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Igbt
Igbt
Puerta
SiO2
xido de puerta
n+
n+
n+
canal
(sustrato)
1016 cm-3
n-
101415 cm-3
WD
RD
iD
n+
1019 cm-3
iD
1019 cm-3
(oblea)
Drenador
Transistor D-MOS
En un Transistor MOS para conseguir altas tensiones (BVDSS):
Para un dopado Nd, la mxima tensin de ruptura es: BVDSS
5
La zona de deplexin tiene un espesor: WD 1 10 BVDSS
BV
2.5 2.7
DSS
1.3 1017
ND
(cm)
( cm 2 )
Grficamente:
log(cm2)
6.1. INTRODUCCIN
6.2. TECNOLOGAS DE FABRICACIN Y CURVA
CARACTERSTICA I-V
6.3. FUNCIONAMIENTO DEL TRANSISTOR IGBT
6.3.1. Estado de Bloqueo
6.3.2. Estado de Conduccin
6.4. EFECTO DE CEBADO DEL TIRISTOR PARSITO
INTERNO DEL IGBT (LATCH UP)
6.4.1. Efecto del Latch up
6.4.2. Mtodos para Evitar el Efecto del Latch up
6.5. CARACTERSTICAS DE CONMUTACIN
6.5.1. Encendido
6.5.2. Apagado
6.6. REA DE OPERACIN SEGURA
6.7. CARACTERSTICAS Y VALORES LMITE DEL IGBT
n+
BVDSS
INTRODUCCIN
TECNOLOGAS DE FABRICACIN
Puerta
SiO2
xido de puerta
n+
n+
canal
(sustrato)
1019 cm-3
p
1016 cm-3
n-
101415 cm-3
WD
RD
iD
n+
n+
iD
1019 cm-3
(oblea)
Fuente
Drenador
Transistor D-MOS
SiO2
xido de puerta
Transistor n-MOS
iD
Puerta
n+
n+
n+
canal
L
n
WD
p+
Regin de arrastre
del Drenador
RD
n+
1/RON
(sustrato)
iD
iD
n+
iD
Capa de almacenamiento
Oblea
Capa de inyeccin
Drenador
VDS
a) MOS de alta tensin
VDS
Transistor IGBT
Slo en PT-IGBT
n+
SiO2
n+
ID
Avalancha
VGS
Saturacin
n+
n+
p
n+
VRRM, Muy
bajo si es un
PT-IGBT
Canal
Corte
n-epitaxial
+
n -epitaxial
VDSon, Menor si
es un PT-IGBT
Avalancha
Corte
BVDSS
VDS
p+-sustrato
iC
iD
G
VGE
VDS
a)
VGS
b)
S
n+
n+
n+
n+
Rarrastre
n-
Rdispersin
n-
Rarrastre
n+
p+
n+
p+
D
D
Rarrastre
D
J1
Varrastre
G
ID Rcanal
S
Circuito Equivalente aproximado del IGBT.
D
J1
Varrastre
G
ID Rcanal
IC 0.1 ID
n+
n+
p
Rdispersin
n+
p+
D
Seccin Vertical de un IGBT. Transistores MOSFET y BJT Internos a la
Estructura del IGBT
J1
J2
J3
Resistencia de
dispersin del
sustrato
J1
J2
J3
VJ3<V
G
S
p,
1016
n+
n+
p,
1016
p+,1019
nn+
p+
D
Tcnica para evitar el Latchup en los Transistores IGBT's. Modificacin del
Dopado y Profundidad del Sustrato
CARACTERSTICAS DE CONMUTACIN
El encendido es anlogo al del MOS, en el apagado destaca la corriente de cola:
VGS(t)
VT
-VGG
n+
p+
iD(t)
td(off)
Corriente
de cola
p
n-
trv
n+
p
VDS(t)
tfi1
tfi2
VD
D
Tcnicas para evitar el Latchup en los Transistores IGBT's. Estructura de
bypass de la Corriente de Huecos
Es un procedimiento muy eficaz.
Disminuye la transconductancia del dispositivo.
10-6s
DC
a)
iD
10-5s
10-4s
VDS
1000V/ s
2000V/ s
3000V/s
b)
VDS
Tj constante
VDS
ID creciente
Cds
VGS
a)
Cgs
S
ID
Tj=25C
Tj=125C
VDS/ t=0
VDS/ t>0
VDS/ t<0
b)
Anlogo al
transistor
MOS
Anlogo al
transistor
BJT
Ci
VDS
104 pF
Co
103 pF
102 pF
0.1 V
Cre
1V
10 V
100 V
VDS (V)