Escuela Superior Politécnica del Litoral

Introducción a la Manufactura

Tema:
Proceso de manufactura del TFT-LCD LB070WV8-
SL02

Empresa: LG

Paralelo: 102

Integrantes:
 José Patiño
 Michael Quezada
 Kevin Chica
 Luis Guzmán
 1. Introducción

2. Resumen

3. Procedimiento experimental

Proveedor
Para la elaboración de la TFT-LCD, se necesitan varios materiales, tales como: ITO (Óxido de
indio y estaño) y sustrato de vidrio. LG Chems, la subdivisión química de la marca LG,
proporciona estos elementos para transformarlos en lo que conocemos como displays
(2012 Lg Chem Sustainability Report, 2012).
A continuación, se detallará la obtención de estos materiales.
El Indio no es abundante en el planeta Tierra, la más directa fuente de obtención es en los
minerales de Zinc y su principal productor es China (Calvo, 2019), este material se usa para
realizar las películas de ITO (sustrato de vidrio).

Input (Ingreso)
ITO (Óxido de indio y estaño)
La síntesis de nanopartículas de óxido de indio y estaño (ITO) se realiza utilizando plantillas de
nanofibrillas de celulosa (CNF). Para esto se requieren de los pasos que se detallarán a
continuación (Lu et al., 2015):

Proceso
1. Conjugación del
precursor de ITO a CNF
Explicación
Precursores de ITO (es decir, cloruro de indio (III) y
cloruro de estaño (II)) se disuelven en agua destilada
con un relación molar In:Sn de 9:1. A esta solución de
precursor de ITO se le añadió luego gota a gota a la
suspensión de CNF (0,1% en peso). Para sintetizar
nanopartículas discretas, soluciones diluidas del
precursor de ITO y la suspensión de CNF fueron
necesarias para preparar conjugados de CNF y iones
metálicos.
 2. Recolección de CNF Las fibras resultantes se recogen luego por
conjugado con ITO por centrifugación.
centrifugación
3. Redispersión en agua y A estas fibras se les elimina los iones metálicos no
vertido sobre un sustrato unidos para luego dispersarlos nuevamente en agua.

4. Eliminación del Esta suspensión acuosa se vierte sobre un sustrato y se

disolvente para formar seca.
una película
5. Recocido a altas Esta solución, al secarse, forma una película de CNF
temperatura para conjugada con precursores ITO. Recociendo la película a
producir nanopartículas alta temperatura se sintetizan las partículas deseadas.
de ITO

Transformación
Después de limpiar el sustrato de vidrio (limpieza), se recubre con una capa de película, que
se esencial para crear la forma adecuada (Deposición). Luego, una capa de luz sensible el
material se extiende sobre esta película (recubrimiento fotorresistente). A través de estos
pasos, podemos crear dos capas, en las que podemos construir partes de un transistor de
varias formas y tamaños como se puede ver en la imagen de arriba.
TFT:
 Deposite el material semiconductor y el ITO en el orden diseñado sobre el sustrato
de vidrio.
 Revestimiento fotorresistente.
 Exposición parcial, luego limpie el fotorresistente expuesto.
 Quite el semiconductor y el ITO sin la cubierta de fotorresistente para formar parte
del circuito.
 Limpiar el fotorresistente restante.
 Para construir todo el circuito, a menudo necesitamos repetir los pasos 5 veces.
 Output (Salida)
 Cliente

4. Análisis de Resultados
5. Conclusiones

6. Recomendaciones

7. Bibliografía

Calvo Rebollar, Miguel (2019). Construyendo la Tabla Periódica. Prames, Zaragoza. p. 240-

241. ISBN 978-84-8321-908-9.

8. Anexos