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  • Ponchon Savarit - Alternativas F

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    Fede aguirre
    9 vistas10 páginas
    El documento describe diferentes tipos de alimentación en un proceso de separación por destilación. Explica cómo se posiciona el punto F representativo de la alimentación en diagramas de equilibrio de fases para líquido saturado, vapor saturado, líquido subenfriado y vapor sobrecalentado. También describe cómo la línea que une el punto F con la curva de destilado puro determina la diferencia mínima de entalpía (ΔDmin) entre la corriente de alimentación y el destilado.

    Descripción original:

    Título original

    Ponchon Savarit - Alternativas F (4)

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    El documento describe diferentes tipos de alimentación en un proceso de separación por destilación. Explica cómo se posiciona el punto F representativo de la alimentación en diagramas de equilibrio de fases para líquido saturado, vapor saturado, líquido subenfriado y vapor sobrecalentado. También describe cómo la línea que une el punto F con la curva de destilado puro determina la diferencia mínima de entalpía (ΔDmin) entre la corriente de alimentación y el destilado.

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    Ponchon Savarit - Alternativas F

    Cargado por

    Fede aguirre
    El documento describe diferentes tipos de alimentación en un proceso de separación por destilación. Explica cómo se posiciona el punto F representativo de la alimentación en diagramas de equilibrio de fases para líquido saturado, vapor saturado, líquido subenfriado y vapor sobrecalentado. También describe cómo la línea que une el punto F con la curva de destilado puro determina la diferencia mínima de entalpía (ΔDmin) entre la corriente de alimentación y el destilado.

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    de 10

    Cátedra Operaciones Unitarias II

    Alimentación F > Líquido saturado

    El posicionamiento del punto F es sobre la curva de líquido saturado en la composición ZF

    35000

    30000

    25000

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    F

    − 10000

    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 1
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    La línea de unión que pasa por F y que proyectada corta XD, determina el ∆Dmin

    ∆Dmin
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    30000

    25000

    20000

    15000

    10000

    5000

    HF
    − 5000 F

    − 10000

    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 2
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    Alimentación F > Vapor saturado

    El posicionamiento del punto F es sobre la curva de vapor saturado en la composición ZF

    35000

    30000

    25000 F

    20000

    15000

    10000

    5000

    − 5000

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    XW ZF XD

    pág. 3
    ∆Dmin
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    La línea de unión que pasa por F y que proyectada corta con XD, determina el ∆Dmin

    35000

    30000

    25000
    F
    HF
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    10000

    5000

    − 5000

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    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
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    pág. 4
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    Alimentación F > Líquido subenfriado

    F se posicionará por debajo de la curva de líquido saturado en la composición ZF y entalpía HF.

    35000

    30000

    25000

    20000

    15000

    10000

    5000

    − 5000
    HF
    F
    − 10000

    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 5
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    La línea de unión que pasa por F y que proyectada corta XD, determina el ∆Dmin

    35000 ∆Dmin
    30000

    25000

    20000

    15000

    10000

    5000

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    HF
    F
    − 10000

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    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 6
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    Alimentación F > Vapor sobrecalentado

    F se posicionará por encima de la curva de vapor saturado en la composición ZF y entalpía HF.

    35000

    30000 F

    25000

    20000

    15000

    10000

    5000

    − 5000

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    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 7
    ∆Dmin
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    La línea de unión que pasa por F y que proyectada corta con XD, determina el ∆Dmin

    35000

    30000
    F
    HF 25000

    20000

    15000

    10000

    5000

    − 5000

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    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 8
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    Alimentación F > Vapor sobrecalentado

    F se posicionará por entre la curva de líquido saturado y la curva de vapor saturado en la composición ZF y entalpía HF.

    35000

    30000

    25000

    20000

    15000

    10000
    HF F
    5000

    − 5000

    − 10000

    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 9
    Cátedra Operaciones Unitarias II

    La línea de unión que pasa por F y que proyectada corta con XD, determina el ∆Dmin

    ∆Dmin

    35000

    30000

    25000
    100% vapor

    20000

    15000
    HF F
    10000

    5000

    0
    0% vapor

    − 5000

    − 10000

    − 15000
    0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1
    XW ZF XD

    pág. 10

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