METODOS DE FABRICACIÓN DE LA PREFORMA DE UN
CONDUCTOR OPTICO
PALOMINO GUERRA, ALVARO - Universidad Ricardo Palma
Ingeniería Electrónica
scorpiusalvaro@gmail.com
Resumen— Para la elaboración de la
Preforma de un conductor óptico existen
diversos métodos entre los cuales destacan:
MCVD, VAD, OVD y PCVD.
El preformado viene a ser una ampliación a
escala de las dimensiones geométricas y del
perfil del índice de refracción del conductor de
fibra óptica. En los dos primeros métodos la
reacción comienza en el interior de un tubo de
silicio, mientras que en los dos restantes en el
exterior de un tubo de silicio.
Palabras claves— MCVD, VAD, OVD y
PCVD, Preforma.
1. 1. Introducción
En el presente trabajo veremos los
diferentes procesos para la elaboración de la
preforma de los conductores ópticos, los
diversos procesos a los que son sometidos los
productos para llevar a cabo dicha elaboración y
poder comprender mejor las capacidades de los
materiales resultantes según el tipo de
producción por la que han pasado.
Figura 1.- método de producción de la
preforma
2. Método por fusión de vidrio
o Método directo
2.1 Metodo de la varilla en tubo
(rod in tube)
Este fue uno de los primeros métodos
usados, en este proceso y es uno dem
simple, se introduce una varilla de vidrio de
alto índice como núcleo en un tubo que hace de
recubrimiento y esta formado por vidrio de con
un bajo índice de refracción.
Las dimensiones de la varilla y del tubo son
tales que prácticamente no queda espacio entre
una y otro.
Figura 1.- Metodo de la varilla en tubo
En la figura 1 se observa una varilla de vidrio
como núcleo se coloca dentro del tubo de vidrio
del cladding. En el extremo de este ensamblado
se aumenta la temperatura; y ambos vidrios son
ablandados obteniendose una fibra por arrastre.
.La varilla y el tubo son normalmente de 1 m. de
longitud. La varilla del nucleo tiene típicamente
30 mm de diámetro. El vidrio del nucleo y el
vidrio del cladding deben tener temperaturas de
ablandamiento similares.
Este método es relativamente fácil: apenas se
necesita comprar la varilla y el tubo. Sin
embargo, uno debe tener mucho cuidado para
no introducir impurezas entre el núcleo y el
cladding .
La desventaja de este método simple
consiste en que después del estirado de la fibra
quedan pequeñísimos deterioros e impurezas
en la superficie de separación entre ambos
vidrios, lo que ocasiona elevadas atenuaciones
del orden de los 500 a 1000 dB/Km. , por este
método solo se fabrican fibra ópticas
multimodos de perfil escalonado.
Estas fibras no son usadas en la transmisión de
imagen e iluminación pero no son utilizadas en
telecomunicaciones.
2.2 Metodo de los dos crisoles
(double crucible o compound
melting)
Este método se usa para evitar el inconveniente
del metodo de la Varilla en tubo , los vidrios
correspondiente al núcleo y al recubrimiento son
unidos en estado de fusión y luego se estira la
fibra de este material directamente al salir del
estado de fusión y no se utiliza una preforma
sólida.
Figura 2.- Crisol doble
En la figura 2 se observa que el vidrio fundido
del núcleo se coloca en el crisol interno.
El vidrio fundido del cladding se coloca en el
crisol exterior.
Los dos vidrios se unen en la base exterior y la
fibra se obtiene por arrastre. Pueden producirse
Fibras de gran longitud
Pueden obtenerse fibras de índice escalón y
fibras de índice gradual con este método
Se le denomina método de los dos crisoles
ya que los vidrios usados para el núcleo y el
cladding se funden en crisoles separados.
Este método permite obtener fibras de perfil
gradual por difusión o intercambio de iones
entre los vidrios del núcleo y del recubrimiento ,
a esto se le denomina Método Selfoc.
Ya que resulta difícil mantener una total
limpieza de los crisoles las impurezas que
llegan por este método se agregan al de los
métales de transición ya existente e
incrementan la atenuación que va de los 5 a los
20 dB/Km. A 850 nm. Este método es utilizado
para la fabricación de fibras de gran diámetro
( mas de 200 um).
3. Fabricación de la preforma por
técnica de deposición de vapor
La deposición se puede efectuar por diferente
formas: Sobre la superficie externa de una
varilla de substrato en rotación (Método OVD,
outside vapor deposition), sobre la superficie
frontal de una varilla de cuarzo (Método VAD,
vapor axial deposition) o sobre la superficie
interior de un tubo de vidrio de cuarzo en
rotación (Método IVD, inside vapor deposition),
este último método puede utilizar la energia
para la deposicion del vidrio ya sea desde
afuera por medio de un quemador detonate de
gas (Método MCVD, modified chemical vapor
deposition) o desde adentro con una llama de
plasma (Método PCVD, plasma activated
chemical vapor deposition).
En todos estos métodos la deposición se
produce por la descomposición de compuestos
volátiles de alta pureza en un llama de gas
detonante. Los Químicos usados son el
Oxígeno (O2) y el tetracloruro de Silicio (SiCl4)
que reaccionan para obtener sílice (SiO2).
El sílice puro se dopa con otros químicos tal
como el óxido del boro (B2O3), el dióxido de
germanio (GeO2) y el pentoxido de fósforo
(P2O5) con el objeto de modificar el índice
refractivo del vidrio.
3.1 . Método de Deposición
de Vapor externo(OVD)
La fabricación de la preforma se efectua en
dos etapas, en primer lugar se hace rotar con
un dispositivo adecuado una varilla de substrato
de vidrio de cuarzo AL2O3 o grafito en torno de
su eje longitudinal, al tiempo que se calienta en
una estrecha zona desde afuera con la llama de
un quemador de gas detonante o gas propano.
Junto con las sustancias dopantes reqeridas
por el pérfil de índices de refracción como los
metales halogenados (SiCl4, GeCl4, BCl3,
PCl3) se le suministra oxígeno (O2) al
quemador, en el cual estos compuestos se
convierten en los correspondientes óxidos.
Estos a su vez se depositan sobre la varilla
rotante en forma de finas partículas.
Figura 3.- Influencia del dopando en el índice
de refracción

Al imprimirle un movimiento de vaiven en
sentido longitudinal, se obtiene por capas una
preforma porosa de vidrio. A cada una de estas
capas se le puede dopar en forma diferente,
agregando en determinada proporción distinta
sustancias dopantes a la sustancia básica del
SiO2, lograndose reducir los perfiles graduales,
continuamente de la primera capa, el dopado
con GeO2 con el cual se forma el núcleo hasta
llegar al recubrimiento con una deposición de
SiO2 puro. Para un perfil escalonado, se
mantiene constante el dopado de cada capa.
Una vez obtenida la deposición de suficientes
capas para el núcleo y el recubrimiento de la
fibra; se retira la preforma cilíndrica de la varilla
de substrato.
En la etapa final la preforma se calienta
hasta su punto de fusión, con temperaturas
entre 1400 y 1600°C, la preforma se contraera
convirtiéndose en una varilla de vidrio firme y
libre de burbujas, transparente cuyo hueco
interior se ha cerrado. Durante el sintetizado de
la preforma se lava esta con cloro gaseoso para
quitar del vidrio todo vestigio de agua cuya
presencia provocaría una elevada atenuación.
Figura 4.- Los vapores químicos se oxidan en
una llama en un proceso llamado hidrolisis.
La deposición se hace por fuera de una vara
de sílice conforme la antorcha se mueve
lateralmente.
Cuando la deposición está completa, la varilla
es alejada y el tubo resultante se colapsa
térmicamente.
3.2. Método VAD ó Deposición
de Vapor axial (AVD)
La deposición de las partículas provenientes de
un quemador de gas oxhídrico tiene lugar sobre
una cara frontal de una varilla rotante de vidrio
de cuarzo.
La preforma porosa resultante se estira en
sentido ascendente de tal forma que se
mantiene constante la distancia entre el
quemador y la preforma que va creciendo en
sentido axial. Para fabricar el perfil de índices
de refracción del núcleo y del recubrimiento se
pueden utilizar varios quemadores
simultánemente.
Es posible producir diferentes perfiles de índices
de refracción, según la construcción de los
quemadores, su reparación y la temperatura
durante la deposición. La contracción de la
preforma se produce con la ayuda de un
calefactor anular, a continuación de la
deposición quedando la preforma transparente.
Para secar la preforma, es decir eliminar la
humedad residual, se hace circular cloro
gaseoso en torno a la misma.
Figura 5.- La deposición ocurre en el extremo
de un sílice en rotación conforme los vapores
químicos reaccionan para formar la sílica. El
nucleo preformado y pueden hacerse fibras muy
largas con esta técnica. Pueden fabricarse fibras
del índice escalón y fibras del índice gradual de
esta manera.
3.3 Deposición de Vapor
Químico modificado (MCVD)
Este método se realiza en dos etapas.
Primero : se hace rotar un tubo de vidrio puro
alrededor de su eje longitudinal en un torno u
otro dispositivo adecuado al tiempo que se
calienta una estrecha zona del mismo desde
afuera por medio de un quemador de gas
detonante que se desplaza a lo largo del tubo.
Figura 6.- . En el método MCVD,ocurren un
aserie de reacciones químicas que transforman
una mezcla de gases en una varilla solida de
vidrio llamdo Preforma.
A través del interior del tubo se hace pasar el
oxígeno y los compúestos de halogenuros
gaseosos (SiCl4, GeCl4, PCl3) requeridos para
el respectivo dopado. Por este motivo los
compuestos halógenos se descomponen en el
interior del tubo y no en la llama del quemador,
como ocurre en los métodos OVD y VAD.
Por esta causa se produce en la cara interior del
tubo la deposición de numerosas y delgadas
capas en un proceso llamado vitrificación, que
se pueden dopar según el perfil del índices de
refracción requerido. El propio tubo constituye la
sección externa del vidrio del recubrimiento y
las capas que se depositan en su interior
conforman la sección interna de la fibra es decir
el núcleo.
Cada capa de vidrio se forma con la siguiente
secuencia : a 16000°C y dentro de la zona de
calentamiento se forman partículas finas que se
depositan sobre la cara interior del tubo. Al ser
desplazado el quemador en la dirección del
flujo, las partículas se funden para formar una
delgada y transparente capa del vidrio.
Una vez completada la deposición de las capas
necesarias se pasa a la segunda etapa del
método MCVD que consiste en calentar el tubo
por secciones longitudinales hasta
aproximadamente 2000°C. De esta manera se
produce el colapso del tubo para formar la
varilla.
Ya que los gases que reaccionan en el interior
del tubo se mantienen libres de hidrogeno, este
método no requiere procesos especiales de
secado, ya que el gas utilizado para el
calentamiento que en general contiene una
proporción de hidrógeno, solo actúa sobre el
exterior del tubo, no teniendo influencia sobre el
proceso ningún otro factor ambiental.
Figura 7.- Mezclado dentro de un tubo de
vidrio
En la figura se observa que los químicos son
mezlados dentro de un tubo de vidrio que está
rodando en un torno. Ellos reaccionan y las
partículas sumamente finas de germanio o
vidrio de silicio o de fosforo son depositados en
la parte interna del tubo. Un quemador móvil
que sigue al tubo: Causa una reacción que toma
lugar y entonces enfoca el material depositado.
La preforma es depositado capa por capa que
empezando primero con la capa del cladding y
es seguido por la capa del nucleo.
Variando la mezcla de los químicos se
cambia el índice refractivo del vidrio.
Cuando la deposición está completa, el tubo se
colapsa ha 2000 C dentro de una preforma de
sílice de alta pureza con un nucleo de
composición diferente. La Preforma es entonces
colocado en un horno para el estirado.
3.4. Deposición de Vapor
Químico Modificado reforzado
con plasma (PMCVD)
En este método las preformas se produce
con el mismo procedimiento que en el caso del
método MCVD. La diferencia radica en la
técnica empleada para la reacción. Por medio
de la excitación de un gas con ayuda de
microondas, se obtiene un plasma. El gas que
se ioniza, es decir se descompone en sus
cargas eléctricas. Al reunificarse éstas, se libera
calor que se utiliza par fundir materiales de
elevado punto de fusión. Así en el proceso del
plasma, se disocian los halogenos con ayuda de
un plasma de baja presión y luego,con oxigeno,
se forman SiO2. Las partículas formadas en
4. REFERENCIAS
este proceso se precipitan directamente a
temperaturas del orden de los 1000 C,
formando una capa de vidrio. http://orbita.starmedia.com/fortiz/Tema04.h
tm

http://www.monografias.com/trabajos16/fib
ras-opticas/fibras-opticas.shtml

http://orbita.starmedia.com/fortiz/Tema
10.htm

http://multimedia.mmm.com/mws/mediawe
bserver.dyn?
ZZZZZZHFRjmZsB&ZlB&ZZzIc2JVy
yyyx-

http://www.uam.es/otros/masterfotonica/Do
cumentacion/SegundoSemestre/Comunicaci
onesOpticas/Tema1.pdf

Dado que a la llama de plasma se le imprime

un rápido movimiento de vaiven a lo largo del
tubo, se pueden producir más de 1000 capas
delgadas, lo cual permite incrementar la
exactitud del perfil de índices de refracción

Figura 8.- . La Deposición de Vapor Química

Modificada con reforzamiento de plasma
es similar en principio de MCVD. La
diferencia queda en el uso de un plasma en
lugar de una antorcha.
El plasma es una región de gases ionizados
eléctricamente calentados. Proporciona calor
suficiente para aumentar la reacción química
que está dentro del tubo y la velocidad de
deposición.
Esta técnica puede usarse para fabricar fibras
muy largas (50 km). Se usa para los dos tipos
de fibra de índice escalon e índice gradual.