Documentos de Académico
Documentos de Profesional
Documentos de Cultura
¿ 𝐵𝐽𝑇 ¿ 𝑁𝑃𝑁
{
{
¿ 𝑃𝑁𝑃
¿
𝐶𝑎𝑛𝑎𝑙 𝑁
𝐽𝐹𝐸𝑇
{
{
𝐶𝑎𝑛𝑎𝑙 𝑃
¿ 𝐹𝐸𝑇 ¿ 𝐷𝑒𝑐𝑟𝑒𝑚𝑒𝑛𝑡𝑎𝑙 ¿ 𝐶𝑎𝑛𝑎𝑙 𝑁
{
𝑀𝑂𝑆𝐹𝐸𝑇
{ ¿ 𝐶𝑎𝑛𝑎𝑙 𝑃
¿ 𝐼𝑛𝑐𝑟𝑒𝑚𝑒𝑛𝑡𝑎𝑙 ¿𝐶𝑎𝑛𝑎𝑙 𝑁
{
¿ 𝐶𝑎𝑛𝑎𝑙 𝑃
MOSFET D-E (Depletion-Enhancement)
• MOSFET’s de enriquecimiento-empobrecimiento (DE-
• MOSFET) o MOSFET decremental tiene las
características similares a las de un JFET
• Característica adicional de que se extienden hasta la
región de polaridad opuesta para , puede funcionar en
ambos modos y se clasifican como FET de operación
“tipo B“
• La compuerta se encuentra conectada también a una
superficie de contacto metálico, pero se encuentra
aislada del canal-n por medio de una capa muy
delgada de dióxido de silicio (SiO2) el cual sirve como
dieléctrico entre la compuerta y el canal
• Corriente de fuga inversa muy pequeña en los • Una particularidad muy importante es que la ecuación
MOSFET’s: de Shockley sigue aplicándose para el MOSFET tipo
– MOSFET’S – picoamperios decremntal tanto en la región de agotamiento como en
la de enriquecimiento, solo es necesario incluir el
• Debido a la alta impedancia entre compuerta y fuente, signo adecuado de VGS en la ecuación.
se puede generar una ganancia estática en su terminal
2
de compuerta. V
I D I DSS 1 GS
V
• Si excede de 100V, la capa de SiO2 se puede romper. GSoff
• MOSFET’s y circuitos integrados con MOSFET’s deben
ser manejados cuidadosamente (cubiertos con películas • Condición de saturación
conductoras o terminales cortocircuitados entre sí).
VDS VGS VP
MOSFET E (Enhancement)
• Los símbolos gráficos para los MOSFET de tipo incremental canal N y canal P, la
línea punteada hace referencia a la ausencia de un canal constituido
OPERACIÓN INTERNA DEL E-MOSFET CANAL-N
• Cuando VGS =0V, ID es prácticamente cero, puesto • Si tanto VGS como VDS es positivo, se forma un campo
que no existe un canal por medio del cual circulen los eléctrico en la región de compuerta, este potencial
portadores mayoritarios y la unión p-n entre drenaje y positivo obliga a los huecos del substrato P a
sustrato queda polarizada inversamente, alejarse de la vecindad de la capa de (SiO2).
• luego solo hay una pequeña corriente de fuga.
• Una diferencia muy grande con el JFET en donde
para VGS=0, ID=IDSS
OPERACIÓN INTERNA DEL E-MOSFET CANAL-N
• La compuerta atrae los portadores minoritarios (e-) del sustrato.
• Con suficientes portadores minoritarios se forma un canal-n entre la fuente y el drenaje. El canal inducido es llamado
capa de inversión. Gracias a la capa de SiO2 y sus propiedades aislantes evitará que los portadores negativos sean
absorbidos por el terminal de compuerta.
• A mayores valores positivos de VGS mas portadores negativos se forman, el canal aumenta y la corriente ID crece.
• El VGS requerido para formar el canal se llama VGS(th). Voltaje threshold compuerta-fuente (voltaje umbral) y es indicado
en hojas del fabricante.
• VGS>VGS(th) ocasionan aumentos de ID
OPERACIÓN INTERNA DEL E-MOSFET CANAL-N
I D 5.67 10 4 A 2 * 6V 3.8V
2
V
• K es constante con unidades A/V2; se obtiene I D 2.74mA
indirectamente de los datos del fabricante y esta
dado por:
I D (encendido )
k
(VGS (encendido ) VT ) 2
RESUMEN
MOSFET- DE MOSFET- DE
Canal-N Canal-P
Símbolo: Símbolo:
• Ecuación de Transferencia:
2 2
V V
I D I DSS 1 GS I D I DSS 1 GS
VGSoff VGSoff
• Condición de saturación:
• Ecuación de Transferencia:
• Condición de saturación: