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RECUBRIMIENTOS POR PULVERIZACIN CATDICA

Recubrimiento tambin llamado revestimiento es un material que es depositado


sobre la superficie de un objeto, por lo general denominado sustrato. Los
recubrimientos funcionales permiten dar propiedades y caractersticas extras
respecto al sustrato, son aplicados mediante procesos en forma de lquidos, gases
o slidos.
Tcnicas de recubrimiento:
Deposicin Qumica de vapor
a) Deposicin de vapor mediante procesos qumicos organometlicos.
b) Deposicin de vapor asistida por eyeccin electrosttica.
Deposicin Fsica de vapor
a) Deposicin mediante arco catdico.
b) Deposicin fsica de vapor mediante haz de electrones.
c) Ion plating.
d) Deposicin asistida por haz de iones.
e) Pulverizacin Asistida por Magnetron.
Deposicin mediante Lser.

Principio de la pulverizacin catdica (Figura 1):


Se introduce el sustrato dentro de una cmara del equipo de pulverizacin, en la
cmara hay un material solido en forma de cilindros que est hecho del material
que se desea depositar como recubrimiento y se le llama blanco. Durante este
proceso

Figura 1. Pulverizacin Catdica


el aire es evacuado de la cmara mediante bombas de vaco, a la vez que de
manera continua se introduce una determinada cantidad de gas argn en la
cmara. Dentro de los cilindros de blanco existen poderosos imanes que al entrar
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en rotacin forman un campo magntico a travs de los blancos cuando estos son
sometidos a una descarga de alto voltaje el argn se ioniza creando plasma a lo
largo del campo magntico.
Dentro del plasma los tomos de argn son bombardeados por electrones libres y
los tomos de argn se cargan positivamente crendose electrones secundarios.
Los iones son continuamente acelerados en direccin de la superficie de los
blancos que se encuentran cargados negativamente, la superficie de los blancos
es bombardeada por los iones de argn que a su vez transfieren su energa
cintica a este, de tal manera que los tomos del material dispuesto como blanco
son expulsados, a esta expulsin se le conoce como pulverizacin catdica. Los
tomos expulsados son dirigidos al sustrato a ngulos diferentes, la condensacin
de los tomos expulsados sobre la superficie se inicia con el proceso de
deposicin de una capa fina, durante la deposicin el sustrato es movido
lentamente para lograr una capa uniforme.

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