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Tecnicas de Crecimiento y Caracteriza
Tecnicas de Crecimiento y Caracteriza
DE MATERIALES
Conceptos de Bio y Nanotecnología
Maestría en Bioingeniería y Nanotecnología
La técnica de deposición por láser pulsado (PLD), es capaz de reproducir casi cualquier
tipo de material (óxidos, metales, polímeros). Su alta reproducibilidad estequiométrica, y
versatilidad, la ubican entre las más poderosas técnicas para la producción de óxidos
complejos, materiales multiferróicos magnetoeléctricos (ME), y semiconductores
magneto-diluídos, entre otros.
Se presume que alrededor de 1965 se dio inicio al desarrollo de esta técnica, con el
desarrollo de depósitos dieléctricos – semiconductores usando láseres de rubí; también
se usaron dépositos a partir de polvo de BaTiO 3 y SrTiO3, y superconductores de baja
temperatura ReBe22. La empresa desarrolladora inicial es Bell telecomunicaciones y
desde esta espoca a la fecha DPL es ampliamente usada en la elaboración de
materiales semiconductores y oxidos complejos obtenidos bajo equilibrio
termodinámico.
Para tener un éxito se debe tener en cuenta las características del láser (longitud de
onda y frecuencia de los pulsos que emite); el tipo de sustrato y su temperatura; la
distancia entre el blanco y el sustrato así como la atmosfera de crecimiento. (Ver figura
1)
El proceso físico de DPL consiste en las siguientes fases (Fig 2.) (1) interacción del
láser con el blanco y formación del plasma, (2) expansión de la pluma de ablación, e (3)
interacción de las especies eyectadas con el sustrato, y crecimiento laminar.
Cuando la oscilación de carga ocurre dentro del volumen del sólido tiene energía:
Fig. 3.
BIBLIOGRAFIA
4- Nilsson, P., Persson, B., Larsson, A., Uhlen, M. & Nygen, P. Detection of Mutations in
PCR Products from Clinical Samples by Surface Plasmon Resonance. Journal of
Molecular Recognition 10, 10-17 (1997)
5- Duque, Johan. (2017). Resonancia del plasmon de superficie en nanopartículas
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