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Tema 5 Anexo Dimensionamiento de Una Placa de Orificio
Tema 5 Anexo Dimensionamiento de Una Placa de Orificio
AÑO 2013
DIMENSIONAMIENTO
DE UNA PLACA
ORIFICIO DE GAS
OBJETIVOS
Dimensionamiento de una placa orificio
excétrica toma en bridas (d), Indicando
todos los pasos seguidos
qvmáx
hw
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
AÑO 2013
h w [ pu lg ca]
≤1
p f 1 [ psia]
PRESIÓN
ABSOLUTA AGUAS
ARRIBA
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
AÑO 2013
En Este caso:
h w [ pu lg ca] 20
= = 0.67 ≤ 1
p f 1 [ psia ] 29.7
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
AÑO 2013
Z f1 * Tf1 * G * q v C * Y1
SM = 2
= β 2
N vPT ⋅ Fa ⋅ Z b .D i ⋅ h w . p f 1 1− β 4
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
AÑO 2013
(qv)N=0.8*200=160 sfcm
Se calcula SM:
Z f1 * Tf1 * G * (q v ) N 549.67 0.63
SM = = .160
2
N vρp ⋅ Fa ⋅ Z b .D i ⋅ (h w )N . p f 1 128.5171 * 1.00042 * 4.026 * 12.8 * (15 + 14.7)
2
SM= 0,0735
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
AÑO 2013
C = C ∞ + b ⋅ [(N Re ) N , D ]
−n
4 3
0,09 0.34 0.34
C∞ = 0,5959 + 0,0312 ⋅ 0.34 2,1 − 0,184 ⋅ 0.34 8 + ⋅ 4
− 0,0337 ⋅
4.026 1 − 0.34 4.026
C∞ = 0,599
Coeficiente b:
b = 91,71 ⋅ β 2,5
b = 6,182
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
Exponente n: 0.75
C = 0,599 + 6,182[(NRe)N,D-(0.75)
C = 0,6
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
(
Y1 = 1 − 0,41 + 0,35 ⋅ β ⋅
4 x1
κ
)
κ: coeficiente de Poisson (κ = cp / cv) κ = 1,25
(h w ) N 12.8 pulg c.a.
x1 = = = 0,015542
27,73 ⋅ pf1 27,73 ⋅ 29,7 psia
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS
( x1
) (
Y1 = 1 − 0,41 + 0,35 ⋅ β ⋅ = 1 − 0,41 + 0,35 ⋅ 0.34 ⋅
κ
4 4 0,015542
1,25
)
Y1 = 0,995
−0,25 −0,25
⎡ ⎛ C ⋅ Y1 ⎞ 2
⎤ ⎡ ⎛ 0,600 ⋅ 0,995 ⎞ 2
⎤
β = ⎢1 + ⎜ ⎟ ⎥ ⇒ β = ⎢1 + ⎜ ⎟ ⎥
⎢⎣ ⎝ S M ⎠ ⎥⎦ ⎢⎣ ⎝ 0,0735 ⎠ ⎥⎦
β = 0,349
INSTRUMENTACIÓN INDUSTRIAL DE PROCESOS