El reconocer que la gran mayora de componentes de ingeniera podan degradarse o fallar catastrficamente en servicio por fenmenos relacionados a las

superficies, tales como desgaste, corrosin o fatiga, llev a comienzos de los aos 80 a desarrollar el tema interdisciplinario de ingeniera de superficies. El mpetu de este desarrollo fue estimulado, al menos en parte, por la creciente madurez comercial de un amplio rango de tecnologas de superficies: procesos de rayos lser y haz electrnico, tcnicas termoqumicas por plasma, novedosos recubrimientos de ingeniera (por ejemplo, el niquelado no electroltico), implantacin inica y, ms recientemente, mtodos dplexde modificacin de superficies. Sin embargo, es dentro de las tecnologas tradicionales de tratamiento trmico de superficies, tales como endurecimiento por templado, nitruracin y carburizacin, donde pueden hallarse los orgenes y principios fundamentales de la ingeniera de superficies. "La ingeniera de superficies comprende la aplicacin de tecnologas de superficies tradicionales e innovadoras en componentes y materiales de ingeniera a efectos de producir un material compuesto de propiedades no obtenibles en el material de base o de superficie. Frecuentemente, las distintas tecnologas de superficie se aplican a diseos de componentes de ingeniera ya existentes pero, idealmente, la ingeniera de superficies abarcara el diseo del componente conociendo el tratamiento de superficie a aplicar." Finalmente, a partir de esta definicin, se describen los estudios que se estn llevando a cabo, sobre tecnologas de segunda generacin (superficie mltiple). Proceso de Deposicin por Plasma Una caracterstica fundamental de la tecnologa de deposicin fsica en vapor (PVD) es que una o ms de las especies que reaccionan sufre un cambio de fase slida a fase vapordentro de los confines de una cmara de vaco. Todas las tcnicas comercialmente atractivas utilizan un plasma producido por descarga gaseosa y caen dentro de dos categoras: sistemas PVD con fuente de bombardeo inico ("sputtering surce") o con fuente de evaporacin".

Aunque el bombardeo inico era conocido en el siglo pasado y fue sujeto a experimentos cientficos y discusiones a comienzos de este siglo, la aplicacin prctica de los fenmenos de bombardeo inico en el campo de la ingeniera de superficies no surgi hasta los aos 30, emplendose por primera vez en la industria electrnica en los aos 40. Berhaus fue muy activo en el campo de recubrimiento por bombardeo inico tanto como en el campo paralelo del procesamiento termoqumico por plasma. Demostr el alcance de la tcnica para el recubrimiento de diversos materiales metlicos y hasta experiment con la deposicin de bombardeo inico de cobre en aluminio, logrando as un recubrimiento base para la electrodeposicin subsecuente del tungsteno. La tecnologa PVD con fuente de evaporacin, frecuentemente conocida como plaqueado inico ("ion plating"), es un refinamiento moderno de la vieja tecnologa de evaporacin en vaco que fue primeramente perfeccionada para la deposicin de pelculas de espejo

alrededor de 50 aos atrs. El plaqueado inico fue ideado por Mattox a principio de los aos 60, como un medio para producir recubrimientos metlicos con mayor adherencia. En los ltimos 10 aos, una gran cantidad de trabajos de investigacin y desarrollo han estado enfocados en la aplicacin de esta tcnica a la produccin de recubrimientos refractarios duros. El estado comercial de ambos tipos de procesos PVD ha sido analizado en detalle por Matthews.