3.

Los Incidentes, la Instrumentación segura de los

Procesos Químicos y la Dinámica y Control de procesos.

Cómo han evolucionado los cuartos de control de proceso.

Hace 60 años, los cuartos de control del proceso estaban como el

que se muestra en la Figura 1, que es el de la planta de Bhopal,
India, en donde ocurrió el peor desastre de la industria química el
2/dic/84.

Figura 1.

En las plantas construidas hace 60 años, el control del flujo,

temperatura, presión, nivel, concentración, etc. de las partes del
proceso era manual.

Había muchos errores humanos. La productividad y el rendimiento

de las plantas era relativamente bajo, y se producían muchos
accidentes.
 Figura 2.

Aquí se muestra un esquema de las instalaciones de la planta de

Bhopal, con su nave de reactores, el área de almacenamiento de
isocianato de metilo, una unidad de refrigeración, una torre lavadora
de gases y un quemador elevado.
 Figura 3.

En las plantas de los 90´s (las construidas hace 30 años), ya se tenía

un cuarto de control alojado dentro un bunker a prueba de
explosiones.

En las plantas químicas construidas en los últimos 20 años ya se

tiene un cuarto de control a prueba de explosiones (Bunker) desde
donde se opera la planta con un Sistema de Control Distribuido.
 Figura 4.

Aspecto del Sistema de Control Distribuido, DCS, que se tiene en el

bunker de una planta moderna.

Las plantas modernas, terminadas en los 20´s, se operan desde las

computadoras a través de los lazos de control (control loops) o
instrumentación de las variables del proceso, que conforman el
sistema de control distribuido. Se supervisa la planta a través de
cámaras y pantallas digitales.
 Figura 5.

Otro cuarto de control de los 20´s.

Lo que hizo posible el cambio, de los cuartos de control de hace 60

años, a los cuartos de control de los 20´s, fueron los estudios de los
riesgos de los procesos, el análisis de los incidentes y la
implementación de las mejoras sobre todo en instrumentación,
que se recomendaron.
A continuación, se dan 5 ejemplos de la simbología y la lógica
de la instrumentación en los lazos de instrumentación (Control
loops) de las plantas químicas.

Figura 6.

En este primer ejemplo se muestra la clasificación de los siguientes

controladores del flujo en una línea a través de una válvula
automática e instrumentación clasificada como de
retroalimentación (feedback) o de alimentación
anticipada/preventiva (feedforward).
 Figura 7.

En el segundo ejemplo, el de la Figura 7, se muestra el diseño de un

sistema de control, tipo anticipado/preventivo, en la presión, P,
(feedforward), para mantener un nivel adecuado en el tanque (con
feedback), el cual tiene un flujo de salida constante (también con
Feedback). Existen perturbaciones en la presión de la corriente de
entrada, por lo que se agrega el feedforward para que mande una
señal al controlador de nivel y éste al modificar la apertura de la
válvula mantiene constante el nivel del tanque.

En el tercer ejemplo, de la Figura 8, se muestra un Reactor

lavador/destructor del compuesto X, en el que se tiene una corriente
de efluente líquido de una planta, que contiene un componente X no
deseable para el medio ambiente. X es una sustancia regulada, por
lo que la cantidad máxima (kg/año) que puede liberarse al medio
ambiente tiene un límite establecido. Además de la cantidad total,
las regulaciones también establecen una concentración máxima de
X en una corriente líquida liberada al medio ambiente. Tanto el
caudal de la corriente-efluente como la concentración de X en la
corriente varían con el tiempo. La corriente se está limpiando en un
CSTR en donde reacciona exotérmicamente con el reactivo A para
formar un producto B amigable con el medio ambiente de acuerdo
con la siguiente reacción:

A+X→B

Sin embargo, el reactivo A es caro. El objetivo de control es

mantener la concentración de X en el efluente a un nivel (punto de
ajuste) que satisfaga los requisitos ambientales utilizando la menor
cantidad de A posible. La variable controlada es la concentración de
X que sale del reactor.

Figura 8.
Un CSTR, con chaqueta de enfriamiento y su tanque de
alimentación.
Criterios para operar el CSTR:

El Flujo de A es un Feedforward del Controlador de la

Concentración de salida, CC, (directo en función de X, e inverso
en función de A), en la corriente de salida.
El flujo de alimentación de X al reactor es un Feedforward del
Controlador del Nivel, LC, si sube el nivel en el tanque se debe de
alimentar más de x.
Cuando se alimenta mucho X, se debe de alimentar más de A y la
temperatura en el reactor puede subir; en ese momento el
Controlador de Temperatura, TC, debe de mandar cerrar la
válvula del Controlador de Flujo, FC (Segundo feedforward del
flujo de X). Aquí podría aumentar el nivel del tanque de
alimentación y hacer necesario que pare la planta.
Para optimizar el control del CSTR se debe de conocer más sobre la
cantidad/hora de producción de X en la planta. Incluso investigar si
se puede minimizar su producción.
También es de utilidad conocer más sobre la temperatura de X en el
tanque de alimentación.

En el cuarto ejemplo, se muestra un reactor de flujo tapón (PFR)

dentro de un horno de olefinas.

Se utiliza un horno de olefinas para convertir una mezcla de etano-

propano en una corriente de producto rica en etileno y propileno. La
corriente de producto se envía a una unidad de separación de etileno
y propileno; para luego recircular los alcanos. El aire y el
combustible se alimentan al horno de olefinas que calienta la
materia prima de etano a un punto de ajuste de temperatura
especificado. Para maximizar la producción de olefinas, la
temperatura en los tubos debe controlarse estrictamente incluso con
cambios en la composición de la materia prima de etano y propano.
La mezcla de aire y combustible también debe mantenerse en una
proporción específica.
Es probable que se necesite otro controlador feedforward, para que,
en función de la temperatura de la salida del horno, se controle el
flujo etano/propano.

Figura 9.

Un horno de calentamiento directo, que funciona como un reactor

flujo tapón (Plug Flow Reactor, PFR).

Como quinto ejemplo, se muestra en la Figura 10, la

instrumentación típica de una columna de destilación. (Nótese que
no se dibujaron los instrumentos transmisores de señal, solo los
controladores de los parámetros)
 Figura 10.
Columna de destilación típica.

En la Figura 10 la alimentación tiene su FC, que no se muestra en el

diagrama.
La salida de destilado está a control de nivel del tanque de reflujo.
El flujo del reflujo está a control de la temperatura de un plato de la
columna.
La presión del domo se controla con el flujo del líquido (agua) de
enfriamiento en el condensador del domo.
El flujo de la corriente de los pesados controla el nivel del fondo de
la columna. El flujo de aceite térmico para calendar el rehervidor
solo tiene un controlador simple.

Diagrama de Bloques de Control de los lazos.

A continuación, se muestra el Diagrama de Bloques de Control,
similar al que se tiene para cada uno de los múltiples lazos de
control (Control loops), en cada uno de los equipos de proceso que
se han ilustrado.

Figura 11.

Para el controlador de flujo constante del tanque del Ejercicio 2,

Figura7, se tiene:
 Figura 12.

En la Figura 12 el FT mide el flujo de la línea (“Sensor”) y

transmite una señal a la entrada del controlador (“Controller”), que
se compara con el punto de consigna (Set point), que debe tener el
FC. El controlador determina la diferencia entre el Set Point y el
flujo medido “y(t)”, para dar una señal “u(t)” con la que se mueve
el vástago de la válvula (Elemento de control final o (“Actuator”).
Si en el flujo de la línea (Proceso) hay perturbaciones, se neutralizan
con la repetición de los pasos 1 y 2 anteriores.

Cuando el controlador (Controller) es del tipo PID calcula su señal

de salida “u(t)” en base a la diferencia entre la señal medida “y(t)”
y el Set Point, mediante la siguiente ecuación:

Ecuación (1)
En la ecuación 1, se tiene:
u(t) = señal de salida del
controlador.
e(t) = error = y(setpoint) – y(t)
y(set point) = valor consigna para
la variable de proceso
y(t) = variable de proceso medida. controlador.
ubias = valor tendencia o de inicio
del controlador.
Los parámetros de ajuste del PID
son:
Kc = Ganancia del controlador.
τI = Tiempo integral del
controlador.
τD = Tiempo derivativo del

Modelo de proceso dinámico de primer orden más tiempo

muerto (FOPDT).
Cuando la válvula de ajuste del flujo, o elemento de control final
(Final control element) recibe la señal que salió del controlador
(Output signal), u(t), éste ajusta la posición del vástago, de acuerdo
con la siguiente ecuación:

Ec. (2)
En donde:

y(t) = La variable de proceso, (Process variable, PV), medida. En la

Figura 12 se corresponde al flujo que midió el FT.
u(t) = La salida del controlador. Controller output, CO. Ver en la
Figura 11 el controler output, que es una señal que ajusta el vástago
de la válvula automática, FC, de la Figura 12.

Cuando un modelo de primer orden más tiempo muerto (FOPDT)

se ajusta a datos de proceso dinámico. Los parámetros importantes
que resultan, y se requieren en la anterior ecuación son:
Ganancia del proceso de estado estacionario,

Constante de tiempo de proceso global,

Tiempo muerto aparente,

Para generar estas tres constantes, se hace una prueba con la

variable de proceso, y(t), cambiando repentinamente la señal de
salida, u(t), del controlador. Tal como se mostró con el sistema de
aceleración de un Ferrari, en la Lección 2.

A continuación, se muestra una tabla para el cálculo de las

constantes de ajuste para la ecuación (1), del controlador PID, en
función de las constantes de la FOPDT mostradas en la ecuación
(2): Kp, theta_p y tau_p.

En la lección 7bis se muestran los detalles del cálculo y uso de las

constantes KC, tau_I y tau_D.

(Fin de las notas de esta sección).