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ESPECTROSCOPIA ATMICA
INTEGRANTES
Luis Carlos Flores Luna Victor Alberto Hillel Urquidi 1569761 Nancy Daniela Leal Sanmiguel 1485687 Daniella Nolasco Lpez 1569764 Daniela Alejandra Ordua Cruz 1488825 Dannya Jaazai Ortega Flores 1488061 Daniel Ramos Simental 1493666 1447626
Donde: E= Incertidumbre de la diferencia de energa entre el estado fundamental y excitado. t= La vida del estado excitado antes de decaer al estado fundamental. h= es la constante de Planck. (6.62606896(33) 10 -34Js Si disminuye t, aumenta E.
Debido a lo anterior, podemos deducir que la anchura natural de raya de una seal de absorvin o emisin atmicas es ~10-4nm
EFECTO DOPPLER
Cuando un tomo se acerca a la fuente de radiacin capta la onda electromagntica oscilante con ms frecuencia que cuando se aleja de la fuente. Cuando un tomo se acerca hacia la fuente ve la luz de mayor frecuencia que cuando se aleja de ella. La anchura de raya debida al efecto Doppler viene dada por
Donde T es la tempratura (K) y M es la masa del tomo en unidades de masa atmica (uma).
El efecto Doppler y el ensanchamiento por presin son semejantes en magnitud y originan anchuras de raya de .001 a .01 nm en espectroscopia atmica.
ESPECTROSCOPIA ATMICA
nodo
Proteccin de vidrio
Ne o Ar a 1-5 torr
El ctodo est construido del metal cuyo espectro se desea obtener o sirve para soportar una capa de ese metal.
FUNCIONAMIENTO
En el comercio se encuentras diversas lmparas de ctodo hueco. Los ctodos de algunas constan de una mezcla de varios metales y permiten identificar ms de un elemento.
ESPECTROSCOPIA ATMICA
X+ Energa
X*
X+ hv
La cantidad de energa requerida para excitar la mayora de las muestras es muy grande, por lo que se produce la disociacin de cualquier compuesto qumico en sus elementos. Esto hace que el espectro de emisin sea caracterstico de los tomos presentes en la muestra, el cual esta constituido por un conjunto de lneas finas y bien definidas
Tcnica Fotometra de llama Fluorescencia atmica Espectrometra de emisin ICP Fluorescencia de rayos X
Los plasmas constituyen una fuente de excitacin muy energtica. Para originar un plasma se necesita un aporte externo de energa que provoque la ionizacin del gas. Existen fuentes de alimentacin que se clasifican en funcin de cmo se aporte la energa externa: -Radiofrecuencias o de plasma acoplado inductivamente (ICP) -Corriente continua (DCP) -Plasma inducido por microondas (MIP)
Las altas temperaturas que pueden conseguirse con los plasmas son suficientes para promover a los tomos a su mayor nivel de energa electrnica, emitiendo radiacin al volver a su estado fundamental en la zona del espectro comprendido entre 190 y 900 nm.
Fotomultiplicador
De nuevo, por cada electrn que incidir sobre la dnodo Al incide sobre el superficiecontiene unos 1, cada fotoelectrn El tubo se emiten varios electrones.emisin de origina la Despus de electrodos denominados repetirse estednodo se varios electrones di-nodos. El proceso nueve veces, un han su vez adicionales; stos a mantiene a se 6potencial 7 originadoms10 hacia que de positivo son acelerados a 10 el de 90 V electrones el cual est a 90 dnodo 2 por cada tanto, el del ctodo y por fotn incidente; esta cascada se V ms positivo que el los electrones se aceleran recoge l. final en el nodo y dnodo hacia al1. la corriente resultante se amplifica electrnicamente y se mide.
Fotomultiplicador
(c) Los huecos acumulados en el (a) electrodo derecho se electrodos Se aplican a los Para controlar negativos,potencial potenciales al pozo de que la transfieren la intensidad de dan radiacin del incide sobre el debajo que del condensador (b) lugar a la formacin de pozos de (d)El potencialelectrodo izquierdo a Al aplicar potenciales positivos elemento sensible, losrecogen potencial al conmutar de negativo a izquierdo (V1)quedetermina ambos electrodos el detector y se potenciales aplicados aaplicado al almacenan potencial los del positivo su estado original despusade la eliminacin lo vuelve el los huecos formados condensadores n alentonces, el los en la capa mide huecos migren primero. que siguen las etapas potencial aplicado absorber que hace Se los (a)-(d) del ciclo. del electrodo se fotones. Todos los huecos nuevo potencial al sustrato retienen inicialmente en el V 2. electrodo derecho, carga esta a La magnitud de la ya que un potencialse determina a acumulada mas negativo. partir de la diferencia de potencial (V1-V2).
El espectrmetro CID esta purgado con N2 o Ar para excluir el oxigeno, permitiendo as que se observen longitudes de onda en el UV en el intervalo de 100-200nm. Esta regin espectral permite una deteccin mas sensible de algunos elementos que normalmente se detectan a longitudes de onda mas largas y permite medir halgenos, P, S y N ( con pobres limites de deteccin de decenas de partes por milln). Estos elementos no metlicos no pueden ser observados a longitudes de onda por encima de 200nm.
En este caso, el semiconductor est formado Parasilicio tipo p y el Las cargas se transfieren por medir la carga Cada pixel est compuesto acumulada, al est polarizado hacia abajo sepreamplicador condensador utiliza un por tres electrodos (marcados circuito trifsicode manera de A despus al del dispositivo y diferencia 3 ) en vez de dos positivamente, de reloj para como 1, 2, y dispositivo de desplazar de carga, formados inyeccin gradualmente la lectura. De esta manera, se que los electrones la lectura como en el caso del carga hacia labarridoradiacin neutralizaun carga acumulada completa la derecha del por la absorcin de fila por dispositivo de inyeccin de registro caso el pozo debajo en este de desplazamiento filarecogen en se de carga. la superficie del de elevada velocidad, que detector. del electrodo, mientras mostrado en (a). de la capa los huecos migran tipo n hacia el sustrato.
X+ Energa
X*
X+ hv
La cantidad de energa requerida para excitar la mayora de las muestras es muy grande, por lo que se produce la disociacin de cualquier compuesto qumico en sus elementos. Esto hace que el espectro de emisin sea caracterstico de los tomos presentes en la muestra, el cual esta constituido por un conjunto de lneas finas y bien definidas
Tcnica Fotometra de llama Fluorescencia atmica Espectrometra de emisin ICP Fluorescencia de rayos X
Los plasmas constituyen una fuente de excitacin muy energtica. Para originar un plasma se necesita un aporte externo de energa que provoque la ionizacin del gas. Existen fuentes de alimentacin que se clasifican en funcin de cmo se aporte la energa externa: -Radiofrecuencias o de plasma acoplado inductivamente (ICP) -Corriente continua (DCP) -Plasma inducido por microondas (MIP)
Las altas temperaturas que pueden conseguirse con los plasmas son suficientes para promover a los tomos a su mayor nivel de energa electrnica, emitiendo radiacin al volver a su estado fundamental en la zona del espectro comprendido entre 190 y 900 nm.
Fotomultiplicador
De nuevo, por cada electrn que incidir sobre la dnodo Al incide sobre el superficiecontiene unos 1, cada fotoelectrn El tubo se emiten varios electrones.emisin de origina la Despus de electrodos denominados repetirse estednodo se varios electrones di-nodos. El proceso nueve veces, un han su vez adicionales; stos a mantiene a se 6potencial 7 originadoms10 hacia que de positivo son acelerados a 10 el de 90 V electrones el cual est a 90 dnodo 2 por cada tanto, el del ctodo y por fotn incidente; esta cascada se V ms positivo que el los electrones se aceleran recoge l. final en el nodo y dnodo hacia al1. la corriente resultante se amplifica electrnicamente y se mide.
Fotomultiplicador
(c) Los huecos acumulados en el (a) electrodo derecho se electrodos Se aplican a los Para controlar negativos,potencial potenciales al pozo de que la transfieren la intensidad de dan radiacin del incide sobre el debajo que del condensador (b) lugar a la formacin de pozos de (d)El potencialelectrodo izquierdo a Al aplicar potenciales positivos elemento sensible, losrecogen potencial al conmutar de negativo a izquierdo (V1)quedetermina ambos electrodos el detector y se potenciales aplicados aaplicado al almacenan potencial los del positivo su estado original despusade la eliminacin lo vuelve el los huecos formados condensadores n alentonces, el los en la capa mide huecos migren primero. que siguen las etapas potencial aplicado absorber que hace Se los (a)-(d) del ciclo. del electrodo se fotones. Todos los huecos nuevo potencial al sustrato retienen inicialmente en el V 2. electrodo derecho, carga esta a La magnitud de la ya que un potencialse determina a acumulada mas negativo. partir de la diferencia de potencial (V1-V2).
El espectrmetro CID esta purgado con N2 o Ar para excluir el oxigeno, permitiendo as que se observen longitudes de onda en el UV en el intervalo de 100-200nm. Esta regin espectral permite una deteccin mas sensible de algunos elementos que normalmente se detectan a longitudes de onda mas largas y permite medir halgenos, P, S y N ( con pobres limites de deteccin de decenas de partes por milln). Estos elementos no metlicos no pueden ser observados a longitudes de onda por encima de 200nm.
En este caso, el semiconductor est formado Parasilicio tipo p y el Las cargas se transfieren por medir la carga Cada pixel est compuesto acumulada, al est polarizado hacia abajo sepreamplicador condensador utiliza un por tres electrodos (marcados circuito trifsicode manera de A despus al del dispositivo y diferencia 3 ) en vez de dos positivamente, de reloj para como 1, 2, y dispositivo de desplazar de carga, formados inyeccin gradualmente la lectura. De esta manera, se que los electrones la lectura como en el caso del carga hacia labarridoradiacin neutralizaun carga acumulada completa la derecha del por la absorcin de fila por dispositivo de inyeccin de registro caso el pozo debajo en este de desplazamiento filarecogen en se de carga. la superficie del de elevada velocidad, que detector. del electrodo, mientras mostrado en (a). de la capa los huecos migran tipo n hacia el sustrato.
CORRECCIN DE FONDO
ESPECTROSCOPIA ATMICA
CORRECCIN DE FONDO
Es una forma de distinguir la seal del analito de la seal de absorcin, emisin o dispersin de la llama, horno, plasma o la matriz de la llama.
CORRECCIN DE FONDO
Espectro de emisin registrado con un detector de inyeccin de carga.
Aqu se ilustra como se hace la correccin de la lnea base en espectrometra de emisin de emisin de plasma. La altura del pico corregida es la amplitud media de pico menos la amplitud media de la lnea base.
CORRECCIN DE FONDO
Interrupcin del haz
La luz procedente de la lmpara se bloquea de forma peridica, mediante un cortador rotatorio. La seal que llega al detector cuando se bloquea el haz la origina la emisin de la llama. La seal que llega al detector cuando no se bloquea el haz se debe a la lmpara y a la llama. La diferencia entre estas dos seales es la seal analtica neta.
CORRECCIN DE FONDO
Lmpara de deuterio
Consiste en pasar la emisin de banda ancha procedente de una lmpara de D2 a travs de la llama, alternado con la del ctodo hueco. La luz procedente del ctodo hueco es absorbido por el analito y absorbida y dispersada por el fondo. La diferencia entre la absorbancia medida con el ctodo hueco y con la lmpara D2 es la absorbancia debida al analito.
CORRECCIN DE FONDO
Efecto Zeeman
Consiste en el corrimiento de niveles de energa que presentan que experimentan tomos y molculas en un campo magntico. Para corregir el fondo se aplica intermitentemente un impulso fuerte de campo magntico. Cuando se interrumpe el campo, se esta midiendo la muestra y el fondo, y cuando se aplica el campo se mide solo el fondo. La diferencia entre las dos seales es la seal corregida.
LMITES DE DETECCIN
ESPECTROSCOPIA ATMICA
LIMITES DE DETECCIN
Limite de Deteccin: es la concentracin de un elemento que da una seal igual a tres veces el nivel de ruido pico-a-pico de la lnea base.
Dentro de los mtodos que se tienen(Horno , Llama y plasma) el horno por lo general tiene 2 ordenes de magnitud inferiores a los de llama hacindolos mejores.
LIMITES DE DETECCIN