El Circuito Electrico Elemental

Jose German Garca Pernett, Albeiro Jose Cuadrado Machado, and Sebastian Andres Arteaga Diaz
Practica de laboratorio 1 - FISICA II, Departamento de Ingeniera de Sistemas, Universidad de C
ordoba - Monteria, Colombia.
Resumen
Se estudiaron las propiedades estructurales, electr
onicas y magneticas de las superedes TiN/CrN,
TiN/CN, CrN/SiN y SiN/CN mediante c
alculos de primeros principios, utilizando la teora del
funcional de la densidad (DFT) y el metodo de Ondas Planas Aumentadas y Linealizadas en
Potencial Completo (FP-LAPW) tal como esta implementado en el c
odigo computacional WIEN2k.
Los efectos de correlaci
on e intercambio se modelaron usando la Aproximaci
on de Gradiente
Generalizado (GGA) en la parametrizaci
on de Perdew, Burke y Ernzerhof (PBE). Se calcularon los
par
ametros estructurales y la densidad de estado para cada multicapa en la fase NaCl. Del an
alisis
de la densidad de estado (DOS) se encontr
o que las multicapas TiN/CrN, TiN/CN y SiN/CN
presentan un comportamiento met
alico y que la multicapa CrN/SiN presenta un comportamiento
met
alico con propiedades magneticas, con un momento magnetico total de 2.56 B en el volumen
de equilibrio.

PACS numbers: 68.35.B, 68.35.Md, 68.43.Bc, 68.43.Fg, 71.15.Mb, 73.20.At

Keywords: DFT, LAPW-FP, Multicapas.

I.

INTRODUCCION

tro del desarrollo de estos materiales se encuentran los

nitruros de metales de transicion. El estudio de las mul-

La necesidad de incrementar la vida u

til de las maquinas,

ticapas de metales de transicion basadas en nitruros ha

herramientas y estructuras expuestas a ambientes corro-

llamado la atenci
on debido a sus interesantes propiedades

sivos, de alto desgaste y a elevadas temperaturas, hace

fsicas y mecanicas. Ellas, se caracterizan por su dureza,

necesario mejorar las propiedades fsico-mecanicas de los

alto punto de fusi

on, excelente conductividad termica y

materiales. Una alternativa es la aplicacion de pelculas

electrica, su estabilidad qumica y su alta resistencia a

delgadas, gracias a la mejora en las propiedades tri-

la corrosion [24], buena resistencia a la oxidacion, que

bologicas, mecanicas y anticorrosivas que confieren a

los hacen u
tiles para aplicaciones tecnol
ogicas. Tambien,

las superficies recubiertas.

Esto ha motivado la in-

se han encontrado que estos materiales cristalizan en las

vestigacion, desarrollo e implementacion de estos mate-

fases Cloruro de Sodio (NaCl) y Zinc-Blenda. La mayora

riales en muchas aplicaciones industriales, debido a que

de estos compuestos tienen estructura estable tipo NaCl

en la actualidad los requisitos que se tienen en la in-

[57]. Los materiales que constituyen los recubrimientos

dustria no se satisfacen con materiales que cumplan

pueden ser de composicion metalica o cer

amica (distin-

con una propiedad buena, sino con una combinaci

on de

tas fases de los nitruros) ya que presentan durezas ele-

propiedades para la mayora de las aplicaciones [1], den-

vadas, combinadas con estabilidad termica, qumica y resistencia a la corrosion. Los recubrimientos pueden estar

Electronic

address: josegerman191@gmail.com
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constituidos por una sola capa (monocapa) o una combinacion de capas (multicapa o s
uper-red) para combinar
las propiedades de dos o mas materiales distintos. Para

aumentar el tiempo de vida u

til de algunas herramien-

sistente al desgaste y tiene alta estabilidad termica. No

tas se han usado monocapas de TiN, TiC y TiCN, las

obstante, la pelcula TiN/CN puede alcanzar una dureza

cuales, brindan dureza al material, pero ofrecen poca re-

de aproximadamente 41 GPa [13, 14]. Tambien, se pro-

sistencia a la oxidaci
on a elevadas temperaturas [8]. Lo

duce una oxidacion a temperaturas superiores a 400 C

anterior puede solucionarse utilizando una combinaci

on

y presenta estabilidad termica, por esta raz

on, la mult-

de multicapas para obtener mejoras en las propiedaes tri-

icapa TiN/CN se utiliza en la industria para mejorar la

bologicas como dureza y resistencia a la oxidacion. Dos

resistencia al desgaste en aplicaciones tales como herra-

de los materiales candidatos son, el Silicio y el Carbono,

mientas de corte, que requieren superficies con mejores

ya que mejoran la resistencia a la oxidaci

on al igual que

propiedades mecanicas y tribologicas [15].

aumenta la dureza del material. Las pelculas delgadas

red CrN/TiN exhibe un car

acter metalico en la face

de nitruro de carbono (CN) presentan un bajo coefi-

NaCl y presenta un modulo de volumen de 255.71 GPa,

ciente de friccion y alta dureza, lo cual hace que sean

proyect
andose como un recubrimiento duro [16]. Experi-

requeridas para aplicaciones industriales tales como el

mentalmente, se ha encontrado que las capas de AlTiCrN

recubrimiento de instrumentos y maquinaria para evitar

y TiSiCN presentan alta dureza (40.7 y 51.1 GPa respec-

el desgaste [9]. Mediante c

alculos de primeros princi-

tivamente) pero ofrecen poca adherencia al sustrato, pero

pios se encontro que el compuesto CrN cristaliza en la

cuando se aplican capas de AlTiCrN/TiSiCN se mejora

fase zincblenda a T=0 K, con posibilidad de cristalizar

dicha adherencia. Experimentalmente, se encontro que

en la estructura NaCl bajo presi

on y que presenta alta

la super-red CrN/Si3 N cristaliza en la face NaCl y que

dureza y un car
acter metalico [10]. En algunos trabajos

presenta una dureza maxima y un modulo de elastici-

experimentales, el recubrimiento CrN exhibe excelentes

dad de 29 GPa y 305 GPa respectivamente [17]. Los

propiedades al desgaste, corrosion y tiene una mejor re-

recubrimientos de TiN/TiSiN y CrN/CrSiN tienen una

sistencia a la oxidaci
on, as como una mejor adherencia al

nanodureza de 40.2 GPa y 30.9 GPa respectivamente

acero para herramientas, en comparaci

on con la pelcula

[18].

TiN. El recubrimiento SiN es un material con alta dureza

dureza, mejoran las propiedades mecanicas y la resisten-

y resistencia termica. Es utilizado para transistores de

cia a la corrosion con respecto a las capas aisladas, lo

pelcula, dielectricos de puertas y materiales recubrimien-

cual indica que las multicapas son mas prometedoras en

tos de duros. Ademas, SiN tiene una estructura amorfa

el campo industrial [19]. En 2011, D. G. Liu et al, es-

estable hasta 1100C [11, 12]. Por lo anterior, la mul-

tudiar
on el comportamiento tribologico y mecanico de la

ticapa SiN/CrN es ampliamente preferida para aplica-

pelcula multicapa TiN/CNx, utilizando el metodo mag-

ciones tribologicas y mecanicas debido a sus excelentes

netron sputtering. Mediante este estudio, encontraron

propiedades que son alta dureza, alta resistencia al dele-

que la dureza vara desde 12.56 GPa hasta 31 GPa. La

gaste, estabilidad a altas temperaturas, baja conductivi-

maxima dureza se present

o en un perodo de dos capas

dad termica. El nitruro de titanio (TiN) y el nitruro de

de 4.5 nm. Estas multicapas, ademas, exhiben un menor

carbono (CN) son a la vez materiales tecnol

ogicamente

coeficiente de friccion y una mayor resistencia al des-

importantes. Estudios han demostrado que existe una

gaste [20]. En 2008, Guangan Zhang et al, analizaron

relacion de espesor
optimo entre las capas de TiN y CN

las propiedades mecanicas y estructurales de la pelcula

que da como resultado una alta dureza y baja tensi

on

CrSiN, utilizando el metodo reactive magnetron sputter-

interna. La pelcula CN tiene una dureza de 23 GPa, la

ing. Encontraron que la estructura de la pelcula CrSiN

capa TiN logra una dureza hasta 25 GPa, tambien es re-

cambia de cristalino a la estructura amorfa con el au-

La super-

Las multicapas de CN/TiCN/TiN aumentan la

mento de Si. La dureza de la pelcula CrSiN aumenta de

a0 es la constante de red de la celda convencional. La

13 GPa a 26 GPa [21]. Recientemente se han estudiado

celda unitaria para los compuestos ternarios considera-

las propiedades estructurales y tribol

ogicas de recubrim-

dos en nuestro estudio consiste de diferentes capas api-

ientos de Ti(Cr)SiCN mediante pulverizaci

on cat
odica

ladas en la direcci
on (0,0,1). Se colocar
on planos alterna-

por plasma y reportaron que la dureza de TiSiCN, TiCr-

dos de TiN y CrN para construir la superred TiN/CrN

SiCN y CrSiCN era de 24 GPa, 25 GPa y 19 GPa re-

analogamente se contruyeron las otras tres multicapas.

spectivamente [22]. En la mayora de las investigaciones

Para superred TiN/CrN las posiciones de los atomos en

sobre el estudio de las propiedades de estas superedes

la celda unitaria son Ti (0,0,0); Cr (1/2, 1/2, 1/2); N

se realizan en pelculas delgadas utilizando metodos ex-

(1/2,1/2,0) y N (0,0,1/2), para la multicapa TiN/CN las

perimentales.

En este trabajo se hace un estudio de

posiciones son Ti (0,0,0); C (1/2, 1/2, 1/2); N (1/2,1/2,0)

primeros principios de las superredes TiN/CrN, TiN/CN,

y N (0,0,1/2), para la superred CrN/SiN las posiciones

CrN/SiN y SiN/CN para analizar las propiedades estruc-

son Cr (0,0,0); Si (1/2, 1/2, 1/2); N (1/2,1/2,0) y N

turales, electronicas y magneticas en la face NaCl uti-

(0,0,1/2) y para la superred SiN/CN se tiene Si (0,0,0);

lizando la teora funcional densidad junto con el metodo

C (1/2, 1/2, 1/2); N (1/2,1/2,0) y N (0,0,1/2). las su-

de Ondas Planas Aumentadas y linealizadas en Poten-

perred se muestra en la figura ??.

cial Completo (FP-LAPW) como est

a implementado en

El n
umero cuantico maximo L para la expansi
on de

el paquete computacional WIEN2k.

funci
on de onda dentro de la esfera de Muffin-Tin
se ha limitado hasta Lmax

II.

METODOLOG
IA

= 10.

Para la ex-

pansion de la funci
on de onda en la region intersticial, se seleccionaron ondas planas hasta el valor de

Los c
alculos se realizaron dentro del formalismo de la
teora del funcional de la densidad (DFT) [23], en el cual
se solucionar
on las ecuaciones de Kohn-Sham [24] empleando el metodo de Ondas Planas Aumentadas y Linealizadas en la versi
on del potencial completo (FP-LAPW)
tal como esta implementado en el c
odigo computacional
WIEN2k [25]. Este metodo ha mostrado ser muy eficiente

corte RKmax = RMTKmax = 7.

Para los c
alculos

de las propiedades en el estado base de las dos multicapas, elegimos los radios de la esfera Muffin-Tin
como: RMT (Ti)=1.95, RMT (C)=1.6, RMT (Cr)=1.95,
RMT (Si)=2.1 y RMT (N)=1.6. Ademas, para asegurar
la convergencia en energa, se seleccionaron 84 puntos k
en la parte irreducible de la primera zona de Brillouin.

para el estudio de las propiedades electronicas y estructurales de varios solidos. En el c

alculo de las propiedades
estructurales los efectos de correlaci
on-intercambio se
trataron usando la aproximacion de Gradiente Generalizado (GGA) en la parametrizaci
on Perdew-BurkeErzerhof [26]. Se utilizo la celda convencional de NaCl,
de la cual se obtuvo la celda unitaria tetragonal con lados

III.

TEOR
IA RELACIONADA

en el plano xy iguales entre si, pero mas peque

nos que
el par
ametro de red de la celda convencional de NaCl,

guardando las relaciones a = a0 / 2 y c = a0 , donde el

En la esta experiencia de laboratorio se presentan

parametro a corresponde a la longitud de los planos xy, el

distintas teoras de la fsica las cuales son:

par
ametro c a la altura a lo largo del eje z y el par
ametro

algunos principios fundamentales que est

an basados en

1.

MOVIMIENTOS EN DOS DIMENSIONES CON

CONSTANTE
ACELERACION

3.

CENTRO DE MASA y MOMENTO DE INERCIA

En esta Practica de laboratorio se describe el movimiento

Considere el movimiento bidimensional durante el cual

global de una esfera en terminos de un punto especial

la aceleraci
on de una partcula permanece constante

llamado el centro de masa del sistema. El sistema puede

tanto en magnitud como en direcci

on.

ser un grupo de partculas, como un conjunto de atomos

El movimiento en dos dimensiones se puede representar

en un contenedor, o un objeto extendido, como un

como dos movimientos independientes en cada una de

gimnasta que salta en el aire. Se vera que el movimiento

las dos direcciones perpendiculares asociadas con los ejes

traslacional del centro de masa del sistema es el mismo,

x y y. Esto es: cualquier influencia en la direcci

on y no

como si toda la masa del sistema estuviese concentrada

afecta el movimiento en la direcci

on x y viceversa. El

en dicho punto. Es decir, el sistema se mueve como si

vector de posicion para una partcula que se mueve en el

la fuerza externa neta se aplicara a una sola partcula

plano xy se puede escribir:

ubicada en el centro de masa. Este comportamiento es

~r = x i + y j

independiente de otro movimiento, como la rotacion o la

vibracion del sistema.
Como la esfera se encuentra en movimiento y dicha

2.

PART
ICULA EN MOVIMIENTO CIRCULAR
UNIFORME

El movimiento circular uniforme, ocurre en muchas

situaciones. Puesto que ocurre con tanta frecuencia,este

esfera realiza un MCU es aplicable la definicion del momento de inercia la cual es es una medida de la inercia
rotacional de un cuerpo. y se define analticamente
para este caso como: I =

2m 2
5 r

tipo de movimiento se reconoce como un modelo de

analisis llamado partcula en movimiento circular uniforme. En esta Practica de laboratorio se analiza dicho

4.

TRABAJO Y TORQUE

modelo.
El giro que realiza la esfera es por la presencia de un
La esfera con la cual se esta trabajando, cuando gira

torque resultante, generado por las fuerzas de friccion y

sobre el plano inclinado realiza un movimiento circular

el peso y se define analticamente como:

uniforme.

~tT = ~tW + ~tfr

TORQUE: Cuando se aplica una fuerza en alg
un punto

Observacion:

de un cuerpo rgido, dicho cuerpo tiende a realizar un

Aceleraci
on de una partcula en movimiento circular

movimiento de rotacion en torno a alg

un eje. En este

uniforme:

caso la propiedad de la fuerza aplicada para hacer girar

Recuerde que en fsica la aceleraci

on se define como un

al cuerpo se mide con una magnitud fsica que llamamos

cambio en la velocidad, no un cambio en la rapidez (con-

torque o momentode la fuerza. Entonces, se llama torque

trario a la interpretaci
on cotidiana). En el movimiento

o momento de una fuerza a la capacidad de dicha fuerza

circular, el vector velocidad cambia en direcci

on, de

para producir un giro o rotacion alrededor de un punto.

El torque lo definimos como ~t = ~r F~ para ello se

modo que de hecho hay una aceleraci

on.

elige como punto de referencia el punto de contacto con

la superficie, en consecuencia, la ecuaci

on del torque

1
v2
2 Icm R2

= M gh

resultante sera:
W sin()r = (mr)r + I

A.
A.

RESULTADOS Y DISCUSION

IV.

MOVIMIENTO DE RODADURA DE UN
CUERPO R
IGIDO.

Se considerar
a ahora el caso mas general de movimiento
de rotacion, donde el eje de rotacion no est
a fijo en el espacio, sino que en movimiento, este se llama movimiento

PROPIEDADES ESTRUCTURALES

En las figuras ??, ??, ?? y ??, se observan las curvas o

funciones polinomiales que se obtienen calculando los valores teoricos de energa total para diferenntes volumenes
de las estructuras consideradas y el ajuste de estos valores mediante la ecuaci
on de estado de Murnaghan[27].

de rodadura. El movimiento general de un cuerpo rgido

es muy complejo, pero se puede usar un modelo simplificado limitando el analisis a un cuerpo rgido homogeneo
con gran simetra, como un cilindro, una esfera o un aro,
y suponiendo que el cuerpo tiene movimiento de rodadura

Tabla I: Parametros estructurales de CrN/SiN y TiN/CN en la

fase NaCl calculados con la aproximaci
on GGA-PBE. Se presenta
la constante de red a, el par
ametro a lo largo del eje z c, el volumen
de equilibrio V0 , el m
odulo de volumen B0 , la energa mnima E0
3

Compuesto a(
A) c(
A ) V0 (
A ) B0 (GP a) E0 (eV )

en un plano.

TiN/CrN

2.93 4.139 17.94

299.22

-14.497

En en el caso de este laboratorio casero la practica se

CrN/SiN

2.93 4.132 17.85

207.11

-12.09

realizo en un plano inclinado en el cual una esfera rod-

SiN/CN

2.8176 3.983 15.04

252.59

-8.725

aba sin resbalar en dicho plano por loque su relacion con

TiN/CN

ds
dt

= R d
dt = Rw acm =

dv
dt

236.05

-10.51

3.071

40.987

204.62

-13.95

2.973

37.19

255.71

-14.75

CrN/ScN

velocidad y aceleracion son las siguientes:

Vcm =

2.92 4.193 17.65

= R dw
dt = R

CrN/TiN

TiN/GaN

3.034

39.507

219.63

-10.70

4.144

CrN5

4.182

TiN

4.180

304

TiN

4.242

288

4.148

CrN
B.

DE LA CONSERVACION
DE
APLICACION
LA ENERG
IA

Se supone que el cuerpo rgido parte del reposo desde

CrN

una altura h y que rueda por el plano sin resbalar. La

1 Referencia

[28], te
orico.

2 Referencia

[16], te
orico.

3 Referencia

[7], te
orico.

4 Referencia

[29], experimental.

Eci + Egi = Ecf + Egf

5 Referencia

[30], experimental.

pero como:

6 Referencia

[31, 32], te
orico.

Eci yEgf sonigualesa0 entonces;

7 Referencia

[33, 34], experimental.

8 Referencia

[35], experimental.

conservaci
on de energa es:
E

cte entonces Ec + Eg

cte entonces

2
M gh = 12 Icm w2 + 21 M vcm

En la Tabla I se muestran los par

ametros estructurales
antes mencionados para cada una de las superedes. En

Como vcm = R? ? ? = vcm/R , se reemplaza en la

las curvas de energa como funci

on del volumen se mues-

ecuaci
on anterior:

tra un comportamiento isotropico a traves del ajuste a la

ecuaci
on de Murnaghan, tambien se observa un mnimo

ciones de los picos son diferentes, es decir, no se compensa

en cada curva, determinando as la energa mnima del

la densidad de estados de spin arriba con la densidad de

sistema y el volumen mnimo e indicando la estabili-

estado de spin abajo, lo que origina un momento mag-

dad estructural de las multicapas en la estructura NaCl.

netico total diferente de cero, se encontro un momento

Las energas y vol

umenes est
an dados por celda unidad

magnetico total de la celda unitaria de 2.56B , dicho

de cuatro atomos, se obtuvieron para cada sepered los

caracter magnetico se asocia a los electrones de los or-

par
ametros estructurales: Volumen de equilibrio, Con-

bitales d Cr (figura ??. Para la multicapa SiN/CN se

stante de red, Modulo de volumen y Energa mnima de

encontro que el caracter metalico se debe principalmente

cohesion.

a los electrones que se encuentran en los orbitales p C

(figura ??).

B.

V.

PROPIEDADES ELECTRONICAS Y

CONCLUSIONES

MAGNETICAS

Se han caracterizado estructural y electronicamente las

Las figuras ??, ??, ?? y ?? muestran las densidades de es-

multicapas TiN/CrN, TiN/CN, CrN/SiN y SiN/CN en

tado con orientacion de spin arriba y spin abajo para las

la estructura NaCl mediante c

alculos de primeros prin-

multicapas T iN/CrN, T iN/CN, CrN/SiN y SiN/CN

cipios, el alto valor del modulo de volumen las proyecta

en la estructura NaCl en sus vol

umenes de equilibrio

como recubrimientos duros, pero entre las multicapas es-

respectivamente.

Se puede apreciar que en las difer-

tudiadas las que mayor modulo de volumen presenta son

entes orientaciones del spin, ambas multicapas presen-

las multicapas TiN/CrN Y SiN/CN y la que presento un

tan un comportamiento metalico. El car

acter metalico

comportamiento magnetico fue la multicapa Cr/SiN. Las

lo determinan principalmente los orbitales d del Ti y

multicapas presentan un comportamiento metalico

Cr y en menor contribuci
on los p del N para la multicapa TiN/CrN (figura ??).Para la multicapa T iN/CN

VI.

AGRADECIMIENTOS

un comportamiento metalico influenciado principalmente

por los electrones d T i (figura ??). Para la multicapa

Agradecemos a la Universidad de Cordoba, Colombia,

CrN/SiN el comportamiento metalico se le atrivuye prin-

por su apoyo financiero durante la realizaci

on de este

cipalmente a los electrones d Cr, dado que las distribu-

trabajo.

[1] M. Astrid, G. Bejarano, D. Cano, J. Osorio, F. Bolvar,

presi
on. Revista colombiana de fsica, vol. 39, no. 1, 2007.

Propiedades mec
anicas y comportamiento tribol
ogico de

[4] I. Shinya, Haruyo Fukui, Akihiko Shibata, Naoya Omori,

recubrimientos multicapa de CrN/TiN, Revista EIA,

Makoto Setoyama, Properties and cutting performance of

ISSN 1794-1237 N
umero 16, p. 93-102. Diciembre 2011.

AlTiCrN/TiSiCN bilayer coatings deposited by cathodic-

[2] M. Gomez, L. Marn, S. Dez, J. C. Caicedo, M. Villarreal, C. Escobar: Efecto de las superficies e interfaces en
las propiedades de la materia. Rev. Acad. Colomb. Cienc.
35 (137): 451-462, 2011. ISSN 0370-3908.
[3] C.P. Meja, R. Cardona, Jairo Arbey Rodrguez Martnez

arc ion plating, Surface y Coatings Technology 202 (2007)

820-825.
[5] Lars J.S Johnson. Nanostructuring and Age Hardening
in TiSCN, ZrAlN and TiAlN thin film. Link
oping University, 2010.

y F. Fajardo. Caractersticas estructurales de algunas

[6] R. Gonz
ales Hern
andez, W. L
opez Perez, C. Ortega

configuraciones cristalinas del silicio - efectos de la

L
opez, J. A. Rodrguez Martnez. Revista Colombiana

de Fsica. Vol. 41, No 3, octubre 2009.

[7] M.J. Espitia, C. Ortega L
opez, G. Casiano Jimenez, Mul-

[19] C.

Morant,

Sanz,

SGarcia-Manyes,

Elizalde,

Sanz,

Nanotribological

properties

M
of

ticapas TiN/GaN: Un Estudio Ab Initio, Revista Colom-

CN/TiCN/TiN/Si multilayer as determined by AFM,

biana de Fsica, Vol.43, No 2 de 2011

Nanotechnology 16 (2005) S211-S217.

[8] H. E. Jaramillo, N. A. S
anchez, G. Zambrano, P. Prieto,
Sntesis y caracterizaci
on de recubrimientos y multicapas sobre acero aisi 4340 para aplicaciones industriales,
Congreso conamet/sam 2004.

[20] D. G. Liu, J. P. Tu, C. D. Gu, R. Chen, C. F. Hong. Thin

Solid Films 519 (2011) 4842-4848.
[21] Guangan Zhang, Liping Wang, S. C. Wang, Pengxun
Yan, Qunji Xue. Appl. Surf. Sci. 255 (2009) 4425-4429.

[9] J. L. Gallego, L. M. Franco, H. Riascos, C. Vargas-

[22] Qiang Li et al, Microstructure and tribological proper-

Hern
andez, R Ospina,Caracterizaci
on raman y edx de

ties of Ti(Cr)SiCN coating deposited by plasma enhanced

pelculas delgadas de CNx crecidas por ablaci

on l
aser,

magnetron sputtering, Vacuum xxx (2012) 1-6.

Revista latinoamericana de metalurgia y materiales

2009;29(2):109-114.
[10] G. Casiano Jimenez, W. L
opez Perez, C. Ortega L
opez,

[23] J. Kohanoff. Electronic Structure Calculations for Solids

and Molecules: Theory and Computational Methods.
Queens University Belfast, 2005.

J. A. Rodrguez Martnez, Estabilidad Relativa del Com-

[24] W. Kohn and L. J. Cham, Phys. Rev. 140, 1133, (1965).

puesto CrN, Revista Colombiana de Fsica, vol. 41, No.

[25] P. Blaha, K. Schwarz and J. Luitz. WIEN2k. ISBN 3-

3, Octubre 2009.
[11] Yu-Hsia Chen, Igor A Polonsky, Yip-Wah Chung, Leon
M Keer. Surf. Coat. Technol. Volume 154, Issues 2-3, 15
May 2002, Pages 152-161.
[12] Hetal N. Shah, R. Jayaganthan, Avinash C. Pandey. Materials and Design 32 (2011) 2628-2634.

9501031-1-2, 2011.
[26] John P. Perdew, Kieron Burke and Matthias Ernzerhof,
Phys. Rev. Lett. 77 (1996).
[27] F. D. Murnaghan, Proc. Natl. Acad. Sci., USA. 30, 244,
(1944).
[28] G. Casiano,

C. Ortega,

M. Espitia,

C
alculo de

[13] M
onica de Mesquita Lacerda, Julio Miranda Pureza, Jose

Primeros Principios de las Propiedades Estructurales y

Fernando Fragalli, Ney Mattoso Filho, Yip-Wah Chung,

Electr
onicas de las Superredes CrN/ScN, Revista Colom-

Materials Chemistry and Physics 131 (2011) 278-283.

biana de Fsica, Vol. 43, No. 2 de 2011.

[14] Anand Vyas, K. Y. Li, Y. G. Shen. Tribology International 42 (2009) 798-806.

[15] T. Polcar, T. Kubart, R. Nov
ak, L. Kopeck
y, P. Sirok
y.
Surf. Coat. Technol. 193 (2005) 192-199.

[29] U. Piratoba, J. Arenas, J. J. Olaya, Caracterizaci

on superficial y nano estructural de nano multicapas Cr/CrN
obtenidas por UBM con diferentes grados de desbalance,
Revista Mexicana de Fsica 59 (2013) 10-15.

[16] W. L
opez Perez, J. A. Rodrguez Martnez, T. Rada Cre-

[30] P. Perillo, M. G. Alvarez, N. Mingolo, Corrosi

on

spo, A. Lora M, J. Mass V, Propiedades Estructurales y

de Titaniorecubierto con CrN en medios acuosos,

Electr
onicas de la Super-Red CrN/TiN, Revista Colom-

CONAMET/SAM,2008.

biana de Fsica, vol. 41, No. 1, Enero 2009.

[17] Harish C. Barshilia, B. Deepthi, K.S. Rajam, Deposition
and characterization of CrN/Si3N4 and CrAlN/Si3N4
nanocomposite coatings prepared using reactive DC unbalanced magnetron sputtering, Surface y Coatings Technology 201 (2007) 9468-9475.
[18] Jiang-Li, Kwang-Leong Choy, Hai-Lin Sun, Hui-Qing
Li, Dennis Teer, Ming-Dong Bao, Syntheses of nanomultilayered TiN/TiSiN and CrN/CrSiN hard coatings, J. Coat. Technol. Res, 8 (2) 283-288, 2011 DOI
10.1007/s11998-010-9275-0.

[31] C. Stampfl, W, Mannstadt, R. Asahi, A. J. Freeman,

Phys. Rev. B 63 (2001).
[32] A. Zaoui, S. Kacimi, B. Bouhafs, A. Roula. Phys. B 358
(2005) 63-71.
[33] W. B. Pearson (Ed), in :Structure Report, International Union of Crystallography Oosthock, Scheltema,
and Holkema, Utrecht, 113-193. 1993
[34] H. Shimizu, M. Shirai, N. Suzuki, J. Phys. Soc. Japan 66
(1997) 3147.
[35] Francisco Rivadulla, Manuel Ba
nobre- L
opez, Camilo X.
Quintela, Jose Rivas, Carlos . A. Ramos. Reduction of the

bulk modulus at high pressure in CrN. Nature materials,

2009.