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RLMM Art 06v26n2 p76
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Resumen
Este trabajo muestra la implementacin de las tcnicas de corriente pulsante inversa, corriente pulsante directa y
corriente directa para electrodepositar pelculas delgadas de cobre-latn en forma de bicapa sobre sustratos de Zamak.
El anlisis morfolgico se realiz utilizando microscopa de fuerza atmica (AFM) permitiendo identificar que las
pelculas obtenidas con corriente pulsante inversa presentan un tamao de grano ms fino que las pelculas obtenidas
mediante las otras dos tcnicas. Para evaluar la resistencia a la corrosin de las pelculas se utiliz la tcnica EIS y
curvas de polarizacin. Se observ de igual manera que la deposicin utilizando la tcnica de corriente pulsante
inversa genera depsitos que incrementa la resistencia a la corrosin de las pelculas obtenidas
Palabras claves: Corriente pulsante inversa, Electrodeposicin, EIS, Corrosin.
Abstract
This research shows the implementation of the techniques of inverse-pulsing current, direct-pulsing current and
direct current for the electrodeposition of copper brass thin films as double-layer on Zamak substrates. The
morphological analysis has been carry out by using atomic force microscopy (AFM). This technique allowed the
detection of finer grain size on the films obtained by inverse-pulsing in comparison with the films obtained via the
other two techniques. In order to evaluate the corrosion resistance of the thin films, EIS technique and polarization
curves were employed. It was also observed that deposition by using the inverse-pulsing current technique generated
deposits of minor porosity and increased the corrosion resistance of the obtained films.
Key words: Inverse-pulsing current, Electro-deposition, EIS, Corrosion.
1. INTRODUCCIN
El electrorecubrimiento con corriente pulsante
(PDC) y corriente pulsante inversa (PRC) es una
tcnica en la cual la corriente estacionaria directa
(DC) es reemplazada por sus formas modulares.
Aunque esta tcnica se ha utilizado por un largo
tiempo, el mtodo de electrorecubrimiento
empleando corrientes moduladas permaneci
inactivo y slo se us ocasionalmente la tcnica
PRC para la obtencin de recubrimientos de cobre a
partir de soluciones cianuradas [1].
Aunque se conoca que la morfologa de los
depsitos de oro y sus aleaciones se podan
modificar con el uso de corriente pulsante inversa,
esta atractiva ventaja solo se desarroll cuando se
supo que los depsitos de oro obtenidos mediante la
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Electrodeposicin de Cobre-Latn sobre Sustratos de Zamak Utilizando las Tcnicas DC, PDC y PRC
RESULTADOS Y DISCUSIONES
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Von (V)
Voff (V)
Vrev (V)
ton (ms)
toff (ms)
10
10
100
100
100
100
10
-2
100
10
10
-4
100
10
10
-2
100
40
10
-4
100
40
Electrodeposicin de Cobre-Latn sobre Sustratos de Zamak Utilizando las Tcnicas DC, PDC y PRC
(a)
(b)
(c)
Figura 1: Topografa de las pelculas electrodepositadas
de latn obtenidas mediante tres tcnicas. (a) DC: V =
10 V. (b) PDC: Von = 10 V, Voff = 2 V, ton = 100 ms y
toff = 100ms. (c) PRC: Von = 10 V, Vrev = 2 V, ton =
100 ms y trev =10 ms.
Tcnica
Tamao de
grano (m)
Rugosidad ()
DC
2960
4759
PDC
1050
3409
PRC
256
1203
3.2 Diagramas
de
Espectroscopia
de
Impedancia Electroqumica
La Figura 2 muestra los diagramas de Bode
obtenidos para las pelculas de latn obtenidas con
las tres tcnicas de electrodeposicin. Para simular
lo que est pasando en la interfase de todos los
electrorecubrimientos obtenidos con las tres tcnicas
se utiliz el circuito que corresponde a la celda de
Randles (Figura 3), el cual nos dice que la
capacitancia de la doble capa est en paralelo con la
impedancia debido a la reaccin de traslado de
iones. El valor de la resistencia de la solucin es de
254,8 y los valores de resistencia a la polarizacin
y capacitancia a la doble capa de cada uno de los
diagramas de bode son los mostrados en la Tabla 3.
Los valores de resistencia a la polarizacin
encontrados con los diagramas de espectroscopia de
impedancias se usaron para averiguar las
velocidades de corrosin halladas con las curvas de
polarizacin.
De los diagramas de impedancia se observan
algunas caractersticas importantes (ver Figura 2):
(a)
(b)
(c)
Figura 2: Diagramas de Bode para las pelculas de Latn. (a) DC, (b) PDC y (c) PRC.
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Electrodeposicin de Cobre-Latn sobre Sustratos de Zamak Utilizando las Tcnicas DC, PDC y PRC
DC
PDC
PRC
110
120,5
89,5
97,23
98,23
183,7
26,46
67,39
0,9
1,3
3,5
1,2
8,334
6,685
2,452
2,058
para
todos
los
Figura 4: Curvas de polarizacin de electro-recubrimientos de Latn obtenidos con diferentes tcnicas en HCl al 1% a una
velocidad de barrido de 0,5 mV/s.
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Electrodeposicin de Cobre-Latn sobre Sustratos de Zamak Utilizando las Tcnicas DC, PDC y PRC
Pruebas
1
a (mV/dcada)
133,9
212,9
c (mV/dcada)
89,50
79,90
icerr (A)
60,30
8,210
18,52
6,554
Pruebas
1
a (mV/dcada)
112
67,90
c (mV/dcada)
194,7
69,7
144
671
0,5853
4,16
icerr (A)
Velocidad de corrosin (mpy)
Pruebas
1
a (mV/dcada)
29,80
35,70
c (mV/dcada)
24,40
38,90
icerr (A)
0,00064
0,000959
0,0512
0,0766
a (mV/dcada)
58,40
54,23
c (mV/dcada)
81,40
39,50
icerr (A)
1,73
3,66
1,38
1,25
CONCLUSIONES
Las micrografas de AFM determinaron que los
recubrimientos ms homogneos son los
obtenidos con la tcnica PRC en cuanto al
latn, tambin se observ que el tamao de
grano tiene un valor alto para las tcnicas DC y
PDC y para la tcnica PRC este valor
disminuye considerablemente. Adems, las
pelculas obtenidas con la tcnica PRC son las
que ofrecen el menor valor de rugosidad
debido a la homogeneidad del recubrimiento.
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