DESARROLLO DE CASO DE APLICACIN DE LA VT

EL USO DE LA NANOTECNOLOGIA EN LA INDUSTRIA

COSMETICA

1. Definicin del Tema:

Breve descripcin tcnica: segn Wikipedia: La nanotecnologa
comprende el estudio, diseo, creacin, sntesis, manipulacin y
aplicacin de materiales, aparatos y sistemas funcionales a travs
del control de la materia a nano escala, y la explotacin de
fenmenos y propiedades de la materia a nano escala. Los
cientficos utilizan la nanotecnologa para crear materiales,
aparatos y sistemas novedosos y poco costosos con propiedades
nicas.
Los
productos
que
incorporan
nanotecnologa
o
son
manufacturados mediante la misma pasarn del 0,1% actual al
15% en 2015 del total, segn un informe de la OCDE que seala
que la extensin de esta tecnologa se realizar en tres fases. La
primera, en la que nos encontramos actualmente, sita estos
productos en el mbito industrial. Para 2009 llegar a los
mercados electrnicos y en 2010 se extender a todos los bienes
de consumo. Se ha estimado por la Fundacin Nacional de la
Ciencia (NSF), en EEUU, que en el ao 2012 la mitad de la
industria farmacutica y cosmtica har uso de la nanotecnologa.
Uno de los campos en los que la nanotecnologa se convirti en un
factor importante es el de la cosmtica y el cuidado del cuerpo.
Muchos de los productos cosmticos que se pueden encontrar son
los resultados de las aplicaciones de la nanotecnologa. Son
muchas las posibilidades presentes y futuras para la aplicacin de
la nanotecnologa en esta industria.
Tabla de palabras tcnicas claves:
ESPAOL
Nanotecnologa
Dermatologa
Filtro UV
Cosmetologa
Uso humano

INGLES
Nanotecnology
Dermatology
UV Filter
Cosmetology
Humans

Fuente y base de datos a consultar:

- OMPI
- SCIRUS
- PUBMED
- SCIENCE DIRECT
- ELSEVIER
- PATENTLENS
- MATHEO PATENT

2. Estrategia de Bsqueda
Construccin de la ecuacin de bsqueda:
- (ta:(nanotechnology) AND (cosmetic OR dermatology OR
"uv filter")) OR ((ic:B82) AND (dermatology OR cosmetic OR
"uv filter"))
- ((ABST/(nanotechnology and (cosmetic or dermatology or
"uv filter"))) or (TTL/(nanotechnology and (cosmetic or
dermatology or "uv filter"))) or (ACLM/(nanotechnology and
(cosmetic or dermatology or "uv filter"))) or (ICL/B82 and
ACLM/(cosmetic or dermatology or "uv filter)) and
ISD/20/06/2008->20/06/2013)
CIP: B82Y USOS O APLICACIONES ESPECIFICOS DE
NANOESTRUCTURAS; MEDIDA O ANALISIS DE
NANOESTRUCTURAS; FABRICACION O TRATAMIENTO DE
NANOESTRUCTURAS [2011.01]
Patent lens: ((nanotechnology) and (cosmetic or dermatology or
"uv filter") and (human) in claims) and ((nanotechnology) and
(cosmetic or dermatology or "uv filter") and (human) in abstract)

Matheo Patent: 30 patentes, 8 familias

Scirus: 10 publicaciones. ((cosmetics or dermatology or uv filters))

(human) and nanotechnology)
1. PAT Griffin, Graeme ; Oehlen, Lambertus J.;
Methods for the identification of modulators of OSGPR114 or
OSGPR78 activity, and their use in the treatment of disease
2011 UNITED STATES PATENT AND TRADEMARK OFFICE
GRANTED PATENT
2. THES Bagge, Elisabeth;
Hygiene aspects of the biogas process with emphasis on sporeforming bacteria
2009 Diss. (sammanfattning/summary) Uppsala : Sveriges
lantbruksuniv., Acta Universitatis agriculturae Sueciae, 16526880 ; 2009:28 ISBN 978-91-86195-75-5 [Doctoral thesis]
3. PAT Griffin, Graeme ; Oehlen, Lambertus J.;
Methods for identification of modulators of OSGPR114 or
OSGPR78 activity, and their use in the treatment of disease
2009 UNITED STATES PATENT AND TRADEMARK OFFICE
GRANTED PATENT
4. ELECMD Consult - Behcet's disease and complex aphthosis Journal of the American Academy of Dermatology - Medical
Journal 2013
http://www.mdconsult.com/das/journal/view/0/N/10583586?
ja=134735&PAGE=1.html&issn=

5. ELEC Cognitive Neuroscience Society Annual Meeting

Program 2009 A...
2012 http://www.cogneurosociety.org/wordpress/wpcontent/themes/CNStheme/downloads/CNS2009_Program.pdf
6. ELEC M A N U A L O F R E C O M M E N D E D D I A G N O S T
I C T E C H N I...
2012 http://www.oie.int/doc/ged/D7714.PDF
7. ELEC /tardir/tiffs/a408792.tiff
2012
http://www.serdp.org/content/download/5736/78926/file/ER720-FR.pdf
8. ELEC OFFICE INTERNATIONAL DES EPIZOOTIES MANUAL OF
STANDARDS FOR...
2012 http://www.oie.int/doc/ged/D7722.PDF
9. ELECFederal Integrated Biotreatment Research Consortium
(FIBRC): Flask to Field Initiative
2009 http://www.cluin.org/download/contaminantfocus/pcb/flask-to-field-trel0237.pdf
10.JOUR Cataldi, Mauro; Diltiazem 2009
xPharm: The Comprehensive Pharmacology Reference
http://www.sciencedirect.com/science?
_ob=GatewayURL&_origin=ScienceSearch&_method=citationS
earch&_piikey=B9780080552323616150&_version=1&_return
URL=http%3A%2F%2Fwww.scirus.com%2Fsrsapp
%2F&md5=692d00f6efbb9568458d68f2aaf62811

3. Anlisis de los resultados arrojados por el sitio Matheo Patent

En los anexos adjuntos, se hicieron los siguientes anlisis:
IP Class ms repetidas Chart
Red de IP Class (Full). Es decir cmo interactan las patentes entre
ellas.
Red de Inventores y Red Inventor/IP Class (Full).
Red Pas/Inventor. A saber, tratar de determinar los pases e
inventores que colaboran entre ellos.
Red Country/Applicant. Es decir quien inventa y quien patenta
Red Applicant. A saber si existe polos de colaboracin entre pases
en materia de desarrollo y patentamiento de tecnologa
relacionada al tema estudiado.
Red Publication Date/IP Class (Full). Que tecnologa est siendo
ms investigada y en qu ao.

Red Publication Date/Country Applicant. Donde se encuentra el

sector ms dinmico en cuanto a investigacin y patentamiento
de dicha tecnologa.
Red IP Class (Full)/Applicant (new). Donde se encuentra los nuevos
patentamientos segn la tecnologa.
Red IP Class (Full)/Applicant (consolidated). Donde se encuentra
los incumbantes en la materia.
Cul es la tecnologa ms investigada y patentada.
Red inventor/Country inventor. Para detectar si existe una
correlacin entre pas de donde reside el inventor y el pas que
inventa y polos de investigacin.
Red Inventor/Applicant.
Matrix IP Class (Full)/Publication Date.
Matrix Country Applicant/Publication Date.

A la luz del anlisis, se desprenden los siguientes resultados:

De las 8 familias de tecnologas ms investigadas y patentadas se

desprenden el resto de las patentes formando pequeos clusters
(4). Contrastando con la red de Inventor/IP Class (Full), se nota
que los investigadores ms activos se encuentran en Espaa y
principalmente en China. Existen ms investigadores que hayan
patentado en Espaa. Sin embrago los de China son ms
prolficos.
Los pases donde se encuentran los inventores son Espaa con el
mayor nmero de investigadores que hayan patentado, seguido
de Brasil y de China con los ms prolficos en trmino de cantidad
de patente por inventor. Otros pases representados son Rusia y
Corea. Cabe mencionar que dichos investigadores colaboran
solamente con sus pares nacionales. Sin embrago existe un link
(Empty field) entre Espaa, Brasil y China. Analizando ms de
cerca las patentes en cuestin, se podra suponer que el (los)
inventor(es) son de China, lo que permitira decir que es el nico
pas que colabora con otros en la materia mencionada.
En los esquemas Red country/Applicant, y Red Applicant, se
refuerza esta hiptesis, al demostrar que las nicas relaciones
transnacionales entre Applicants se hace entre China y Espaa. Se
desprende otro polo importante: Brasil.
Los ltimos aos (2011 a 20139 han sido los de mayor
publicacin. Siendo Espaa y China los ms relevantes. Al mirar la
Red Publication Date/Country Applicant, se podra suponer que
Rusia se est quedando atrs en materia de avance de dicha
tecnologa y que Corea es un nuevo entrante con potencial a

vigilar. Esto lo viene a confirmar los esquemas Red IP Class

(Full)/Applicant (nuevo y consolidado) donde Brasil y Corea
aparecen como los nuevos de mayor potencial y China siendo el
consolidado.
En la Red Inventor/Country Inventor, se nota una relacin ms
dinmica en cuanto a colaboracin (Espaa, China y Brasil). Rusia
y Corea siguiendo trabajando de manera aislada. Sin embrago, la
colaboracin se hace ms efectiva ya que en la Red
Inventor/Country Applicant, Espaa ha podido patentar
tecnologas investigadas por inventores de China y vice-versa; con
Espaa siendo un Applicant ms efectivo que China ocupando
tanto investigadores espaoles que chinos.
En la Red Country Applicant/Applicant, si bien China tiene un
mayor nmero que Espaa, su colaboracin se basa sobre
menores cantidades de colaboraciones (principalmente enfocadas
con entidades locales). Los otros polos siendo Brasil, Corea y
Rusia.

4. Anlisis de publicaciones cientficas

Gopubmed: (nanotechnology) and (cosmetic or dermatology or
"uv filter") and (human) in cosmetics, between 2008 and 2014.
(nanotechnology) and (cosmetic or dermatology or "uv filter") and
(human) Cosmetics[mesh] Nanotechnology[mesh] Humans[mesh]
FILTROS Y LAST 5 YEARS RESULTADO DE 86

Segn el anlisis de GopubMed, la mayor cantidad de publicaciones se

concentraron esencialmente entre 2010 y 2012, representando casi el
60% de la ltima dcada. Los pases de mayor publicacin son USA,
Japn, y Alemania con el 53% del total de los pases que ms publican,
con solamente Usa representando un tercio de ello. Contrastando con el
anlisis de patentes, sorprende que pases prolficos como China, Corea
y Brasil representen solamente 4%, 3% y 2% respectivamente del total.
Espaa y Rusia aparecen sin publicacin. Se podra explicar por lo
acotado de las fuentes, privilegiando publicaciones en el idioma ingles o
simplemente que USA sigue teniendo una muy grande importancia al
momento de publicar investigaciones con el fin de levantar recursos
financieros. Los autores que ms han colaborado son acadmicos de
universidades norteamericanas y podra explicar en parte estos
resultados.

Tambin existe un inters renovado en dicha tecnologa con un claro

boom en las publicaciones de 2005, llegando a 2012 a 3 veces su nivel.
Claramente demostrando una tendencia exponencial a futuro.

5. Vigilancia en Internet
CORDIS
BID
CONYCIT
BETAPATENT
FUNDACION ARGENTINA DE NANOTECNOLOGIA
ABDI BRASIL
FOROINVESTIGA.COM
CASIC LATINAMERICA
EURORESIDENTES.COM