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TTQ
El mecanismo de la limpieza ultrasnica es un efecto creado por la accin de ondas de alta frecuencia (entre
18 Y 70 Khz.)
el objeto a limpiar se coloca en una cmara que contiene un lquido conductor de ultrasonidos
(una solucin acuosa o disolvente orgnico, en funcin de la demanda). En los limpiadores
acuosos, el producto qumico aadido que rompe la tensin superficial del agua de la base.
Un generador de ultrasonidos llamados transductores incorporados en la cmara, o sumergido
en el fluido, produce ondas ultrasnicas en el fluido por cambio de tamao en sintona con una
seal elctrica oscilante a la frecuencia de ultrasonidos. Esto crea ondas de compresin en el
lquido de la cisterna que "rompen" el lquido, dejando tras de s millones de microscpicos
"huecos" o "vaco parcial de burbujas llamado Cavitacin.
Estas burbujas se colapsan con gran energa; a temperaturas de 10000 K y presiones de 50000
libras por pulgada cuadrada; pero son tan pequeas que no hacen ms que limpiar la superficie
y eliminar la suciedad y contaminantes. Cuanto mayor sea la frecuencia, menor es el espacio
entre los nodos de la cavitacin, lo que permite la limpieza de los ms intrincados detalles.
Potencia Power
El control de poder normalmente viene en dos sabores. El
primero es el control de amplitud y el segundo control del ciclo
debido. El control de amplitud cambia por el poder suministrado
en el fluido escalando la presin transmitida dentro del tanque.
Control del ciclo debido cambia el poder dentro del tanque
primeramente cambiando el periodo donde las ondas
ultrasnicas son cambiadas