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Consultores: Liliana Marcela Sosa Victoria En este espacio incluya el logotipo de

su grupo

Parámetros del modelo

La dirección técnica de AMD quiere que su compañía utilice las siguientes distribuciones en su modelo preliminar, estas
distribuciones sustituyen a los resultados de su análisis de entrada.

Tiempo de Tiempo de Tiempo de Tiempo de Tiempo de Tiempo de Tiempo de

Montaje Servicio Servicio Servicio Servicio Servicio Servicio
(seg) Estación 1 Estación 2 Estación 3 Estación 4 Estación 5 Estación 6
(seg) (seg) (seg) (seg) (seg) (seg)
Distribución Normal Normal Normal Normal Normal Normal Normal
Parámetros (45,12) (60,5) (70,10) (80,10) (60,10) (120,10) (100,15)
Tabla 1. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en las 3 estaciones del sistema actual

Descripción construcción modelo sistema actual en Arena®

En la tabla a continuación se debe presentar la descripción de los módulos de Arena® empleados para realizar el modelo
de simulación, se debe realizar una breve descripción donde indique para qué fue utilizado el módulo, por ejemplo: El
módulo créate fue empleado para modelar la llegada de las piezas y para ello se tuvo un tiempo entre llegadas que se
distribuía exponencial con media xxx

Módulo de Arena Empleado Descripción del Módulo Empleado

El modulo créate se utilizó para modelar la creación de los soportes AK,el cual es que da
inicio al proceso.

El módulo timestamp se pone después del inicio del proceso para tomar el tiempo de inicio del
proceso.

El módulo seize es aquel que indica a los operarios 1 y 2.

El módulo process se utilizó para modelar las estaciones del proceso que fueron las siguientes:
Montaje: Consta con 3 soportes AK y un operario 1, con una distribución normal y un tiempo
(45,12) seg
Estación 1 cleaning: Consta con una maquina cleaning y un operario 1, con una distribución
normal un tiempo(60,5) seg.
Estación 2 oxidation: Consta con una maquina oxidation y un operario 1, con una
distribución normal y un tiempo(70,10) seg.
Estación 3 lithography: Consta con una maquina lithography y un operario 0, con una
distribución normal y un tiempo(80,10) seg.

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Módulo de Arena Empleado Descripción del Módulo Empleado

Estación 4 etching: Consta con una maquina etching y un operario 0, con una distribución
normal y un tiempo (60,10) seg.
Estación 5 ion implantation: Consta con una maquina ion implantation y un operario 2, con
una distribución normal y un tiempo(120,10) seg.
Estación 6 photoresist strip: Consta con una maquina photoresist strip y un operario B, con
una distribución uniforme y un tiempo(100,15) seg.
El módulo delay se utilizó para modelar los desplazamientos de tiempos durante el proceso.

El módulo reléase se utilizó para cerrar el proceso que realizan los operarios.

Tabla 2. Descripción de los módulos empleados en la construcción del modelo de simulación del sistema actual

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Troughput EntitiesOut(soporte)/TNOW)*60

Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 3 soportes AK)

A continuación, se deben presentar los resultados preliminares del modelo de simulación del sistema actual, estos
resultados serán obtenidos teniendo en cuenta que debe realizar 10 réplicas del modelo, el periodo de calentamiento debe
ser 0, la longitud de la réplica debe ser suficiente para acumular 300 unidades en inventario. Las unidades de tiempo a
utilizar en el reporte de resultados son minutos. Utilice como máximo 3 cifras decimales.

Intervalo de Confianza
Indicadores
Promedio Half Width Lim. Inferior Lim. Superior

Tiempo de ciclo promedio de una Waffer

Tiempo promedio de transferencia de una

Waffer

Tiempo promedio de fabricación de una

Waffer

Tiempo promedio total de espera de una

Waffer

Tiempo promedio de espera, de una

Waffer, en la estación cuello de botella

Factor de utilización de la estación de

Cleaning

Factor de utilización de la estación de

Oxidation

Factor de utilización de la estación de

Lithography

Factor de utilización de la estación de

Etching

Factor de utilización de la estación de Ion

Implantation

Factor de utilización de la estación de

Photoresist Strip

Throughput (waffers/hora)

Tabla 3. Resumen resultados preliminares modelo de simulación sistema actual

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Referencias
Incluya aquí las principales referencias utilizadas para desarrollar su trabajo, utilice reglas APA

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