PCVD (Deposición de vapor químico mediante plasma a baja presión)

Los principales pasos de este proceso lo mostraremos en este esquema.

Los pasos de “Clasificación”, “Limpieza”, “Presentación”, “Calentamiento” y “Colapsado” son los

mismos descritos en el proceso anterior que explico mi compañero. La diferencia y ventaja, es que
este método comparado con el MCVD es que inicia una reacción heterogénea en la pared interior
del tubo con un plasma no isotérmico. Gracias a este plasma no isotermico se evita la formación de
“soot” (hollín) ya que se trabaja con temperaturas más bajas al igual q el PCVD ya que tbm es de
“baja temperatura”.

microwave reactor: microonda reactor

sílice tuve: tubo de silicio

pumping selection: selección de bombeo

gas supply system: sistema de

suministro de gas

ahí se observa que el horno calienta el sustrato de plasma que gira en su interior a 1200ºC. Un
resonador de microondas alrededor del tubo de silicio que transfiere energía electromagnética en el
orden de 1 KW en el interior del tubo

OVPO (Deposición exterior de vapor mediante oxidación)

Outsider Vapor Deposition: Deposición de vapor exterior.

Se podría decir que la diferencia de éste método en comparación con los dos explicados
anteriormente es que el proceso de deposición de las finas partículas de sílice se realiza lateralmente
en el exterior del tubo de vidrio, esto debido a que este es provocado por los reactantes que se
encuentran mezclados con el gas del quemador. Estas partículas, son aproximadamente de 0,1 mm
de diámetro, se pegan entre ellas formando una preforma porosa sobre un mandril giratorio. Una
vez es finalizada esta etapa, se retira el eje y se sinteriza esta preforma porosa convirtiéndose en una
preforma de vidrio transparente lista para generar lo q es la fibra óptica.

Los pasos de este proceso veremos a continuación en este esquema.

Deposición

Aquí Los reactantes, generalmente como el SiCl4(tetracloruro de silicio) y GeCl4(Tetracloruro de

germanio

), se introduce en un quemador de gas-oxígeno o gas-Hidrógeno, cuya llama se desplaza

lateralmente sobre un mandril que a su vez rota sobre su eje. En la llama se produce la reacción
química de los reactantes con el oxígeno, dando lugar a unas finas partículas de sílice dopado que se
depositan sobre el mandril giratorio. Estas partículas, en estado parcialmente sinterizadas, forman
capas uniéndose mutuamente formando así el núcleo y revestimiento de la fibra.

Separación del mandril

Aquí La preforma porosa obtenida es desvinculada del mandril con mucho cuidado de no dañarla.
Este paso es crítico ya que puede incrementar las pérdidas en gran medida.

Consolidación y eliminación de los oxhidrilos

Aquí La preforma porosa es sujetada de un extremo y introducida, verticalmente, en un horno que

se encuentra a unos 1500ºC. Donde se produce la sinterización de si mismo. Se puede decir q la
atmósfera del horno está compuesta por gas He con un bajo porcentaje de gas de cloro. Lo que
asegura q el He es material transparente, libre de burbujas y el cloro purga el vidrio eliminando asi
los hidróxidos.

Colapsado

La preforma transparente obtenida como resultado de los pasos anteriores debe ser colapsada en
otro horno a unos 1800-2200ºC, esto dependiendo de la composición del vidrio, para eliminar el
orificio del centro por el cual se encontraba el mandril

Del grafico

HCI, H2O SiO2: Cloruro de hidrógeno,agua, El dióxido de silicio

Substrate rod: Varilla de sustrato

SiO2 – GeO2 powder for core and cladding: El dióxido de silicio y el dioxide de germanio, polvo para

núcleo y revestimiento
H2 , O2: dihidrogeno, dióxido

SiCl4 GeOl4,O2: tetracloruro de silicio, Tetracloruro de germanio, dioxido

He, Cl2: helio , dicloro

He,HCl: helio, Ácido clorhídrico

He: