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Cinética Metalúrgica II

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 1

Intoducción
Cinética Metalúrgica II

Reacciones electroquímicas y leyes de Faraday



k
  d [Ox ] 1 d [e] d [Re d ]
Oxne 

 Red vr  
dt

n dt

dt
k

1 mol de e  - - - - - 96500 A.s d[e- ] I


d[e - ] moles - - - - - I.dt 
dt F

d [Ox ] 1I d [Re d ] I red  0


vr     red 
dt n F dt I ox  0
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1
Intoducción
Cinética Metalúrgica II
Curvas de Polarización
Desigualdad de De Donder Pourbaix i  0
0.15

0.1 I
IV
0.05

0
-0.03 -0.02 -0.01 0 0.01 0.02 0.03
V

-0.05

III
-0.1
II
-0.15

-0.2
i A/cm2

Sobretensi ón :   Eh 3 Eth
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Intoducción
Cinética Metalúrgica II

Ecuaciones de Tafel (1905)


k  a  bk log | i |
a  a  ba log | i |

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación

k  
 
Ox  ne 

k
 Re d vr  k [Ox ]  k [Re d ]
i  ia  ik

k BT [Re d ]*
k 
h [Re d ]
(oxidación)

k BT [Ox ]*
k 
h [Ox ]
(reducción)

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación
al equilibrio : ln
[Re d ]*

Gox*
[Re d ] RT
Ox 
 Ox * Gox* ; Gred
*
*
[Ox]* Gred
 * ln 
Re d  Re d [Ox] RT

k BT * k BT  Gox* 
iox  nF [Re d ]  nF [Re d ] exp  
h h  RT 
k BT * k BT  Gred
*

ired   nF [Ox ]   nF [Ox ] exp  
h h  RT 
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación
1) Los términos pre-exponenciales son
independientes del potencial de electrodo
2) Las entalpías libres de activación implican una
transferencia de carga a través de la barrera de
potencial existente en la doble capa.
3) Para una reducción, por ejemplo, son los electrones
los que deben abandonar el electrodo hacia el
oxidante, la tensión absoluta del electrodo será
un tal desplazamiento será interferido por el
campo eléctrico, para una oxidación por el
contrario será facilitada.
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación

4) La transferencia de carga nF a través de la barrera


, corresponde a una energía entregada al sistema
( en valor algebraico) ± nF siguiendo el sentido de
la transferencia.

5) La hipótesis fundamental de la teoría consiste en


admitir que una fracción de esta energía
contribuye a disminuir la entalpía libre de activación
de la oxidación y una fracción de la misma energía
incrementa la entalpía libre de activación de la
reducción.

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación

Gox*  ( Gox* )0  nF


*
Gred *
 ( Gred )0  nF
y son los coeficientes de transferencia o factores
de simetría, si tomamos una tensión relativa podemos
introducir las diferencias en el término de la tensión
absoluta nula así:
Gox*  Aox*  nFE h
*
Gred *
 Ared  nFE h
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación
Reemplazando en i:
kbT  A0   n 
iox  nF [Re d ] exp  ox  exp FEh 
h  RT   RT 

kbT  A0   n 
ired   nF [Ox ] exp  red  exp  FEh 
h  RT   RT 
Agrupando constantes i será:

  n   n 
i  nF kox [Re d ] exp FEh   k red [Ox ] exp  FEh 
  RT   RT 

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación
Cuando el electrodo está al equilibrio termodinámico:

RT  k red [Ox ]eq 


Eth   ln  ln 
nF  th   th   kox [Re d ]eq 

 th   th  1
Definiendo una corriente de intercambio io:
 nF 
i0  nFk ox [Re d ]eq exp  th Eth 
 RT 
 nF 
i0   nFk red [Ox]eq exp   th Eth 
 RT 
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen de transferencia de electrones o régimen de
activación
Definiendo sobretensión como:

Eh  Eth  
Si consideramos y independientes de Eh:
  nF
i  i0 exp Eh  th Eth   exp  nF Eh  th Eth 
  RT   RT 
Ecuación de Butler-Volmer

  nF  nF 
i  i0 exp    exp   
  RT   RT 
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Leyes límite
a) Para sobretensiones k>> a o visceversa :

 nF  2.303RT
ia  i0 * exp  ba 
 RT   nF

  nF  2.303RT
ik  i0 * exp   bk  
 RT   nF

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Leyes límite
a) Para sobretensiones k>> a o visceversa :

-0.4
-5 -4 -3 -2 -1 0
-0.45

-0.5
ba= 0.0586
-0.55
E sce V

bk= -0.1048
-3.347, -0.517 -0.6

-0.65

-0.7

-0.75
log(i) A/cm2
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Leyes límite
b) Aproximación al origen

e x x 0  1  x e  x x 0  1  x

 nF   nF 
di  i0 1  d   1  d 
 RT   RT 
d
 RP (Re sistencia de Plarización )
di

1  ba * bk  1
i0   
2.303  ba  bk R
 P

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Leyes límite
b) Aproximación al origen
9
8
y = 0.0267x
7
R2 = 0.9929
6
5
mV

4
Rp= 0.0267
3
2
1
0
0 100 200 300 400
i A/cm 2

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:
Aplicandola 1ra ley de Fick:
 [ X ]  [ X ]0  [ X ]elec
   Régimen Estacionar io
  x  x 0 x
x : Capa de difusión o capa límite de Nernst
Ecuación de la sobretensión:
  n   n 
i  nF kox [Re d ]elec exp FEh   k red [Ox]elec exp  FEh 
  RT   RT 
Asumiendo el régimen estacionario la corriente de
transferencia es igual a la corriente de transporte de
difusión:
[Re d ]0  [Re d ]elec [Ox]0  [Ox]elec
i  nFDred   nFDox
 red  ox
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:
También será válido que:
[Ox]0  [Ox]elec D 
 - red Ox
[Re d ]0  [Re d ]elec D ox  Re d

Por difusión la corriente tomará un valor límite


cuando[X]elec= 0
[Re d ]0
ia  nFDred
 red
[Ox]0
ic  nFDox
 ox
Asumiendo que ox red son independientes de i:
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:
Asumiendo que ox red son independientes de i:
i [Re d ]elec  i 
 1  [Re d ]elec  [Re d ]0 1  
ia [Re d ]0  ia 
i [Ox]elec  i 
 1  [Ox]elec  [Ox]0 1  
ic [Ox]0  ic 
Si lo restituimos en la ley general de la sobretensión:

  i   n   i   n 
i  nF kox [Re d ]0 1   exp FEh   k red [Ox]0 1   exp  FEh 
  ia   RT   ic   RT 

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:
También se puede definir una corriente de
intercambio tal que i=0:

 n    n 
i0  nFkox [Re d ]0 exp th FEth   nFk red [Ox]0 exp  th FEth 
 RT   RT 
Suponiendo siempre que y son independientes de
Eh:

 i   n   i   n 
i  i0 1   exp F   1   exp  F  
 ia   RT   ic   RT 

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:
Factorizando en i:
 n   n 
exp F   exp  F 
 RT   RT 
i  i0
i0  n  i0  n 
1 exp F   exp  F 
ia  RT  ic  RT 
Lo que constituye la fórmula de la sobretensión en
régimen mixto de difusión-trnsferencia

 n 
exp F 
i1  i0  RT 
i  n  i  n 
1  0 exp F   0 exp  F 
ia  RT  ic  RT 
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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:
i2 :
 n 
exp  F 
i2  i0  RT 
i0  n  i0  n 
1 exp F   exp  F 
ia  RT  ic  RT 

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Relaciones Fundamentales
Cinética Metalúrgica II
Régimen mixto de difusión-transferencia:

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.1 Potencial mixto y corriente de corrosión o disolución

Eh

OXIDACIÓN

i0
Eth

REDUCIÓN

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos Log|i| 26

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.1 Potencial mixto y corriente de corrosión o disolución

Eh
 2 H   2e 
H2 
i0 2
Eth 2
i corr
E corr
2 H   2e 
 H 2
i0 1  Zn 2  2e 
Zn 
Eth 1
Zn 2  2e  
 Zn

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos Log|i| 27

3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.2 Diagramas de Evans: Potencial Mixto

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14
3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.2 Diagramas de Evans: Efecto de un oxidante en fluido

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 29

3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.2 Diagramas de Evans: Curva mixta efecto de la
velocidad del fluido

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.2 Diagramas de Evans: Aplicaciones

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.2 Diagramas de Evans: Aplicaciones

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 32

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.2 Diagramas de Evans: Aplicaciones

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 33

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.2 Diagramas de Evans: Aplicaciones

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 34

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.2 Diagramas de Evans: Aplicaciones
Potenciales de abandono Eh(I=0) de sulfuros
Potenciales de abandono de sulfuros en soluciones ácidas
Sulfuro Electrolito Temperatura (°C) Eh(I=0)
FeS2 1 M H2SO4 25 0.63
FeS2 1 M HClO4 25 0.62
CuFeS2 1 M HClO4 25 0.53
Cu2S 100 g/L H2SO4 20 0.442
CuS 1 M HClO4 25 0.42
PbS 100 g/L H2SO4 20 0.284
PbS 1 M HClO4 25 0.24
PbS 1 M HCl 25 0.29
PbS(f undido) 100 g/L H2SO4 20 0.0036
PbS(prensado) 100 g/L H2SO4 20 -0.032
ZnS 100 g/L H2SO4 20 -0.242
FeS 100 g/L H2SO4 20 -0.283
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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

Eh
1 / 2O2 (ac)  2 H  (ac)  2e  ( s )
H 2O 

i0 2
Eth 2

1 / 2O2 ( ac )  2 H  ( ac )  2e  ( s ) 
 H 2O

 Zn 2  2e 
Zn 
Eth 1
Zn 2  2e  
 Zn
i0 1

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos Log|i| 36

18
5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

Eh
1 / 2O2 (ac)  2 H  (ac)  2e  ( s )
H 2O 

anódica
(Eth 2)ox

E thdeposición Eh deposición

Eth 1
catódica

Zn 2  2e  
 Zn
i deposición
M.Sc Ing. Oscar Silva Campos Log|i| 37

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 39

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 40

20
5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 41

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 42

21
5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 43

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.3 Celdas Electrolíticas

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 44

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.4 Voltametría cíclica y lineal

Eh
TRANSPASIVACIÓN

ipas PASIVACIÓN

INMUNIDAD CORROSIÓN

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.4 Voltametría cíclica y lineal
Montaje potenciostático

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos
Voltametría cícilca de Cu2S

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos
Voltametría lineal aplicada a corrosión de Cuproaluminios

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 48

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos
Voltametría lineal aplicada a corrosión de Cuproaluminios

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 49

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos
Voltametría lineal aplicada a la cementación de Pb con Fe
Mostraremos el diagrama de Evans para la cementación del
plomo por medio del SAE 1020:
Primeramente determinamos las pendientes de Tafel de ambos
ACERO SAE 1020 PLOMO
Pendientes de Tafel Pendientes de Tafel
Condiciones: O.01 M PbCl2 - pH = 2.5 - 25 ºC -200 RPM
Condiciones: O.01 M PbCl2 - pH = 2.5 - 25 ºC -200 RPM
0.2 0.2

0.1 0.1

0 0
-0.8 -0.3 0.2 0.7 -0.8 -0.3 0.2 0.7
-0.1 -0.1
Evs.SHE
E vs. SHE

-0.2 -0.2

-0.3
-0.3
0.289, -0.165 0.290, -0.141 -0.4
-0.4
-0.5
-0.5
-0.6
-0.6
log|io| mA/cm 2
log |io| mA/cm 2

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos
Voltametría lineal aplicada a la cementación de Pb con Fe
El diagrama de Evans para la cementación del plomo por medio del SAE
1020: E cemen: -0.153 V e i cemen = 2.047 mA /cm2
ACERO SAE 1020 - Plomo
Diagrama de Evans
Condiciones: O.01 M PbCl2 - pH = 2.5 - 25 ºC -200 RPM
0.6

0.4
E, i
cementació
0.2
0.311, -0.153
0
E vs.SHE

-0.65 -0.45 -0.25 -0.05 0.15 0.35 0.55


-0.2

-0.4

-0.6

-0.8
log|icem | m A/cm 2
SAE-1020 Plomo
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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos
Voltametría lineal aplicada a la cementación de Pb con Fe
Fig. N° 4 ELECTRODO DE ACERO SAE 1020
INFLUENCIA DE LA TEMPERATURA
Condiciones: [PbCl2] = 0.01 M - pH = 4.5 - 200 RPM
1.4
1.2
1
0.8
0.6
0.4
E vs. SHE

0.2
0
-2 -1 -0.2 0 1 2
-0.4
-0.6
-0.8
-1
log|i| mA/cm2

90° C M.Sc
80 Ing.
°C Oscar Silva38
Campos
°C 25 °C 52

26
5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Voltametría lineal aplicada a la cementación de Pb con Fe

1.3004
 1    2355.3385 
i 0  2.8112E  07 *   * PbCl2 10.0104 * exp 
 pH   T 

Modelo optimizado semi-empírico


Modelo Optimizando Semi-empírico

Las condiciones óptimas de cementación: pH = 1.5, una velocidad de agitación de 200


rpm, una temperatura de 90 ºC y una concentración inicial de cloruro de plomo de 0,05 M.
M.Sc Ing.
IVOscar
CIMTSilva
2008Campos 53

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 54

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 55

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 56

28
3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 57

5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 58

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5.3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
5.3.5 Aplicaciones a problemas metalúrgicos

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.6 Nociones sobre la electroquímica de semiconductores.
Caso: el oro en la naturaleza

Tipo n: FeS2(baja en As) Tipo p: FeS2(alto As)


FeAsS(S>As) FeAsS(As>S)
M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 60

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.6 Nociones sobre la electroquímica de semiconductores.
Caso: el oro en la naturaleza

Tipo n: FeS2(baja en As) Tipo p: FeS2(alto As)


FeAsS(S>As) FeAsS(As>S)
M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 61

3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.6 Nociones sobre la electroquímica de semiconductores.
Caso: el oro en la naturaleza

Tipo p: Cátodo Tipo n: Anodo


M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 62

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.6 Nociones sobre la electroquímica de semiconductores.
Caso: el oro en la naturaleza

Au  2 HS   Au ( HS ) 2  e  Au  2Cl   AuCl2  e 

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3.Electrodos Múltiples
Cinética Metalúrgica II
3.6 Nociones sobre la electroquímica de semiconductores.
Caso: el oro en la naturaleza

Caso: oro cianurable Caso: oro no cianurable

M.Sc Ing. Oscar Silva Campos 64

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