Síntesis de NSMs NSM (Materiales Nanoestructurados)

Los NSM han atraído una gran cantidad de intereses tanto desde el punto de vista de la ciencia
fundamental como de la aplicación tecnológica porque sus propiedades físicas, químicas,
electrónicas y magnéticas muestran una diferencia dramática con respecto a las contrapartes de
dimensiones superiores. Y según su dimensión, los NSM se pueden dividir en NSM 0D, 1D, 2D y 3D,
que generan una serie de propiedades físicas y químicas novedosas que difieren mucho de las de
los materiales a granel convencionales. Se han desarrollado muchas técnicas para sintetizar y
fabricar NSM 0D, 1D, 2D y 3D con tamaño, forma, dimensionalidad y estructura controlados. Los
métodos físicos o químicos se usan generalmente para sintetizar y fabricar NSM 0D, 1D, 2D y 3D.
Hay una variedad de métodos físicos y químicos para sintetizar y fabricar NSM 0D, 1D, 2D y 3D. Por
lo tanto, primero daremos una breve descripción de estas técnicas para sintetizar y fabricar NSM
0D, 1D, 2D y 3D. Después de la descripción de estas técnicas, discutiremos los detalles de los
diferentes tipos de NSM como 1D, 2D y 3D, que se sintetiza o fabrica mediante un proceso físico o
químico.

3.1. Métodos físicos

El método físico proporciona un camino ecológico para fabricar NSM de limpieza de superficie 0D,
1D, 2D y 3D. Actualmente, existen varios métodos físicos utilizados para la síntesis y fabricación de
NSM 0D, 1D, 2D y 3D que se describirán con más detalle a continuación.

3.1.1. Técnica de evaporación

La evaporación (Fig. 5) es un método común de deposición de película delgada. Se utilizan diversas

técnicas de evaporación, como la evaporación térmica y asistida por iones para la síntesis y
producción de NSM 0D, 1D, 2D y 3D. Una de las técnicas más comunes y más utilizadas consiste en
la síntesis de metales monofásicos y óxidos cerámicos mediante la técnica de evaporación de gases
inertes. El diagrama esquemático del equipo de evaporación térmica se muestra en la Fig. 5. En esta
técnica, los átomos o moléculas evaporados pierden energía a través de colisiones con los átomos
o moléculas de gas y sufren una condensación homogénea para formar grupos de átomos cerca del
polvo frío. Superficie de recogida. Para evitar una mayor agregación o coalescencia de los grupos,
los grupos formados deben eliminarse de la región de deposición [66,67].
3.1.2. Técnica de dispersión (técnica de pulverización catódica)

Hoy en día, diferentes tipos de sistemas de pulverización catódica, tales como deposición asistida
por iones, haz de iones, reactivo, utilización de alto objetivo, magnetrón por impulso de alta
potencia y pulverización por flujo de gas utilizados para la síntesis de NSM. Un proceso típico de
pulverización catódica generalmente implica la expulsión de átomos o grupos de materiales
designados sometiéndolos a un haz acelerado y altamente concentrado de gas inerte, como helio o
argón [66]. En la figura 6 se muestra un diagrama esquemático de un sistema típico de pulverización
catódica.

3.1.3. Procesos de litografía

La litografía es un proceso más versátil y fácil de implementar para producir el NSM

autoensamblado de 0D, 1D, 2D y 3D en diferentes tipos de sustratos. La litografía también es un
método rápido y efectivo para el diseño de superficies, que es compatible con una gran variedad de
materiales. La litografía incluye muchos tipos diferentes de preparación de la superficie en la que
un diseño se transfiere desde una fotomáscara o retícula a una superficie del sustrato que permitiría
realizar múltiples copias de una sola exposición. Las técnicas de litografía se pueden dividir en dos
categorías en función de los enfoques de nanofabricación:

(1) Enfoques no convencionales como la litografía suave con nanoimpresión, [68,69] litografía con
nanoesfera, [70,71] litografía coloidal, [72] litografía con nanoimpresión, [73] y síntesis en fase de
solución [74,75].

(2) Enfoques convencionales como la litografía de haz electrónico y la litografía de haz de iones
enfocado.

Los enfoques no convencionales son más preferibles a los enfoques convencionales. El patrón
litográfico se logra mediante varios procesos de moldeo, por ejemplo, litografía de nanoimpresión,
estampado en caliente y moldeo de elastómero. La litografía se ha convertido en una técnica
ampliamente utilizada por muchos investigadores en los campos de la física, la química y la biología
[76].

3.1.4. Plasma frío y caliente

Algunas veces se hace referencia a un plasma como "caliente" si está casi totalmente ionizado, o
"frío" si solo una pequeña fracción (por ejemplo, 1%) de las moléculas de gas están ionizadas, pero
otras definiciones de Los términos "plasma caliente" y "plasma frío" son comunes. Incluso en plasma
frío, la temperatura de los electrones es típicamente de varios miles de grados centígrados. La figura
7 muestra un dibujo esquemático del equipo de plasma caliente para producir material
nanoestructurado en forma de polvo. Generalmente, dicho equipo consiste en una cámara de fusión
por arco y un sistema colector. Las películas delgadas de aleaciones se prepararon a partir de
metales altamente puros mediante fusión por arco en una atmósfera de gas inerte. Cada lingote
fundido por arco se volcó y se volvió a fundir tres veces.

Luego, las películas delgadas de aleación se produjeron fundiendo en arco una pieza de materiales
a granel en una atmósfera de gas de mezcla a baja presión. Antes de sacar las partículas ultrafinas
de la cámara de fusión por arco, se pasivaban con una mezcla de gas inerte y aire para evitar que
las partículas se quemen. La figura 8 muestra un dibujo esquemático del equipo de plasma frío para
producir nanocables a gran escala y en grandes cantidades. En general, dicho equipo consiste en un
horno de tubo de cuarzo horizontal convencional y una bobina acoplada inductivamente impulsada
por una fuente de alimentación de radiofrecuencia (rf) de 13.56 MHz. Recientemente, Zheng et al.
utilizó el sistema de plasma frío para sintetizar los nanocables de oxinitruro de silicio [77]. En una
síntesis típica de nanocables de oxinitruro de silicio, utilizaron obleas de silicio recubiertas de níquel
como sustrato. Puede encontrar más explicaciones sobre la metodología de plasma frío para fabricar
nanocables de oxinitruro de silicio en el artículo [77]. Por esa razón, no discutimos con más detalle
aquí sobre la producción de nanocables de oxinitruro de silicio.
3.1.5. Pirólisis por pulverización

La pirólisis por pulverización (Fig. 9) es básicamente un proceso de solución en el que las

nanopartículas se depositan directamente pulverizando una solución sobre una superficie de
sustrato calentada, donde el componente reacciona para formar un compuesto químico. Los
reactivos químicos se seleccionan de manera que los productos que no sean el compuesto deseado
sean volátiles a la temperatura de deposición. La pirólisis por pulverización representa un método
de procesamiento muy simple y relativamente rentable (particularmente en lo que respecta a los
costos del equipo) en comparación con muchas otras técnicas de deposición de película [78,79]. La
pirólisis por pulverización ofrece una técnica extremadamente fácil para preparar películas de
cualquier composición y no requiere sustratos de alta calidad, productos químicos, aparatos de
vacío costosos y gases exóticos.

El sistema de pirólisis por pulverización consiste básicamente en un atomizador, una solución

precursora, un calentador de sustrato y un controlador de temperatura. Por lo general, se utilizan
varios tipos de atomizadores en la técnica de pirólisis por pulverización, como la explosión de aire
(el líquido está expuesto a una corriente de aire) [80], ultrasónico (las frecuencias ultrasónicas
producen las longitudes de onda cortas necesarias para una atomización fina) [80] y electrostático
( el líquido está expuesto a un campo eléctrico alto) [80].

3.1.6. Técnica de condensación en fase gaseosa inerte

El método de condensación de fase gaseosa inerte (IGC) (Fig. 10) es uno de los métodos más
prometedores para la producción de NSM de bajo costo. En general, el método IGC se ha utilizado
para sintetizar numerosos metales monofásicos, semiconductores y nanopartículas de óxido
metálico. Se basa en nanopartículas generadas por evaporación y condensación (nucleación y
crecimiento) en un entorno de gas inerte subatmosférico [81,82]. La generación de grupos de
átomos por IGC procede mediante la evaporación de un material precursor, ya sea un solo
componente o un compuesto, en un gas mantenido a baja presión. Los átomos o moléculas
evaporados experimentan una condensación homogénea para formar grupos de átomos (pierden
energía) a través de colisiones con átomos o
moléculas de gas en la vecindad de una
superficie fría para condensarse en ella.
3.1.7. Ablación por láser pulsado

Como método físico de fase gaseosa para preparar partículas nanométricas, la ablación con láser
pulsado se ha convertido en un método popular para preparar NSM de alta pureza y ultrafinas de
cualquier composición. En este método, el material se evapora utilizando láser pulsado en una
cámara llena con una cantidad conocida de un gas reactivo y mediante condensación controlada de
nanopartículas en el soporte. En la figura 11 se muestra una vista esquemática de una ablación con
láser pulsado para la síntesis de nanopartículas. A medida que los átomos materiales se difunden
desde el objetivo al sustrato, interactúan con el gas para formar el compuesto deseado (por
ejemplo, óxido en el caso de oxígeno, nitruro para nitrógeno o amoníaco, carburo para metano,
etc.).

La vaporización pulsada por láser de metales en la cámara es una modificación del método conocido
para la síntesis de compuestos metálicos en una cámara de nube de difusión y permite preparar
nanopartículas de composición molecular mixta, como óxidos / nitruros y carburos / nitruros mixtos
o mezclas de óxidos de diversos metales. La composición elemental y la distribución del tamaño de
las nanopartículas pueden alterarse cambiando ciertos parámetros experimentales, incluida la
composición del gas inerte y el gas reactivo en la cámara y variando el gradiente de temperatura y
la potencia del pulso láser.

3.1.8. Reducción sonoquímica

La reducción sonoquímica es una técnica física más utilizada para la generación de diferentes tipos
de NSM. La figura 12 muestra el diagrama esquemático del sistema de sonicación. En este equipo,
se utilizó un generador ultrasónico de ondas múltiples y un oscilador de titanato de bario de 65 mm
de diámetro para la irradiación ultrasónica. Durante la irradiación de microondas, el recipiente se
cerró. Los generadores ultrasónicos de ondas múltiples se hicieron funcionar a una frecuencia de
200 kHz con una potencia de entrada de 200 W. El proceso de sonicación se realizó en un baño de
agua con temperatura controlada.