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Conferencia Funcionamiento Basico de Los FET
Conferencia Funcionamiento Basico de Los FET
Objetivos:
Al finalizar esta conferencia el estudiante debe:
1. Comprender el funcionamiento básico de los transistores de efecto de campo
2. Analizar su gráfica transferencial de transistores FET y zonas de trabajo
3. Reconocer los parámetros importantes que definen la respuesta de los transistores FET
4. Polarizar transistores FET en conmutación y amplificación
Sumario
1. DIODO SEMICONDUCTOR O DE UNIÓN .................................................................................................... 3
1.1 Unión del diodo sin polarización aplicada (VD=0V) a temperatura ambiente ........................... 3
1.2 Unión del diodo con polarización en inversa (VD<0V) a temperatura ambiente ..................... 4
1.3 Unión del diodo con polarización en directa (VD>0V) a temperatura ambiente ...................... 5
1.4 Corriente de portadores mayoritarios en el diodo .......................................................................... 6
1.5 Gráfica transferencial de un diodo rectificador................................................................................ 7
1.6 Efectos de la temperatura ...................................................................................................................... 9
2. DEFINICIÓN DE TRANSISTORES FET. .....................................................................................................12
2.1 Influencia de la sección transversal en la intensidad de corriente eléctrica .........................13
3. OPERACIÓN DEL TRANSISTOR FET ........................................................................................................14
3.1 Funcionamiento de un transistor FET ..............................................................................................14
3.2 Región de saturación, lineal o de amplificación de corriente constante: ...............................18
3.3 Región óhmica o de Resistor controlado por tensión..................................................................19
3.4 Región de corte .......................................................................................................................................19
3.5 Región de ruptura ...................................................................................................................................20
3.6 Dispositivos de canal p .........................................................................................................................20
3.7 Ecuación de Sockley para la zona de saturación de los transistores FET .............................21
3.8 Gráficas transferenciales de los Transistores de Efecto de Campo ........................................22
4. OPERACIÓN DEL TRANSISTOR MOSFET DECREMENTALES ..........................................................23
4.1 Generalidades del transistor MOSFET decrementales ................................................................23
4.2 Gráfica transferencial del transistor MOSFET de empobrecimiento Canal n ........................25
4.3 Gráfica transferencial del transistor MOSFET decremental Canal p ........................................26
4.4 Región de saturación, lineal o de amplificación de corriente constante en FET
decremental..........................................................................................................................................................27
4.5 Regiones de trabajo del transistor MOSFET decremental en las gráficas transferenciales
28
5. OPERACIÓN DEL TRANSISTOR MOSFET INCREMENTAL .................................................................30
5.1 Creación del canal en los MOSFET de enriquecimiento ..............................................................31
5.2 Gráfica transferencial del transistor MOSFET de empobrecimiento Canal n ........................32
5.3 Relaciones importantes entre los transistores MOSFET de canal empotrado y canal
inducido ................................................................................................................................................................34
6. MODELOS PARA LOS TRANSISTORES FET ..........................................................................................35
1
6.1 Modelo de corriente directa CD para un FET ..................................................................................36
6.2 Modelos de corriente alterna CA de señal pequeña de un FET .................................................37
7. MODELOS Y GRÁFICAS TRANSFERENCIALES EN EL LABORATORIO VIRTUAL
TRANSISTORES FET DECREMENTALES ........................................................................................................38
7.1 Modelos y gráficas transferenciales en el Laboratorio Virtual para transistor decremental
canal n ...................................................................................................................................................................38
7.2 Modelos y gráficas transferenciales en el Laboratorio Virtual para transistor incremental
canal N ...................................................................................................................................................................43
7.3 Modelos y gráficas transferenciales en el Laboratorio Virtual para transistor incremental
canal P ...................................................................................................................................................................47
8. TRANSISTORES FET EN CONMUTACIÓN ...............................................................................................51
8.1 Transistores canal N en conmutación: .............................................................................................51
8.2 Transistores canal P en conmutación: .............................................................................................54
Bibliografía:
1. (Rashid 2000) Rashid, Muhammad – Circuitos microelectrónicos. Análisis y diseño. 2da Ed.
2000. University of West Florida. Cap 2.5 pág 32. Cap 5.3 pág. 214-226
2. (Rashid 2011) Rashid, Muhmmamd H - Microelectronic Circuits. Analysis and Design. 2th Ed.
2011. University of West Florida. Chapter 6, Chapter 7 page 335
4. (Boylestad Cto) Boylestad, Robert L. Introducción al análisis de circuitos. 10ma edición. 2004
Estos transistores FET funcionan pasando más o menos corriente ampliando o disminuyendo
la sección transversal del canal por el cual circulará la corriente eléctrica. Como son
componentes semiconductores, esta amplitud o disminución se logra disminuyendo o
ampliando las barreras de potencial que se establecen en las uniones pn.
2
1. DIODO SEMICONDUCTOR O DE UNIÓN
(1.6 Boylestad – Electrónica pág 10)
El diodo semiconductor se crea uniendo un material tipo n a un material tipo p, nada más que
eso; sólo la unión de un material con un portador mayoritario de electrones a uno con un portador
mayoritario de huecos. La simplicidad básica de su construcción refuerza la importancia del
desarrollo de esta área de estado sólido.
Ánodo p
Cátodo n
Un material tipo n se crea introduciendo El material tipo p se forma dopando con
impureza que contienen cinco electrones de átomos de impureza que tienen tres
valencia (pentavelantes), como: electrones de valencia:
el antimonio, boro,
el arsénico y galio e
el fósforo. indio.
1.1 Unión del diodo sin polarización aplicada (VD=0V) a temperatura ambiente
(Rashid 2000 2.5 pág 32)
(Rashid 2011 6.3 pág 307)
(Boylestad Elec 1.6 pág 10)
A temperatura ambiente, los electrones son los portadores mayoritarios en la región n se difunden
del lado tipo n al lado tipo p. Los huecos, que son los portadores mayoritarios en la región p, se
difunden del lado tipo p al lado tipo n. Los electrones y los huecos se recombinan cerca de la
unión y, por consiguiente, se anulan entre sí.
Los huecos en la región de la unión se combinan y provocan una carencia de portadores libres
en la región próxima a la unión. Las únicas partículas mostradas en esta región son los iones
positivos y negativos que quedan una vez que los portadores libres han sido absorbidos.
En cada lado de la unión habrá cargas opuestas, lo que crea una región de agotamiento,
3
región de carga espacial, de empobrecimiento o barrera como se muestra en la figura
1.12.
A causa de la barrera de potencial Vj los electrones, que son los portadores minoritarios en el
lado p, cruzan la unión hacia el lado n. Los huecos, los portadores minoritarios en el lado n,
cruzan la unión hacia el lado p. De esta manera, fluye una corriente provocada por los portadores
minoritarios (huecos) del lado n hacia el lado p, que se conoce como corriente de deriva IDR.
Asimismo, una corriente conocida como corriente de difusión IDF fluye del lado p hacia el lado
n, provocada por los electrones mayoritarios. En condiciones de equilibrio, la corriente resultante
es cero IDF = -IDR
1.2 Unión del diodo con polarización en inversa (VD<0V) a temperatura ambiente
Si se aplica un potencial externo de V volts a través de la unión p-n con la terminal positiva al
material tipo n y la negativa conectada al material tipo p como se muestra en la figura 1.13:
Los electrones de la zona n son atraídos por el potencial positivo de la tensión aplicada y quedan
libres o revelados, cargas positivas de la barrera, haciendo que esta aumente su tamaño.
De manera equivalente, los huecos de la zona p son atraídos por el potencial negativo de la
tensión aplicada, dejando expuestos más electrones que hacen la barrera más grande hacia este
lado.
En total, cuando se aplica el potencial inverso a la unión PN, Ánodo Cátodo, la barrera se
ensancha disminuyendo cualquier posibilidad de circulación de corriente a través de ella. El efecto
es una mayor apertura de la región de empobrecimiento, la cual crea una barrera demasiado
4
grande para que los portadores mayoritarios la puedan superar, por lo que el flujo de portadores
mayoritarios se reduce efectivamente a cero, como se muestra en la figura 1.13a.
La corriente en condiciones de polarización en inversa se llama corriente de saturación en
inversa y está representada por Is.
FIGURA 1.13 Unión P-N polarizada en inversa: a) distribución interna de la carga en condiciones
de polarización en inversa; b) polaridad de polarización en inversa y dirección de la corriente de
saturación inversa.
La corriente de saturación en inversa rara vez es de más de algunos microamperes (µA), excepto
en el caso de dispositivos de alta potencia. De hecho, en los últimos años su nivel, por lo general,
se encuentra en el intervalo de los nanoampere (nA) en dispositivos de silicio.
El término saturación se deriva del hecho de que alcanza su nivel máximo con rapidez y que no
cambia de manera significativa con los incrementos en el potencial de polarización en inversa.
El lado negativo de la tensión aplicada está conectada al material tipo p y el lado positivo al
material tipo n, y la diferencia indicada con las letras subrayadas por cada región revela una
condición de polarización en inversa.
1.3 Unión del diodo con polarización en directa (VD>0V) a temperatura ambiente
5
La condición de polarización en directa o “encendido” se establece aplicando el potencial positivo
al material tipo p y el potencial negativo al tipo n como se muestra en la figura 1.14.
FIGURA 1.14 Unión P-N polarizada en directa: a) distribución interna de la carga en condiciones
de polarización en directa; b) polarización directa y dirección de la corriente resultante.
(Boylestad Elec pág 12)
El flujo de portadores minoritarios de electrones resultante del material tipo p al material tipo n (y
de huecos del material tipo n al tipo p) no cambia de magnitud (puesto que el nivel de conducción
es controlado principalmente por el número limitado de impurezas en el material), aunque la
reducción del ancho de la región de empobrecimiento produjo un intenso flujo de portadores
mayoritarios a través de la unión. Un electrón del material tipo p ahora “ve” una barrera reducida
en la unión debido a la región de empobrecimiento reducida y a una fuerte atracción del potencial
positivo aplicado al material tipo p.
Se puede demostrar por medio de la física de estado sólido que las características generales de
un diodo semiconductor se pueden definir mediante la siguiente ecuación, conocida como
ecuación de Shockley, para las regiones de polarización en directa y en inversa:
Donde:
6
Is es la corriente de saturación en inversa
VD es la tensión de polarización en directa aplicada a entre los terminales del diodo
n es un factor de idealidad o coeficiente de emisión (es una constante empírica), el cual es una
función de las condiciones de operación y construcción física; varía entre 1 y 2 según una amplia
diversidad de factores.
El coeficiente de emisión n depende del material y de la construcción física del diodo.
Para diodos de germanio se considera que n es igual a 1.
Para diodos de silicio, el valor pronosticado de n es 2, con corrientes muy pequeñas o grandes,
aunque para la mayor parte de los diodos reales de silicio el valor de n está dentro del intervalo
de 1.1 a 1.8.
Donde
k es la constante de Boltzmann 1.38*10-23 J/K
T es la temperatura absoluta en Kelvin 273+la temperatura en °C.
q es la magnitud de la carga del electrón 1.6*10-19 C.
7
Figura 1.15 Característica del
diodo semiconductor de silicio.
(Boylestad Elec 14)
iD (mA)
8
Región de polarización directa
El diodo conduce completamente cuando VD es mayor que VTD. Por tanto, el umbral de tensión
es la tensión con la cual un diodo con polarización directa comienza a conducir.
Si |vD| >> V T , lo cual ocurre para vD < -0.1 V, el término exponencial de la ecuación (2.1) se vuelve
insignificantemente pequeño comparado con la unidad, y la corriente en el diodo ID llega a ser
aproximadamente Is. Lo cual indica que la corriente en el diodo ID permanece constante en la
dirección inversa, y su magnitud es igual a la de Is.
Región de ruptura
En esta región la tensión inversa es alta, por lo general mayor que 100 V.
Si la magnitud dela tensión inversa excede una tensión específica conocida como tensión de
ruptura VBR, la corriente inversa correspondiente IBV se incrementa rápidamente, con un pequeño
cambio de la tensión inversa más allá de VBR.
9
FIGURA 1.19 Variación del diodo de Si con el cambio de la temperatura.
(Boylestad Elec pág 18)
Por tanto, si se suman los incrementos por cada grado de aumento de la temperatura de unión
hasta 10 °C, se obtiene
10
Is(Tj=10) = Is [l + 0.072 + (0.072 + 0.0722) + (0.0722 + 0.0723) + (0.0723 + 0.0724) + (0.0724 +
0.0725) + (0.0725 + 0.0726)+ (0.0726 + 0.0727) + (0.0727 + 0.0728) + (0.0728 + 0.0729) + (0.0729 +
0.07210)]~ 2Is
Podría pensarse que 10 grados son mucho y que 5 grados no lo son. Pero todo depende de las
características del diodo, su tamaño, construcción, potencia, calidad y otras sobre las que el
ingeniero no tiene influencia directa. Estos cambios bien que pueden ocurrir en un local cerrado,
climatizado y que los equipos de refrigeración dejaron de funcionar por roturas, apagado, averías
dentro del mismo equipo o tarjeta electrónica, etc.
11
2. DEFINICIÓN DE TRANSISTORES FET.
Por tanto, el flujo de corriente en los FET depende sólo de un tipo de portador: el portador
mayoritario (electrones o huecos), de ahí su nombre de transistor unipolar, controlado por
tensión.
Existen varios tipos de transistores FET, se estudiarán dos de los más importantes
-Transistores de efecto de campo de metal-óxido incrementales (MOSFET incremental),
-Transistores de efecto de campo de metal-óxido decrementales (MOSFET decremental)
Desde finales de los años setenta, los MOSFET han llegado a ser muy populares; se utilizan cada
vez más en circuitos integrados (CI). Su fabricación es relativamente simple, comparada con la
de los transistores bipolares y ocupa un área de silicio pequeña en la pastilla del circuito integrado.
En la actualidad, los MOSFET se utilizan en circuitos con una escala de integración muy grande
(VLSI, por sus siglas en inglés), como los microprocesadores y los circuitos integrados de
memoria.
FET
Id D Drenador (Drain)
Tensión
G Compuerta (Gate)
de D
control G
Vgs S S Fuente (Source)
Las analogías rara vez son perfectas y en ocasiones pueden ser engañosas, pero la del agua de
la figura 6.4 da una idea del control de JFET en la compuerta y de lo apropiado de la terminología
aplicada a las terminales del dispositivo.
12
La intensidad de la corriente de agua (intensidad de la corriente eléctrica a través del transistor)
depende de la apertura o cierre del ancho efectivo de la tubería (cambios en el ancho del canal
por donde circula la corriente eléctrica).
El ancho efectivo de la tubería se cambia con la llave, en el transistor con una tensión de control.
Vgs
- - -
- - - -
(Boylestad Elec 6.2 pag 370)
Analogía con el paso de agua (cargas eléctricas) a través de un espacio que se cierra o abre,
permitiendo mayor o menor caudal (corriente).
La resistencia eléctrica de cualquier material, con un área de sección transversal uniforme, queda
determinada mediante los siguientes factores:
1 material
2 longitud
3 área transversal
4 temperatura
De la siguiente manera
R=ρ*L/A
I= V / R
I = V * A / ρL A
I = A * (V / ρL) I
Como vemos, a mayor sección
transversal A mayor corriente I. Es lo mismo decir, a menor sección transversal menor corriente.
13
3. OPERACIÓN DEL TRANSISTOR FET
(Rashid 2000 5.3 pág 221, Boylestad 6.2 pág 370)
(Boylestad Elec 6.2 pág 370)
Ya se había hablado del funcionamiento de los transistores FET basado en ensanchar o estrechar
un canal de conducción de corriente eléctrica a estrechando o aumentando la zona de
agotamiento que se establece. Esto se logra con menor o mayor tensión inversa en la zona.
Se polariza en inversa la unión Compuerta Fuente G-S mediante la tensión VGS, que es la
encargada de modular el ancho del canal.
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FET canal n FET canal p
D
ID S ID
G -
p + n
- G
+ n p
S
D
15
Caso en que VGS=0 V, VDS algún valor positivo
(Boylestad Elec 6.2 pag 370)
Conforme a la tensión VDS aumente de 0 V a algunos volts, la corriente también lo hará de acuerdo
con la ley de Ohm y en la figura 6.7 se mostrará la gráfica de ID contra VDS.
La pendiente constante relativa de la gráfica revela que en la región de valores bajos de V DS, la
resistencia en esencia es constante.
A medida que VDS se incrementa y se aproxima a un nivel conocido como Vp en la figura 6.7, las
regiones de empobrecimiento de la figura 6.5 se ensanchan, lo que reduce notablemente el ancho
del canal. La ruta reducida de conducción hace que la resistencia se incremente y la corriente ID
no pueda seguir aumentando y ocurra la curva en la gráfica de la figura 6.7.
Cuanto más horizontal sea la curva, más alta será la resistencia, lo que indica que la resistencia
se está acercando a un valor “infinito” de ohms en la región horizontal.
Si VDS se incrementa a un nivel donde pareciera que las dos regiones de empobrecimiento “se
tocarán”; se originará una condición conocida como estrangulamiento.
16
Figura 6.7 Gráfica de ID corriente de drenador vs
VDS, para una tensión VGS=0 V
(Boylestad Elec 371)
A medida que el valor de VGS se hace más inverso, las regiones pn se polarizan más en
inversa, las regiones de empobrecimiento crecen y se estrecha el canal. Disminuye la
capacidad de circulación de corriente y se logran niveles más bajos de I D.
Para el dispositivo de canal n la tensión de control VGS se vuelve más y más negativa a partir de
su nivel VGS=0 V. En otras palabras, la compuerta se establecerá a niveles de potencial cada vez
más bajos al compararla con la fuente.
El efecto del VGS de polarización negativa es establecer regiones de empobrecimiento similares
a las obtenidas con VGS=0 V, pero a niveles más bajos de VDS.
A medida que VGS toma valores más negativos (VGS= -1 V, -2 V, -3 V…) la corriente máxima o de
saturación que puede circular por el canal, es menor.
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Figura 6.11 (Boylestad Elec 373)
El nivel de VGS que produce ID=0 mA está definido por VGS=Vp, con Vp convirtiéndose en
una tensión negativa para dispositivos de canal n y en tensión positiva para JFET de canal
p.
La región a la derecha del lugar geométrico del estrangulamiento de la figura 6.11 es la región
empleada por lo general en amplificadores lineales (amplificadores con distorsión mínima de la
señal aplicada) y comúnmente se conoce como región de amplificación de corriente constante,
de saturación o lineal.
La región a la izquierda del lugar geométrico del estrangulamiento en la figura 6.11 se conoce
como región óhmica o de resistencia controlada por tensión.
En esta región el FET en realidad se puede emplear como un resistor variable (posiblemente para
un sistema de control de ganancia automático) cuya resistencia la controla la tensión aplicada de
la compuerta a la fuente.
Observe en la figura 6.11 que la pendiente de cada curva, y por consiguiente la resistencia del
dispositivo entre el drenaje y la fuente con VDS=Vp, son una función de la tensión aplicada VGS. A
medida que VGS se vuelve más y más negativo, la pendiente de cada curva se hace cada más
horizontal, lo que corresponde a una resistencia cada vez más grande.
19
3.5 Región de ruptura
El incremento de VDS más allá de la tensión de ruptura, provoca una ruptura en avalancha, y la
corriente de drenaje aumenta con rapidez. La tensión de ruptura a una tensión de compuerta
igual a cero se denota por VBD.
Debe evitarse este modo de operación porque la disipación excesiva de potencia puede destruir
al transistor. Como la tensión inversa es más alta en la terminal del drenaje, la ruptura ocurre en
dicha terminal. La tensión de ruptura, especificada por el fabricante, por lo general es del orden
de 20 a 100 V.
(Rashid 2000 5.3 pag 222)
Observe que a niveles altos de VDS la curva se eleva de repente a niveles que parecen ilimitados.
La elevación vertical indica que ocurrió una ruptura y que la corriente a través del canal (en la
misma dirección en que por lo común se encuentra) ahora está limitada únicamente por el circuito
externo.
Esta región se puede evitar si el nivel de VDSmáx se toma de la hoja de especificaciones y el diseño
es tal que el nivel real de VDS sea menor que este valor para todos los valores de VGS.
iD Región de iD
VDS=VGS-Vp
Región Región de ruptura
-6V
Región de corte VDS (para canal n)
VBD VSD (para canal p) -7 -4 -2 0 2 4 6 VGS
ID = K (VGS – Vp)2
K es una constante que relaciona la corriente de saturación ISS con el cuadrado de la tensión de
cierre del canal
K = IDSS / Vp2 se expresa en A / V2
Aquí es muy importante, tener correctamente en cuenta, el signo de la tensión VGS cuando el
transistor es canal n o canal p.
Además, la constante K dependen del tipo específico de transistor FET.
Esta ecuación cambia los subíndices cuando cambia el tipo de transistor FET, pero debe
notarse que es la misma ecuación para todos:
ID = K (VGS – Vp)2
ID D ID D
n p
G p p G n n
VDS VDS
VGS VGS
S S
IS IS
21
3.8 Gráficas transferenciales de los Transistores de Efecto de Campo
ID Región de
ID CANAL N
7 VDS=VGS-Vp ruptura
7
VGS=0V
6 IDSS 6
Región
5 5 óhmica
Región Región de
de saturación VGS=-1V
4 4
corte
3 3 Región de saturación VGS=-2V
2 2
VGS=-4V
1 1
Vp=-7 V VGS=-6V
0 0
Región de corte VGS=Vp=-7V
VGS -7 -6 -4 -2 0 0 5 10 15 20 25 30 VBD 60
Gráfica de la corriente ID contra la tensión en Gráfica de la corriente ID contra la tensión Drenador Fuente
la unión PN (diodo) Compuerta Fuentes VGS VDS, para determinados valores de VGS
Figura 6.11 (Boylestad Cto, 373) Figura 6.11 (Boylestad Cto, 373)
Figura 6.17 (Boylestad Cto, 377) Figura 5.42 (Rashid 2000, 222)
Figura 5.42 (Rashid 2000, 222)
Región de
ID CANAL P ID VDS=VGS-Vp
ruptura
VGS=0V
6 IDSS 6
Región Región
5 5 óhmica
Región de de
saturación corte VGS=+1V
4 4
2 2
VGS=+3V
1 1
Vp=+6 V VGS=+5V
0 0
VGS Región de corte VGS=Vp=+6V
0 2 4 6 0 -5 -10 - 15 -20 -25 -30 -60
VBD
Figura 5.42 (Rashid 2000, 222) Figura 6.13 (Boylestad Cto, 375)
Figura 5.42 (Rashid 2000, 222)
22
4. OPERACIÓN DEL TRANSISTOR MOSFET DECREMENTALES
(Boylestad Elec. 6.3 pág. 386)
(Rashid 2000 5.3 pág 218)
(Rashid 2011 7.4 pág 345)
23
FET canal n FET canal p
Figura 6.27 MOSFET decremental de canal n Figura 6.32 MOSFET decremental de canal p
(Boylestad 386) (Boylestad 390)
Figura 6.33 a (Boylestad Elec 390) Figura 6.33 b (Boylestad Elec 390)
24
4.2 Gráfica transferencial del transistor MOSFET de empobrecimiento Canal n
D
ID
G
VDS VDD
VGS IG
S ISR
En la medida que el valor VGS se haga más negativo, el valor máximo posible de corriente
ID en el canal disminuye.
S ISR
VGS IG VDD
VDS
G ID
D
26
Característica transferencial de la corriente ID de un MOSFET decremental canal p
Figura 6.32 (Boylestad Elec 390)
Figura 5.38 (Rashid 2000 220)
Figura 7.15 (Rashid 2011 348)
VDS ≥ VGS-Vp
y
Vp ≤ VGS ≤ 0
ID = Kp (VGS – Vp)2
27
¿Cuál debe ser el valor de la tensión drenador-fuente VDS para lograr una corriente IDSS
determinada?
Para calcular la tensión VGS para una corriente de drenador ID deseada, debe despejarse
de la ecuación de Shockley, para transistores MOSFET decrementales:
Para canal n
VGS = Vp + (ID / Kp)1/2 Kp = IDSS / Vp2
Para canal p
VGS = Vp - (ID / Kp)1/2 Kp = IDSS / Vp2
Nuevamente las gráficas transferenciales de los transistores MOSFET decrementales, pero con
todas las regiones y modos representados.
MOSFET Decremental CANAL N
Región de
ID ID ruptura
Modo Modo VDS=VGS-Vp
7 VGS=+1V
decremental incremental
Modo
6 6
Región Región de IDSS incremental
VGS=0V
de saturación 5 5 Región
corte óhmica Modo VGS=-1V
4 4 decremental
VGS=-2V
3 3
Región de saturación VGS=-3V
2 2
VGS=-4V
1 1
Vp=-7 V VGS=-6V
0 0
Región de corte VGS=Vp=-7V
VGS -7 -6 -4 -2 0 1 0 5 10 15 20 25 30 VBD 60
Gráfica de la corriente ID contra la tensión en Gráfica de la corriente ID contra la tensión Drenador Fuente
la unión PN (diodo) Compuerta Fuentes VGS VDS, para determinados valores de VGS
Figura 6.29 (Boylestad Cto, 387) Figura 6.29 (Boylestad Cto, 387)
Figura 6.31 (Boylestad Cto, 389) Figura 5.38 (Rashid 2000, 220)
Figura 5.38 (Rashid 2000, 220) Figura 7.15 (Rashid 2011 348)
Figura 7.15 (Rashid 2011 348)
28
Modo MOSFET Decremental CANAL P
Modo
ID decremental Región de
incremental ID ruptura
VDS=VGS-Vp
7 VGS=-1V
Modo
6 6
Región de IDSS incremental
VGS=0V
5 saturación 5 Región Modo
Región óhmica decremental VGS=+1V
4 de 4
corte VGS=+2V
3 3
Región de saturación VGS=+3V
2 2
VGS=+4V
1 1
VGS=+6V
0 Vp=+7 V 0
Región de corte VGS=Vp=+7V
VGS -1 0 2 4 6 7 0 -5 -10 - 15 -20 -25 -30 VBD -60
Figura 6.32 (Boylestad Cto, 390) Figura 6.32 (Boylestad Cto, 390)
Figura 5.38 (Rashid 2000, 220) Figura 5.38 (Rashid 2000, 220)
29
5. OPERACIÓN DEL TRANSISTOR MOSFET INCREMENTAL
Transistores de efecto de campo de metal-óxido incrementales, MOSFET incremental, también
llamados de enriquecimiento, acumulación, de ensanchamiento, canal inducido, enhancement
type.
Por eso no existe la tensión Vp de cierre del canal. Por el contrario, aparece una tensión
Vt, umbral, para la formación del canal.
El canal se considera formado después que se sobrepasa este canal. La tensiónVt es
equivalente a la tensión umbral en el diodo.
Figura 6.35 (Boylestad Elec 392) Figura 6.41 a (Boylestad Elec 397)
Figura 6.42 a (Boylestad Elec 397) Figura 6.42 b (Boylestad Elec 397)
30
5.1 Creación del canal en los MOSFET de enriquecimiento
Se hace necesario establecer las siguientes condiciones, para que exista una corriente ID de
drenador
|VGS| > |Vt| iene que existir una tensión entre compuerta y fuente que logre vencer el umbral
necesario para la formación del canal.
Figura 6.35 (Boylestad Elec 392) Figura 6.36 (Boylestad Elec 393)
31
Al polarizar la compuerta de manera positiva, los portadores mayoritarios, huecos, del sustrato p,
son repelidos. Dejando una zona con predominio de electrones que establecen un canal de
circulación de corriente, entre las zonas, también n, de la fuente y el drenador.
De maner equivalente ocurre en los transistores FET enriquecimiento de canal p. En este caso,
la comuerta se polariza negativamente para que repele a los electrones del sustrato n, dejando
una zona o canal de huecos que une a las zonas p de la fuente y el drenador.
𝑽𝑻 : Valor umbral para saturación. 𝑽𝑻𝒏 > 𝟎 Satura 𝑽𝑻𝒑 < 𝟎 Satura
Para el MOSFET de enriquecimiento, para niveles de 𝑽𝑮𝑺 > 𝑽𝑻 , 𝑰𝑫 se relaciona por: (En zona de
saturación y óhmica)
ID = KT(VGS – VT)2
[Boylestad 395, ecuación6.15]
32
Tomando un punto de la gráfica que no sea zona de corte ni ruptura.
𝐼 (𝑒𝑛𝑐𝑒𝑛𝑑𝑖𝑑𝑜)
𝐾𝑇 = (𝑉 𝐷 [Boylestad 395, ecuación6.16]
−𝑉 )2
𝐺𝑆(𝑒𝑛𝑐𝑒𝑛𝑑𝑖𝑑𝑜) 𝑇
Gráfica de la corriente ID contra la tensión en Gráfica de la corriente ID contra la tensión Drenador Fuente
la unión PN (diodo) Compuerta Fuentes VGS VDS, para determinados valores de VGS
Figura 6.39 (Boylestad Cto, 395) Figura 6.39 (Boylestad Cto, 395)
Figura 5.34 (Rashid 2000, 217) Figura 5.34 (Rashid 2000, 217)
33
MOSFET Incremental CANAL P
ID Región de
R ID ruptura
VDSsat=VGS-Vt
e 7 VGS=-6V
g
i 6 6
ó
n 5 5 Región VGS=-5V
óhmica
Región de d 4 4
saturación Región de saturación VGS=-4V
e
3 3
c VGS=-3.5V
o 2 2
r VGS=-3V
t 1 1
e 0 VGS=-1.5V
VGS 0
Región de corte VGS=Vt=-1V
-6 -5 -4 -3 -2 -1 0 0 -5 -10 - 15 -20 -25 -30 VBD -60
Vt=-1 V
Figura 6.41 (Boylestad Cto, 397) Figura 6.41 (Boylestad Cto, 397)
Figura 5.34 (Rashid 2000, 217) Figura 5.34 (Rashid 2000, 217)
Para calcular la tensión VGS para una corriente de drenador deseada, debe emplearse la
siguiente ecuación:
5.3 Relaciones importantes entre los transistores MOSFET de canal empotrado y canal
inducido
Se pueden establecer relaciones comunes para ambos tipos de transistores, teniendo en cuenta
el funcionamiento específico de cada uno.
La tensión VGS puede ser directa, provocando Es muy fácil de llevar de zona de corte a
en el transistor corrientes de saturación saturación, para el trabajo en sistemas
superiores a IDSS digitales.
Si |VGS| > |VT| se satura
Si |VGS| < |VT| se corta
34
Para los cálculos de polarización podemos establecer las siguientes relaciones:
MOSFET MOSFET
decremental, empobrecimiento, de Incremental, enriquecimiento, acumulación,
agotamiento, canal empotrado, depletion canal inducido, ensanchamiento,
type. enhancement type.
𝐼𝐷 (𝑒𝑛𝑐𝑒𝑛𝑑𝑖𝑑𝑜)
IDSS 𝐾𝑇 =
Kp= 2 (𝑉𝐺𝑆(𝑒𝑛𝑐𝑒𝑛𝑑𝑖𝑑𝑜) − 𝑉𝑇 )2
Vp
ID = I S ID = I S
IG ≈ 0 A IG ≈ 0 A
Puede verse que las fórmulas son iguales, los subíndices difieren para mostrar las características
del parámetro en el funcionamiento del transistor.
Como los JFET y los MOSFET son dispositivos controlados por tensión y exhiben características
similares, se puede aplicar el mismo modelo con una precisión razonable.
En un MOSFET el canal de compuerta tiene una capa de óxido y se forman 2 uniones de diodo:
una entre drenaje y sustrato y otra entre la fuente y el sustrato.
𝐼𝐷 es función de 𝑉𝐷𝑆 y 𝑉𝐺𝑆
Parámetros:
µg Es ganancia de tensión a circuito abierto µg = gm * ro
gm Ganancia en transconductancia
ro Resistencia de salida de señal pequeña.
Forward Transfer Admittance gm = gfs = Yfs = Y21 = ∆ID/∆VGS para VDS constante
Para JFET y MOSFET decrementales gm = 2Kp (VGS - Vp)
Para MOSFET incrementales gm = 2Kp (VGS - Vt)
ro = 1/Yos = 1/Y22
Yos Output Admittance
Para JFET y MOSFET decrementales ro tiene valores finitos
Para MOSFET incrementales ro tiene valores muy altos, puede considerarse infinito o mucho
mayor que 10MΩ.
37
7. MODELOS Y GRÁFICAS TRANSFERENCIALES EN EL LABORATORIO VIRTUAL
TRANSISTORES FET DECREMENTALES
Aunque son modelos para ejecutarse sobre una computadora, pueden acercarse a un
componente real en la medida que el diseñador se acerque a su funcionamiento. Por eso, para
la simulación de los circuitos en el Laboratorio Virtual, haremos un acercamiento a la “realidad” y
primero deben obtenerse las gráficas transferenciales del modelo a emplearse.
En el Laboratorio Virtual, no aparecen transistores FET con el tipo “depletion”, empotrados. Pero
aparecen transistores con igual funcionamiento, al presentar canal, con el nombre de JFET.
Estos JFET ya no se explican de manera aislada en la literatura actual, pues su funcionamiento
es de canal empotrado y la fabricación va hacia los transistores MOSFET. Solo emplearemos sus
modelos para el aprendizaje y este acercamiento a la práctica.
Vamos a obtener las gráficas de un supuesto transistor MOSFET de canal empotrado. ¿Cómo
hacerlo?
38
Primero: Hay que tener en cuenta las características descritas en el Proteus sobre el componente
encontrado. Y saber si es deseado para su simulación.
Por ejemplo:
Se desea emplear un transistor MOSFET de canal empotrado N, con:
VDSmax= 20 V
IDmax= 110 mA
Pmax= 300 mW
Se encuentra en el Proteus
2N3819
(No muestra características eléctricas)
39
Y se editan las características de sus ejes.
Eje horizontal, tomará los valores de VGS: -2 V < VGS < 1 V. (Solo se edita Source 1)
Notará que en este caso no hace falta bajar por debajo del Vpmax de la hoja de datos (-8 V), con
llegar a -2V la corriente es suficientemente pequeña para considerarla 0 A. pero Ud puede
experimentar con otros valores.
Y se ejecuta el proceso de graficado.
(Para mejor visualización se ajustaron los valores del eje horizontal)
40
VDS toma valores desde 0 V hasta valores mayores que el de polarización, se llevó hasta 15 V
VGS sobrepasa el valor más negativo de Vp (-1 V en la gráfica anterior)
Se logran curvas equivalentes como las que aparecen en la literatura. Sobre ellas podrá calcular
los parámetros específicos de los modelos que va a emplear.
Cálculo de los parámetros del modelo de transistor MOSFET para las simulaciones
mediante las gráficas transferenciales.
Cálculo de gm
41
Forward Transfer Admittance gm = gfs = Yfs = Y21 = ∆ID/∆VGS para VDS constante
Cálculo de gm:
gm = ∆ID/∆VGS para VDS constante
Cálculo de ro
ro = 1/Yos = 1/Y22
Yos Output Admittance
Para MOSFET decrementales ro tiene valores
ro ≈ ID/ |VM| VM es la tensión demodulación del canal, típica VM=200V
42
Los ejes fueron modificados para mejor visualización.
µg = gm * ro = 0.014 Ʊ * 801 kΩ
µg = 11.214 será la ganancia máxima, sin carga conectada, que tendrá ese transistor en el punto
de operación escogido.
Por ejemplo:
Small signal, 200 mA, 60 V
Con el modelo Spice 2N7000
43
Segundo: Tener en cuenta los parámetros, las gráficas y sus conceptos.
Estos transistores de enriquecimiento no tienen corriente de saturación I DSS.
Recordemos:
ro Resistencia de salida de señal pequeña tiende a infinito en los FET de enriquecimiento
Eje horizontal, tomará los valores de VGS: 0 V < VGS < 5 V. (Solo se edita Source 1)
Como es un transistor de MOSFET enriquecimiento canal N, Vt (VGSth umbral) es positivo.
Y se ejecuta el proceso de graficado.
44
Podemos tomar Vth = 2.34 V. Señalizado con un punto amarillo. A la izquierda del punto se
considera que no hay corriente Id y el transistor está cortado. A la derecha si hay corriente Id y el
transistor está saturado.
45
Y se tiene una gráfica transferencial para trabajar con el transistor.
Cálculo de los parámetros del modelo de transistor MOSFET para las simulaciones
mediante las gráficas transferenciales.
Cálculo de gm
Forward Transfer Admittance gm = gfs = Yfs = Y21 = ∆ID/∆VGS para VDS constante
Cálculo de gm:
gm = ∆ID/∆VGS para VDS constante
gm = (228.0mA – 66.1mA) / (4.70V – (3.50V) = 161.9mA / 1.2V = 134.92 mƱ
46
Cálculo de ro
Para MOSFET incrementales ro tiene valores muy altos, puede considerarse infinito o mucho
mayor que 10MΩ.
Por ejemplo:
-55V, -74ª, 200W
Con el modelo Spice irf4905
47
Una buena selección del valor de VDS es el que será empleado en la polarización del circuito que
desea obtener. De no fijarlo, la gráfica que obtendrá no le servirá.
En este caso, 10 V.
Agregar una punta de prueba de CORRIENTE, que es lo que desea graficar. En este caso para
la corriente de drenador Id.
Eje horizontal, tomará los valores de VGS: -2 V < VGS < -5 V. (Solo se edita Source 1)
Como es un transistor de MOSFET enriquecimiento canal P, Vt (VGSth umbral) es negativo, debido
a:
Vgs = Vg – Vs y Vs está conectado a la fuente de alimentación, es de valor mayor.
Y se ejecuta el proceso de graficado.
Podemos tomar Vth = -3.60 V. Señalizado con un punto amarillo. A la derecha del punto se
considera que no hay corriente Id y el transistor está cortado. A la izquierda si hay corriente Id y
el transistor está saturado.
Cálculo de los parámetros del modelo de transistor MOSFET para las simulaciones
mediante las gráficas transferenciales.
Cálculo de gm
Forward Transfer Admittance gm = gfs = Yfs = Y21 = ∆ID/∆VGS para VDS constante
Cálculo de gm:
gm = ∆ID/∆VGS para VDS constante
gm = (-19 A) – (-2.37 A) / ((-5.0 V) – (-4.0 V)) = -16.63A / (-1 V) = 16.63 Ʊ
Cálculo de ro
Para MOSFET incrementales ro tiene valores muy altos, puede considerarse infinito o mucho
mayor que 10MΩ.
50
8. TRANSISTORES FET EN CONMUTACIÓN
Conmutación: Movimiento del punto de operación del transistor de Corte a Saturación y de Saturación a
corte.
Los microprocesadores y microcontroladores dominan el escenario y se construyen o basan en
los MOSFET de enriquecimiento por ser muy fáciles de trabajar en conmutación o en modo digital
porque:
CORTADO: |VGS|<|Vth|
Para emplearlos en conmutación, tener cuidado que los puntos de corte y saturación no queden
cerca. En esto se basa el mundo digital moderno.
Para tratar los transistores FET en conmutación, emplearemos los transistores ideales para ello,
los transistores MOSFET de canal inducido o de enriquecimiento.
El punto rojo está en la zona de corte. La corriente de drenador es prácticamente cero I D=0 A y
la tensión entre compuerta y fuente menor que la tensión umbral, V GS<Vth (Vth es Vt en la gráfica).
El punto verde está en la zona de saturación. La corriente de drenador es mayor que 0, ID>>0 A
y la tensión entre compuerta y fuente mayor que la tensión umbral, V GS>Vth (Vth es Vt en la
gráfica).
MOSFET Incremental CANAL N
Región de
ID ID ruptura
VDSsat=VGS-Vt
7 VGS=+1V
6 6
Región Región de
5 de saturación 5 Región VGS=+7V
corte óhmica
4 4
Región de saturación VGS=+6V
3 3
VGS=+5V
2 2
VGS=+4.5V
1 1
Vt=+2 V VGS=+3V
0 0
Región de corte VGS=Vt=+2V
0 1 2 3 4 5 6 7 8 VGS 0 5 10 15 20 25 30 VBD 60
51
Comencemos a trabajar.
CORTADO: |VGS|<|Vth|
+15V
CARGA
Entrada
Si la Entrada está en 5 V, VGS>Vth, 5 V > 2.5V, transistor saturado, circula corriente por drenador,
interruptor cerrado, circula corriente a través de la carga.
Así de simple.
Como los transistores FET no consumen corriente por la compuerta, se coloca un resistor de
valor estándar, 10 kΩ.
El resistor de 100 kΩ ayuda en el proceso de cambio de nivel de la señal de entrada.
Desde el punto de vista lógico, si están en CORTE es interruptor abierto. Si están SATURADO,
interruptor cerrado.
52
Podemos trabajar con el siguiente esquema en bloques:
VDD2
Carga
VDD1 D
Q1
Circuito 1 Vo VGS G
R1 S
Figura 1
R1
El transistor MOSFET enriquecimiento apenas consume corriente por la compuerta G, por lo que R1 la
asume el diseñador, 10 kΩ, 100 kΩ, 1 MΩ
El transistor
La corriente IDmax del transistor dada por el fabricante del transistor debe ser mayor que la corriente que
circulará por la carga
IDmax > Icarga
Funcionamiento:
El transistor se satura cuando VGS > Vth y circula corriente por la carga. Como se desprecia la corriente
de compuerta IG, entonces Vo = VGS, por tanto, el transistor se satura cuando Vo > Vth
53
1. EJERCICIO
Para el circuito que se muestra,
a) Complete la tabla
b) Diga cuál es su función lógica
c) Realice las simulaciones en el Laboratorio Virtual
IN Y2
0
1
El punto verde está en la zona de saturación. La corriente de drenador es mayor que 0, I D>>0 A
y la tensión entre compuerta y fuente mayor que la tensión umbral, |V GS|>|Vth| (Vth es Vt en la
gráfica).
MOSFET Incremental CANAL P
ID Región de
R ID ruptura
VDSsat=VGS-Vt
e 7 VGS=-6V
g
i 6 6
ó
n 5 5 Región VGS=-5V
óhmica
Región de d 4 4
saturación Región de saturación VGS=-4V
e
3 3
c VGS=-3.5V
o 2 2
r VGS=-3V
t 1 1
e VGS=-1.5V
VGS 0 0
Región de corte VGS=Vt=-1V
-6 -5 -4 -3 -2 -1 0 0 -5 -10 - 15 -20 -25 -30 VBD -60
Vt=-1 V
Comencemos a trabajar.
CORTADO: |VGS|<|Vth|
54
Variante 1: VDD1 = VDD2
Polaricemos un transistor MOSFET de canal P en conmutación para manejar una carga.
Puede ser un circuito equivalente al mostrado:
VGS S
Generador
Vo
de señal de
control R1 D
Carga
GND2
GND1
Y así, de manera muy fácil, se manejan cargas que deben estar conectadas al común o tierra.
55
Aquí se da una situación que no permite un correcto funcionamiento.
Si la señal de entrada está próxima a cero, la compuerta y la fuente tienen una diferencia de
potencial grande y el transistor satura.
Si la señal de entrada es nivel alto para la fuente de alimentación VDD1, la diferencia de potencial
entre compuerta y fuente SIGUE SIENDO GRANDE, mayor que Vt y el transistor SIGUE saturado
y no ocurre el cambio esperado.
¿Cómo se resuelve?
Con un resistor pull-up.
56
57