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La Deposicin Qumica de Vapor o CVD (de sus siglas en ingls Chemical Vapor
Deposition) es un proceso qumico utilizado para producir productos de alta
pureza y de alto rendimiento de materiales slidos. El proceso se utiliza a
menudo en la industria de semiconductores para producir pelculas delgadas.
En un proceso CVD estndar el sustrato (oblea) se expone a uno o ms
precursores voltiles, que reaccionan o se descomponen en la superficie del
sustrato para producir el depsito deseado. Con frecuencia, tambin se
producen subproductos voltiles, que son eliminados por medio de un flujo de
gas que pasa a travs de la cmara de reaccin.
Normas aplicables:
Contra radiaciones.
Rapidez de su implementacin.
Fciles de usar.
Desventajas