Precursores sublimes: cómo el modelado de

organometálicos en superficies impulsa la innovación en el

procesamiento de materiales
Explore los flujos de trabajo de simulación a escala atómica y
aprenda sobre las propiedades clave de los precursores y la
termodinámica de la adsorción.

La rica ya menudo sorprendente química de los complejos

organometálicos (o metalorgánicos) significa que las
simulaciones a escala atómica son una forma importante de
dilucidar la estructura, la unión y la reactividad.

En este seminario web gratuito, analizamos simulaciones de

complejos organometálicos como moléculas precursoras para la
deposición o el grabado de materiales. La deposición química de
vapor, la epitaxia en fase de vapor, la deposición de capas
atómicas y el grabado de capas atómicas comprenden una
familia de técnicas de procesamiento de materiales que
dependen de tres propiedades precursoras clave: volatilidad,
reactividad y descomposición.

El presentador de este seminario web es Simon Elliott, director de

simulación de procesos a nivel atómico en Schrödinger. En el
transcurso de una hora, se enfoca en estas propiedades y explica
cómo calcular las propiedades físicas es igualmente importante
para los organometálicos en catálisis homogénea y heterogénea.

Finalmente, Simon presenta flujos de trabajo de simulación que

integran la mecánica cuántica con la generación automática de
estructuras, mostrando la termodinámica de la adsorción durante
el crecimiento o el grabado y las reacciones de disociación de
enlaces que son típicas de la descomposición térmica.