ICP (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)

Introduccin
La tcnica de espectrometra de masas con plasma de acoplamiento
inductivo (ICP-MS, del nombre en ingls Inductively Coupled Plasma Mass
Spectrometry), es una variante de las tcnicas de anlisis por
espectrometra de masas (El espectrmetro de masas es un

artefacto que permite analizar con gran precisin la composicin

de diferentes elementos qumicos e istopos atmicos,
separando los ncleos atmicos en funcin de su relacin cargamasa (z/m).). Las ventajas principales de esta tcnica radican en la alta
precisin, bajos lmites de deteccin (aquella concentracin que proporciona
una seal instrumental significativamente diferente de la seal de una
muestra en blanco, o la seal de fondo) y bajo coste econmico, analizando
la mayora de los elementos e istopos presentes en la tabla peridica de
manera simultnea en no mas de un par de minutos. Es por lo tanto una
tcnica ideal en el anlisis de aguas, lixiviados de rocas y minerales,
alimentos etc. Adems, desde los ltimos aos la utilizacin del LASER
acoplado al ICP-MS, permite el anlisis de elementos trazas y tierras raras
en minerales, fsiles, metales, semiconductores, etc, en un rea de muestra
de hasta 50 m. La tcnica de ICP-MS combina dos propiedades analticas
que la convierten en un potente instrumento en el campo del anlisis de
trazas multielemental. Por una parte obtiene una matriz libre de
interferencias debido a la eficiencia de ionizacin del plasma de Ar y por
otra parte presenta una alta relacin seal-ruido caracterstica en las
tcnicas de espectrometra de masas. El plasma de acoplamiento inductivo
de argn es usado como una fuente muy eficaz de iones en su estado M+.
El espectro de masas de esta fuente de iones es medido por medio de un
espectrometro de masas cuadrupolar. Esto es posible mediante una zona de
interfase capaz de introducir los iones del plasma a traves de un orificio
(Cono) por medio de una unidad de vacio diferencial y posteriormente
dentro del filtro cuadrupolar de masa (Skimmer).

Principios del plasma de acoplamiento inductivo de argn

Podemos definir un plasma como cualquier volumen de gas con parte de sus
molculas o tomos ionizados y coexistiendo a alta temperatura (8.000 C)
en una sopa de iones, electrones, atomos neutros tomos excitados.
Tradicionalmente se suele decir que hay cuatro estados de la materia:
lquido, slido, gaseoso y plasma. Brevemente, la generacin del plasma se

consigue sometiendo un flujo de gas, que se conoce como gas plasmgeno

(Ar usualmente), a la accin de un campo magntico oscilante, inducido por
una corriente que oscila a alta frecuencia. En el proceso de generacin del
plasma, los iones de Ar y los electrones libres presentes son acelerados
siguiendo trayectorias anulares, debido a la alternancia del campo
magntico presente generado por el generador de radiofrecuencia.

Coexistiendo con el plasma encontramos al menos las siguientes

especies inicas: electrones (e-), iones de argn (Ar+), tomos de
argn en estado fundamental (Ar0), tomos de argn excitados (Ar*),
molculas de argn ionizadas (Ar2+), neutras (Ar20) y excitadas
(Ar2*). Con este batiburrillo de especies, es de esperar que se
produzcan procesos de recombinacin radiante del tipo:
Ar + e- --> Ar+ + 2eAr+ + e- --> Ar* + hv
Ar* --> Ar0 + hv
Este tipo de procesos explica el hecho de que el plasma aparente ser
una llama, cuando en realidad no lo es, no existe ningn proceso de
combustin qumica convencional en el proceso de generacin.

La antorcha donde se genera el plasma consiste en tres tubos

concntricos de cuarzo. A los dos tubos ms externos les llega Ar en
forma tangencialmente, mientras que al ms interno le llega un flujo
laminar.

El flujo de gas en estos tres tubos es variable. El ms interno proviene del

nebulizador (carrier gas) y es el que arrastra la muestra con un flujo de 0.9
l/min. El intermedio o gas plasmgeno posee un flujo de 0.5 l/min, mientras
que en el ms externo el flujo es alto (15 l/min) y tiene la misin de
estabilizar el plasma. La antorcha est rodeada por una espiral de 2 a 4
vueltas (Load Coils) que transmite una radiofrecuencia al gas del interior de
la antorcha. El material con el que est construida la espiral es cobre y en
su interior circula agua con objeto de refrigerarla. La radiofrecuencia
transmitida es de 27 a 40 MHz. La espiral induce un campo
electromagntico oscilante al final de la antorcha y en el interior de la
espiral. Una chispa de alto voltaje provoca iones de Ar+ y e- en las paredes
del tubo ms externo de la antorcha creando el plasma, el cual llega a la
zona de induccin y favorece el acoplado al campo oscilante. La
radiofrecuencia origina colisiones no elsticas entre Ar+ y e-, de modo que
por efecto Joule, se alcanzan temperaturas de hasta 10.000 K, dando lugar a
ms iones de Ar+ y excitando los tomos presentes en el plasma hasta una
energa caracteristica del 1 potencial de ionizacin del Ar de 15.76 eV.
En el ncleo del plasma se alcanzan temperaturas de hasta 10.000K. El
nebulizador perfora el plasma y las molculas de muestra son calentadas
por conduccin y radiacin cuando atraviesan el plasma anular. En el centro
del canal se alcanzan temperaturas de 5.000 a 7.000K. El plasma de Ar
excita los tomos presentes en la muestra a un estado M+. Conociendo la
temperatura en el canal central y los valores de las primeras energas de
ionizacin, se sabe que la mayora de los elementos se ionizarn y aquellos
tomos con valores inferiores a 10 eV lo haran en ms de un 50%. Es decir
el Ar es una fuente de ionizacin eficiente. Esto lo podemos apreciar en la
tabla siguiente, donde se muestran las energas de ionizacin de algunos
elementos incluido el Ar.

Elemen E-I
to
(eV)

E-II
Observaciones
(eV)

18

Ar

15.7
27.62
6

Gas Plasmgeno limita la energa

mxima de los iones presentes a
15.75 eV

47

Ag

7.57 21.48

Excitado como Ag+

13

Al

5.98 18.82

Excitado como Al+

56

Ba

5.21 10.00

Excitado como Ba+ y Ba++. Dobles

cargas.

2
7

Co

7.86 17.05

Excitado como Co+

5
8

Ce

17.4
34.98
2

No se excita. Indetectable por ICP-MS

1
4

Si

8.15 16.34

Excitado como Si+

1
0

Ne

21.5
41.07
6

No se excita. Indetectable por ICP-MS

5.6

12.3

Excitado como Ce+ y Ce++. Dobles

cargas

Tabla 1. Potenciales de 1 y 2 Ionizacin de algunos elementos.

Ar, Ag, Al, As, Au, B, Be, Bi, Br, C, Cd, Cl, Co, Cr, Cs,
Elementos
Cu, Dy, Er, Fe, Ga, Ge, H, Hg, I, In, Ir, K, Kr, Li, Mn,
excitados como Mo, N, Na, Nd, Ni, O, Os, P, Pd, Pr, Pt, Pu, Rb, Re, Rh,
M+
Rn, Ru, S, S, Se, Si, Ta, Tb, Te, Th, Tl, Tm, U, W, Xe,
Zn
Elementos
excitados como
M+, M++

Ba, Ca, Ce, Eu, Gd, Hf, La, Lu, Mg, Nb, Pb, Ra, Sc,
Sm, Sn, Sr, Tc, Ti, V, Y, Yb, Zr

Elementos
Indetectables
por ICP-MS

F, He, Ne

Tabla 2. Comportamiento de los elementos en un plasma de Ar.

Tanto el plasma como los iones deben pasar desde condiciones

atmosfricas a alto vacio en el espectrmetro de masas. Esto se hace
gracias a la interfase de extraccin de iones (ion extraction interface).
La interfase posee dos conos de metal (Ni o Pt) con un orificio central
de 1 mm, a travs de los cuales el plasma y los iones son extrados al
MS a travs de un nivel de vaco creciente.
Al primer cono se le denomina sampler y a travs de l se accede a
una cmara con un vaco de 10 mbar generado por una bomba

rotatoria. El segundo cono es el skimmer y a travs de l se llega a

una cmara con una presin de 10-3 mbar generado por una bomba
Turbo molecular. Una vez dentro de la cmara principal, el gas es
separado de los iones + y bombeado hacia fuera. Los iones
remanentes son extrados y enfocados en el cudruplo (donde la
presin es de 10-6 mbar) a travs de las lentes inicas.
Las lentes inicas tienen como misin enfocar el haz de iones que
entrar en el cudruplo. Las lentes tienen forma cilndrica o de plato y
son cuatro. Junto con las lentes tambin existe una barrera de
fotones, el cual impide que la luz emitida por los procesos de des
excitacin en el plasma pase a travs del analizador de masas y
llegue al detector.
Un poco de Historia
El origen de la tcnica ICP-MS tiene sus principios en la
espectrometra de emisin atmica usando una fuente de plasma de
acoplamiento inductivo (ICP-AES) en 1960. Los primeros equipos
comerciales de ICP-AES fueron comercializados en 1974, situndose la
tcnica como la ms relevante en el anlisis de lixiviados de rocas,
sedimentos, suelos, anlisis de aguas, monitorizacin ambiental,
prospeccin mineral e investigacin mdica. Mediante ICP-AES se
analizaban elementos mayoritarios y elementos trazas comunes y
posteriormente REE mediante separacin cromatogrfica. Lleg hasta
tal punto su popularidad que a mediados de 1980 esta tcnica
rivalizaba con la activacin neutrnica (INAA) en la determinacin de
REE.
La contribucin histrica ms importante de la ICP-AES a la
geoqumica fue la de ser un medio alternativo a la INAA para la
determinacin de REE, ya que la INAA era hasta entonces el nico
mtodo de anlisis de este grupo de elementos. Desde 1980, la
popularidad de la INAA decreci con el desarrollo del ICP-AES. Sin
embargo existan numerosos problemas de efectos de matriz debido a
las altas concentraciones requeridas de muestra. De aqu surgi la
necesidad de introducir un analizador de masas tomando como base
la ionizacin basada en el plasma de acoplamiento inductivo. Esta es
la idea bsica del ICP-MS cuya finalidad fu la de minimizar los
efectos de matriz. Despus de un inicio incierto causado por la
inexperiencia en compensar los efectos de matriz y en parte por la
deficiencia en la instrumentacin, la tcnica de ICP-MS se estableci
firmemente en un nmero creciente de laboratorios llegando a
convertirse en el mtodo preferido para la determinacin de
elementos traza.
En la actualidad y en un futuro prximo la ICP-MS junto con la XRF,
sern las tcnicas que dominaran las determinaciones geoqumicas
rutinarias en los laboratorios. Gray (1975) fue el primero en
experimentar el plasma como fuente de iones para MS. Trabajos

posteriores fueron los de Houk et al. (1980), Date y Gray (1981, 1983)
o Houk and Thompson (1982)
Sus aplicaciones principales son:
-Anlisis de aguas.
-Anlisis geoqumicos de elementos trazas.
-Determinacin de de As, Sb, Se, Te, Bi, Hg, Au, Ag y Pt.
Los primeros equipos ICP-MS fueron fabricados en el Reino Unido por
VG Isotopes LTd (PlasmaQuad) y en Canad por Sciex (Elan) a
mediados de 1983, aunque no fue hasta 1984 cuando se instal el
primer equipo de laboratorio. Hacia 1992 haba ya 450 equipos
instalados en el mundo.
Histricamente la ICP-MS es una de las tcnicas ms recientes:
-1960: Espectrometra de Absorcin Atmica.
-1963: Fluorescencia de Rayos X.
-1970: INAA.
-1975 ICP-AES: atomic emission spectrometry.
-1985: ICP-MS.
Actualmente estamos sufriendo una nueva revolucin con la tcnica
de LA-ICP-MS y el laser acoplado a MS-MC (espectrometro de masas
multicolectores).
La ICP-MS posee grandes ventajas tales como:
-Alta precisin.
-Bajos lmites de deteccin.
-Costes econmicos razonables, salvo en la preparacin de las
muestras y en el Ar del plasma.
-Analisis de la mayora de los elementos e istopos (elementos con
distinta masa y en definitiva distinto nmero de protones) de la tabla
peridica de manera simultnea en 5 minutos, aunque no analiza
elementos inferiores al Na , salvo Li, B, y Be.
Algunas de las lneas futuras de investigacin y desarrollo en la
tecnica de ICP-MS son:
-Analisis de elementos trazas por debajo del lmite de deteccin
actual de elementos tales como Ag, As, Au+PGE, B, Bi, Br, Cd,Cl, F,
Ge, Hg, I, In, Re, S, Sb, Se, Te, Tl y W. Esto ser importante en
prospeccin geoqumica y estudios de polucin ambiental.
-Desarrollo de LAM-ICP-MS para mejorar en 1m el dimetro de toma
de muestras.
-Mejorar por dos rdenes de magnitud las relaciones isotpicas de
Multicolectores, sobre todo aplicado a tcnicas de micro-haz.
Componentes del equipo ICP-MS: Nebulizador

La introduccin de la muestra en el ICP es un proceso crtico en esta

tcnica.

La gran mayora de los anlisis de ICP-MS se realizan sobre muestras

lquidas, siendo necesario una corriente de gas para que la muestra alcance
el plasma. La forma ms fcil de que la muestra lquida sea introducida en
la corriente de gas es en forma de aerosol originado en un nebulizador.
La gran mayora de los anlisis de ICP-MS se realizan sobre muestras
lquidas, siendo necesario una corriente de gas para que la muestra alcance
el plasma. La forma ms fcil de que la muestra lquida sea introducida en
la corriente de gas es en forma de aerosol originado en un nebulizador.

Figura 8. Generacin del aerosol en un nebulizador concntrico.

Despus del nebulizador existe una cmara de spray, cuya funcin es

la de separar y desechar las gotas grandes de la solucin que se
hayan formado en el proceso de pulverizacin.
Existen diversos tipos de nebulizadores, cada uno de ellos con sus
ventajas y sus inconvenientes.
- Nebulizador Cross-Flow (Flujo cruzado): Estos nebulizadores son
menos susceptibles al bloqueo que cualquier otro, aunque tambin
puede ocurrir. Se basa en un spray ascendente donde un chorro
horizontal de gas pasa o cruza la parte superior del tubo por donde se
inyecta la muestra, rompindose en una nube de pequeas gotas.
Esto permite que funcione con bomba peristltica, que es la
encargada de mantener un caudal de entrada al nebulizador
constante.

 Ventajas: Bueno para todos los propsitos analticos. Resistente al acido

fluorhdrico (HF). Econmico. Dificilmente obturable.
Desventajas:Indicado para propositos generales.
- Nebulizador Concntrico o Meinhard: Existen de diversos tipos. Estn
basados en la pulverizacin de la muestra lquida introducida a traves de un
tubo central por medio de un flujo de Argon que viaja en un tubo externo y
concentrico al de la muestra (Figura 6). Los de tipo A, se utilizan para
propsitos generales, los de tipo C se utilizan para muestran con una alta
concentracin de slidos en suspensin y los de tipo K, reducen

considerablemente el caudal de gas.

Ventajas: Mejora considerablemente la relacin seal/ruido. Minimiza el
gasto de Ar.
Desventajas: Se obtura facilmente por acumulacin de micropartculas o
slidos disueltos. Estan construidos de vdrio por lo que no son resistentes al
HF. Su cambio es caro.
- Nebulizador Ultrasnico: La muestra alimenta una superficie donde existe
un trasductor piezoelctrico que trabaja a una frecuencia entre 0.2 a 10
Mhz. La onda longitudinal, que se propaga perpendicular a la superficie del
transductor hacia la interfase aire-lquido, produce una presin que rompe la
superficie en un aerosol. Este mecanismo aumenta la sensibilidad y lmite
de deteccin, pero necesita ms tiempo de limpieza y si la matriz es
compleja, el fondo aumenta.
Ventajas: Aumenta la sensibilidad y mejora los lmites de deteccin.
Minimiza la generacin de xidos en el plasma.
Desventajas: Es caro. Los tiempos de lavado son grandes para muestras
con un alto nivel de sales. No puede operar con grandes cantidades de
slidos disueltos.
- Nebulizador Microconcentrico: Es del tipo Meinhard pero con una apertura
del tubo de muestra mucho ms pequea.

 Ventajas: Perfecto para la inyeccin de volmenes de muestra

pequeos (40-100 uL/min).
Desventajas: Se obtura con partculas en suspensin de tamao
superior a 10 micras.
- Nebulizador Babington: Babington (1973) desarroll este tipo de
nebulizador donde permitia que una pelcula de lquido fluyera sobre
la superficie de una esfera. El gas introducido a presin convierte a la
pelcula lquida en aerosol. La caracterstica esencial de este tipo de
nebulizador es que el lquido fluye libremente sobre una apertura
pequea mejor que pasando a travs de un capilar fino y esto
presenta una gran tolerancia a los slidos disueltos. El nebulizador
original tuvo grandes problemas de memoria. Una modificacin
realizada por Suddendorf y Boyers (1978) restringiendo el lquido en
un surco en V e introducindo el gas desde un hueco pequeo en la
parte inferior del surco, disminuy los efectos de memoria. Los surcos
en V son resistentes a los bloqueos, sin embargo no es una geometra
ptima para la generacin de un aerosol.
Componentes del equipo ICP-MS: Cmara de Spray.
La eficiencia del transporte del aerosol se define como el porcentaje
de masa de solucin nebulizada que llega al plasma. Para que este
porcentaje sea alto es necesario que el nebulizador produzca gotas
inferiores a 10 m de diametro. Generalmente la mayora de los
nebulizadores producen aerosoles con una amplia distribucin de
gotas de dimetros superiores a 100 m. El primer objetivo de la
cmara de spray es separar las gotas grandes (superiores a 10 m)
del gas y desecharlas. Cuando el flujo de gas con el aerosol entra en
la cmara de spray, sufre cambios profundos en su direccin de modo
que las gotas grandes se estrellan sobre las paredes. Estas gotas que
chocan con las paredes se desechan mediante drenaje. La cmara de
spray asegura que solamente las gotas pequeas permanecen en
suspensin en el flujo de gas que llega al plasma. Con esto se pierde
un 99 % de muestra en solucin.

Diversos diseos han sido propuestos y evaluados. El formato ms

normal es el que emplea vidrio, polietileno, PTFE o Ryton. El desalojo
de la solucin se hace mediante el bombeo que realiza una bomba
peristltica, la misma que lleva la muestra al nebulizador. Ciertos
elementos son problemticos (sobre todo los voltiles) tales como Br
y Hg ya que son retenidos en el vidrio, sobre todo en la punta del
inyector de la antorcha, por largo tiempo incluso cuando se introduce
en bajos niveles. Sin embargo, la mayora de los elementos no
presentan tales problemas y tpicamente se limpian entre 60 a 180
segundos. Durante la ejecucin de un anlisis es deseable que se
monizorice la limpieza eligiendo un elemento concreto y
determinando el tiempo donde se produce un decaimiento de la seal
hasta valores de fondo aceptables. Esto es importante si un
autosampler es utilizado y el tiempo se puede programar. El aumento
de la velocidad de bombeo al mximo entre muestra no mejora el
tiempo de limpieza de la cmara de spray, pero s reducir el tiempo
de toma de la solucin de limpieza o el tiempo para que la siguiente
muestra alcance el nebulizador.
Durante el desarrollo de la tcnica de ICP-MS el agua fue utilizada
como fuentes de iones para la formacin de especies poliatmicas.
Las ventajas de realizar anlisis en ausencia de agua tales como
laser, vaporizacin electrotrmica, o nebulizacin por arco han sido
mostradas por Gray (1986), quien observ que los niveles de H+, O+
y Ar+ en el plasma a partir de la ecuacin de Saha entre los iones
derivados de acidos minerales tales como N+, S+, Cl+ y C+
aumentaban. Debido a los altos niveles de estos iones en el plama se
sugiere que solamente bajos niveles de iones poliatmicos se podran
originar. Es decir, reduciendo la cantidad de agua o solvente se
reducen los niveles de iones poliatmicos.
Se ha estudiado la variacin de ArO+ con el tiempo y con la
temperatura de la cmara de spray. A una temperatura superior a
25C entra ms agua en el plasma como vapor que como aerosol. El
enfriamiento de la cmara de spray origina una condensacin del

vapor en las paredes reduciendo la entrada de agua en el plasma. A

10 C el ArO+ y ArAr+ son reducidos en gran medida. Adems iones
de oxidos refractarios, iones cargados dobles y productos de corrosin
de los conos son reducidos hasta alcanzar niveles constantes. Los
tipos de cmaras de Spray ms convencionales son dos. Por una
parte la cmara de doble paso o de Schott utilizada normalmente
junto a un nebulizador del tipo Cross-Flow, que consiste en un tubo
central abierto por un extremo e insertado en un tubo cerrado de
mayor diametro. Por su extremo inferior se produce el drenaje de las
particulas de aerosol excesivamente grandes y por la parte superior
se comunica con el inyector y la antorcha. En segundo lugar se utiliza
la cmara de spray ciclonica asociada a nebulizadores concentricos.
Esta cmara tiene forma de espiral de modo que por fuerza centrfuga
las partculas ms grandes chocan con las paredes y son drenadas
por la parte inferior y las que tienen el tamao adecuado pasan al
inyector por la parte superior. Estas dos cmaras pueden ademas
estar refrigeradas con el fin de mejorar su capacidad de separacin.
Componentes del equipo ICP-MS: Antorcha.
La antorcha como sistema de confinamiento del plasma es otra de las
partes fundamentales del equipo de ICP-MS.

FIGURA 14

Se contruyen con un alto grado de exactitud usando cuarzo de gran

calidad, siendo una parte principal para la estabilidad y formacin del
plasma. Las antorchas pueden ser desmontables o no. En el primer
caso, supone ventajas para sustituir componentes e introducir
materiales compuestos, aunque son difciles de reconstruir.
Generalmente las antorchas son parcialmente desmontables. Los
tubos de cuarzo son los que se utilizan con mayor frecuencia en las
antorchas ya que aguantan varios cientos de grados, as como el
ataque qumico y altos niveles de radiacin electromagntica a
longitudes de onda que se extienden en la region del ultravioleta.
Estas condiciones causan cambios fsicos y qumicos en el cuarzo, por
lo que con el tiempo se degrada, siendo necesaria su sustitucin y ya

no solamente su limpieza. Por ello quizs es ms recomendable

utilizar antorchas desmontables. La distancia entre la antorcha y el
cono de muestreo esta entre 10 y 15 mm. Generalmente la antorcha
se monta horizontalmente con el centro del inyector alineado sobre el
eje. Los ltimos 25 mm de la antorcha donde pasa el argon de
enfriamiento debe est dentro del "load coil", tal que la distancia
entre la espiral y el cono debe ser de unos 3 a 5 mm.
La figura siguiente muestra un esquema detallado de la antorcha con
un plasma generado en contacto con la interfase de vacio, as como
la disposicin del "load coil" o inductor de radio frecuencia al plasma.

En el esquema siguiente podemos apreciar como se genera el plasma: (a)

Un flujo tangenc ial de Ar pasa por la camisa externa de la antorcha. (b) Se
aplica potencia de radio frecuencia al load coil, produciendo un intenso
campo electromagnetico en su zona de influencia. (c) Una chispa de alto
voltaje aplicada sobre el argon produce electrones libres. (d) Los electrones
libres son acelerados por el campo de radio frecuencia produciendo
colisiones e ionizando el Ar. (e) el plasma de acoplamiento inductivo (ICP) se
ha generado y se confina al final del lado abierto de la anchorcha.

Componentes del equipo ICP-MS: Interfase.

La funcin de la interfase es extraer el gas del plasma que es
representativo de la muestra original.

La interfase est compuesta por dos conos, el de muestreo y el skimmer

que inyectan el flujo del plasma en la zona de vacio por medio de un vacio
diferencial. De presin atmosfrica (760 Torr) donde se encuentra el plasma,
hasta unos 2 Torr que existe en la zona entre conos. Este vacio es generado
por medio de una bomba rotatoria.

En el mercado hay diversas formas y estilos de conos, aunque el

diseo bsico no ha cambiado desde los modelos originales. Se
utilizan diviersos materiales tales como Al, Cu, Ni y Pt, aunque el Ni es
el mejor en la relacin calidad/precio. El material sobre el que se
construye debe tener una buena conductividad tanto trmica como
elctrica. Si se introducen materiales orgnicos, se debe utilizar conos
de Pt ya que es menos susceptible de degradacin que el Ni. En el
caso de que se inyecte agua regia no se deben de utilizar los conos
de Pt yaque esta es la nica mezcla cida que ataca al Pt.
Los conos de muestreo de Ni duran bastante (varios meses) y
necesita solamente una limpieza peridica con ultrasonidos sobre
todo si la muestra tiene muchas sales o est muy acidulada. A veces
es necesario utilizar un papel con abrasivo de tamao de grano muy
fino. La vida media de este cono se reduce drsticamente cuando se
utiliza cido sulfrico y con soluciones muy cidas. Si son de Pt
pueden llegar a 8000 horas de uso. Este cono se puede bloquear
cuando se introducen muestras con partculas slidas suspendidas.
El skimmer es ms pequeo y menos robusto que el sampler, sobre
todo en la punta, la cual es mucho ms aguda y regular. Su limpieza

es la misma que la del de muestreo. Los conos skimmer se colocan

generalmente entre 6 a 7 mm de distancia del de muestreo y tambin
se fabrica con Ni o Pt. La punta de este cono tiene una repercusin
directa sobre la sensibilidad del aparato y sobre el nivel de iones
poliatmicos. Generalmente no tiene por qu bloquearse en
comparacin con el sampler.
https://www.uam.es/personal_pas/txrf/icpms.html

Agilent 7500cs
El analizador definitivo para semiconductores
La tecnologa ORS ampla el mbito de utilizacin del ICP-MS a aplicaciones con
semiconductores
Sensibilidad ultraalta para la mxima capacidad de deteccin y ORS para eliminar
interferencias de matriz en las muestras de semiconductores ms difciles de
analizar.
La capacidad de eliminacin de interferencias de la ORS elimina hasta las
especies poliatmicas azufradas del cido sulfrico para permitir de forma exclusiva
la determinacin directa basada en la masa de Ti y Zn
Eliminacin de especies interferentes basadas en Ar tales como ArO o Ar 2
utilizando el modo de reaccin con H2

 El rendimiento inigualable del plasma fro con la interfase Shield Torch de Agilent
proporcionan concentraciones equivalentes de fondo (BEC) extremas y total
flexibilidad para cualquier aplicacin
Tercera lnea de gas de celda opcional para el modo de reaccin con NH : para
determinaciones de ultratrazas de vanadio en HCl de alta pureza3
Sistema de introduccin de muestras e interfase diseados para uso con
semiconductores. Especial preparacin para el transporte y completa conduccin de
escape para uso en salas limpias.

1.- rea abierta de introduccin

Sencillo acceso para mantenimiento y para cambiar entre dispositivos de
introduccin de muestra alternativos.
Bomba peristltica de 10 rodillos de alta precisin, montada cerca del
nebulizador para reducir al mnimo el tiempo de captacin y evacuacin de
la muestra.
2.- Control de temperatura de la cmara de spray
El control mediante Peltier de la cmara de spray evita la deriva producida
por cambios de la temperatura ambiental del laboratorio y reduce la
formacin de xidos. Compatible tanto con la cmara de spray de cuarzo
como con la inerte.
Permite el anlisis de rutina de muestras orgnicas voltiles sin necesidad
de utilizar un mini enfriador adicional.
3.- Plasma robusto
Generador de RF de estado slido sin mantenimiento. Exclusiva
transmisin digital para la mxima eficacia de acoplamiento.
Los 27,12 MHz de RF producen un plasma ms robusto para conseguir la
completa descomposicin de la matriz de muestra, reduciendo la formacin
de xidos y otras interferencias de matriz.
Posicionamiento motorizado de alta precisin de la antorcha de ICP con
auto alineamiento
y sintonizacin completamente automtica.
4.- Sistema ShieldTorch de Agilent
El sistema ShieldTorch (STS) controla las energas inicas para una mayor
sensibilidad
y una mejor eliminacin de interferencias en el modo de colisin de la ORS
utilizando
tcnicas de discriminacin de la energa.
El sistema STS permite utilizar el modo de plasma fro en aplicaciones con
semiconductores,
incluyendo disolventes orgnicos de alta pureza.
5.- Interfase y lente inica
El sistema de lentes de extraccin y lente inica fuera de eje asegura una
alta transmisin inica en todo el rango de masas.

 Ubicacin de la lente fuera de eje antes de la vlvula de compuerta en los

sistemas ORS: protege la celda de la contaminacin y puede limpiarse sin
necesidad de romper el vaco.
6.- Control activo de flujos de masas (AMFC)
El sistema AMFC diseado por Agilent controla con precisin todos los
flujos de gas estndar (4 flujos de gas argn y 2 flujos de gas de celda en
sistemas ORS) por medio de sofisticados sensores de presin electrnicos.
7.- Sistema de reaccin octopolo
Celda de colisin/reaccin para una eliminacin muy eficiente de las
interferencias producidas por especies poli atmicas. Exclusivo modo de
colisin con He para el anlisis fiable de matrices de muestra desconocidas.
Modo de reaccin con H para aplicaciones con semiconductores y lmites de
deteccin extremos para Se.
8.-Sistema de vaco y analizador
Cuadrupolo de alta frecuencia a 3 MHz con exclusivas barras de seccin
transversal realmente hiperblica para una excepcional sensibilidad de la
abundancia y separacin de picos.
nica bomba turbo molecular de flujo dividido con una nica bomba
rotatoria para el vaco previo.
9.-Sistema de deteccin avanzada
Detector simultneo de pulsos/analgico con calibracin plenamente
automatizada. Modo analgico de alta velocidad para seales transitorias.
El exclusivo amplificador logartmico proporciona nueve rdenes de rango
dinmico. Mxima concentracin medible >1000 ppm.

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