En un artículo de AT&T Technical Joumal (vol. 65, pp.

39-50) se describe la aplicación de diseños

factoriales de dos niveles en la fabricación de circuitos integrados. Un paso básico del
procesamiento es hacer crecer una capa epitaxial sobre obleas de silicio pulidas. Las obleas se
montan en un susceptor, se colocan en el interior de una campana de cristal y se introducen
vapores químicos. El susceptor se hace girar y se aplica calor hasta que la capa epitaxial tiene el
espesor suficiente. Se corrió un experimento utilizando dos factores: rapidez de flujo de arsénico
(A) y tiempo de deposición (B). Se corrieron cuatro réplicas y se midió el espesor de la capa
epitaxial (en µm). Los datos se muestran a continuación:

a) Estimar los efectos de los factores

A:

 H0: no afecta o influye el gasto de arsénico sobre el grosor de la capa epitaxial.

 H1: si afecta o influye el gasto de arsénico sobre el grosor de la capa epitaxial.

B:

 H0: No afecta o influye el tiempo de depósito sobre el grosor de la capa epitaxial

 H1: No afecta o influye el tiempo de depósito sobre el grosor de la capa epitaxial

AB

 H0: No afecta o influye la interacción gasto de arsénico-tiempo de depósito sobre el grosor

de la capa epitaxial.
 H1: Si afecta o influye la interacción gasto de arsénico-tiempo de depósito sobre el grosor
de la capa epitaxial.

b) Conducir un análisis de varianza. ¿Qué factores son importantes?

ANOVA
FV SC GL CM Fo Fα CD
0,4025902 12,706204
A 0,40259025 1 1,25029662
5 7 NS
12,706204
B 1,373584 1 1,373584 4,26584457
7 NS
12,706204
AB 0,2815 1 0,2815 0,87423503
7 NS
ERRO 0,3219957
3,8639495 12
R 9
TOTAL 5,92162375 15
 Interpretación: El análisis de ANOVA nos que tanto los efectos simples como la interacción nos
son significantes por lo tanto ni el tiempo, ni el gasto de arsénico, ni la interacción entre ellos
influye en el grosor de la capa de epitaxial.

Diagrama de Pareto

B 0.59

A 0.32

AB 0.28

0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7

c) Escribir una ecuación de regresión que podría usarse para predecir el espesor de la capa
epitaxial en la región de la velocidad de flujo del arsénico y el tiempo de deposición utilizado en
este experimento

y=β 0 + β 1 X 1+ β2 X 2 + β 3 X 3

0,31725 0,586 0,2815

y=14,514− X 1+ X2+ X3
2 2 2
Como se elimina los no significativos

y=0

d) Analizar los residuales. ¿Se observa algún residual que debiera causar preocupación?

e) Comentar la forma en que se podría resolver el punto atípico potencial encontrado en el

inciso d.