tanto, que sea mayor la resistencia a la corrosión del
material. Es importante tener en cuenta que el espesor de recubrimiento es
esencial para lograr mayor resistencia contra la corrosión.
VIII. REFERENCIA BIBLIOGRÁFIC

Referencias
ASM. (1994.). Surface Engineering Handbook. Vol 5. Chap. 10. .
Casas. (1984). Durney Electroplating Engineering Handbook.
Elsevier. (2004). Nanoplating. Tohru Waranabe. .
Handbook. (1889). Practical Electroplating. Prentice Hall.
Mordechay Schlesinger, M. (2000). Modern Electroplating. Electrochemical Society
Series.

PAGINAS WEB:
 http://es.scribd.com/doc/68130575/51/Electrodeposicion-15
 http://quimica.laguia2000.com/conceptos-basicos/electrodeposicion
 http://www.raulybarra.com/notijoya/archivosnotijoya9/9oro_refinacion_lixivia
cion_hidrometalurgia.htm
ANEXOS

FIGURA 1: objeto de bronce antes del proceso de electrodeposición

FUENTE: Propia
FIGURA 2: Desengrase Catódico

FUENTE: Propia
 FIGURA 3: Celda de electrodeposición

FUENTE: Propia
FIGUR 4: Proceso de electrodeposicion (5 minutos)

FUENTE: Propia
FIGURA 5:Depocion de la plata al objeto de electrodeposicion

FUENTE: Propia