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Facultad de Ingeniería Electrónica y Mecatrónica FIEM-UTP

Dispositivos Electrónicos I-Separata de Ejercicios

Dispositivos Electrónicos I– Semiconductores

Temas: 4.- En una muestra de silicio a


Física de estado sólido temperatura ambiente se introducen
Semiconductores – calculo de impurezas de fósforo con una
concentraciones de electrones y concertación de 1016 átomos /cm3 .
huecos ¿Calcular la concentración de
Ley de Acción de las masas electrones y huecos?
Ley de Neutralidad de la carga
Niveles de energía de Fermi. 5.- Calcular la concentraciones de
Termistores y Fotoresistencias equilibrio p y n del germanio a la
Difusión y Velocidad de corriente temperatura de 300K con una
eléctrica contaminación en exceso de ND =
5x1016 átomos /cm3 .La concentración
1.-Un foton de rayos gamma emitidos intrínseca para dicha temperatura es de
en cierta reacción nuclear tiene energía 2.5x1013 cm-3 .
de 1Mev .Hallar su frecuencia y su
longitud de onda así como la relación 5.- Un hilo de cobre de 120m y 10-2 cm
de la longitud de onda y el tamaño de diámetro se conecta a una pila de
nuclear típico del orden de los 10-15m. 2v.Calcular la intensidad de corriente
así como la velocidad de arrastre. Si
2.- Cual es el voltaje mínimo de ncu =1022cm-3 y la conductividad es de
aceleración que se necesita en un tubo 106 -1.cm-1 .
de rayos X , a fin de producir rayos X
con una longitud de 1Ao . 6.- Considerar al germanio intrínseco a
temperatura ambiente ( T=300K) en
3.- Un foton de 1400Ao de longitud de que tanto por ciento varia la
onda es absorbido por vapor frió de conductividad cuando la temperatura
mercurio y son emitidos otros dos aumenta 1ok.
fotones ,si uno de estos tiene un
longitud de onda de 1850Ao .
Calcular la energía del otro foton.

Profesor : Ing. Alberto Alvarado Rivera Periodo : 2011-III


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Dispositivos Electrónicos I-Separata de Ejercicios

7.- Calcular la movilidad de electrones 11.- A partir de su tabla de propiedades


libres en el aluminio para el que la para un semiconductor de silicio.
densidad es de 2.7g/cm3 y la Determine cual será el ancho de la
resistividad es de 3.44x10-6 -cm. banda prohibida a una temperatura de
Suponer q el aluminio tiene tres 500oC .
electrones de valencia por átomo.
12.- Calcule la concentración de
8.- Si la masa efectiva de un electrón huecos y electrones en un
es el doble de la de un hueco calcular semiconductor de Germanio si este
la distancia (en ev ) del nivel de Fermi semiconductor esta a 450 oC .
en un semiconductor intrínseco del
centro de la banda prohibida a la
temperatura ambiente. 13.- Como haría usted para diseñar un
termistor que tenga la siguiente función
9.- Calcular la resistividad del silicio de respuesta
intrínseco a 300K si se añade una Rth versus T , donde Rth esta en K y
impureza donadora de en una T en oC .. ( ESTE ES UN PROBLEMA
proporción de 1 átomo por 108 átomos DE DISEÑO , POR LO TANTO NO
de silicio .Hallar su resistividad. TIENE RESPUESTA UNICA ).

10 .- En una muestra de silicio de tipo Rth.-K


N la concentración de donadores es de 150K =Rth (0)
un átomo por cada 2x108 de silicio.
Suponer que la masa efectiva del
electrón es igual a la masa real .A que
temperatura coincide el nivel de Fermi
con el borde de la barra de conducción.
Datos – Silicio densidad 2.33g/cm3 Caida Exponencial
Peso Atómico 28.1g 0oCT ( oC )

Profesor : Ing. Alberto Alvarado Rivera Periodo : 2011-III


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Dispositivos Electrónicos I-Separata de Ejercicios

15.- Calcular la característica 16.- La concentración de huecos de


resistencia entre A y B versus una barra de silicio de una Área
temperatura en la siguiente barra Unitaria se muestra en la siguiente
semiconductora que tiene dos partes , figura. Si la Dp = 12cm2/seg dado que
la superior es de germanio y la inferior la corriente que fluye a través de la
es de silicio . El área de la sección barra es 1mA . Determinara el valor de
transversal es un cuadrado de 100 m la concentración de huecos en el borde
de lado. del lado izquierdo de la barra.
b) .- Hacer el mismo calculo para la Desprecie la recombinación de
resistencia que se forma entre los portadores. Área = 1cm2
puntos C y D.
10-1cm
A
Po
A Silicio

1000um 1000um Px
C D

C
100um 17.- Hallar la ley de variación de la
D concentración de huecos en un
1000um
semiconductor cuando esta no
depende del campo eléctrico aplicado
B ni de la distancia.
Utilizar la Ecuación de Continuidad
para huecos

Profesor : Ing. Alberto Alvarado Rivera Periodo : 2011-III

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