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Héctor Castillo-Matadamas*,§
Rafael Quintero-Torres*
Constituyentes
C tit t d de un láser
lá para pulsos
l
ultracortos de estado sólido.
BIPM
Láser estabilizado en ± 2,5
, x 10-11 m
frecuencia al Yodo
CENAM
Láser estabilizado en ± 1,0 x 10-9 m
f i
frecuencia
4,5 x 10-7 m
00
k Bloques patrón de
referencia
1,1 x 10-6 m
Laboratorios 0
2,0 x 10-5 m
Laboratorio
L b i de
d Z
Instrumentos de
medición
X
Metrología Y
Medición de piezas
producto 3,0 x 10-4 m
Producción
Bombeo del medio de ganancia
ganancia, Medio de ganancia,
ganancia con
alto voltaje, corriente eléctrica, absorción selectiva del
otro láser. bombeo.
Cavidad de láser
á de estado sólido
ó
Láser de
bombeo
Cr:LiSAF
Modelos
A
basados en Diodo Laser C L-f200 L-f75
L f75 M
matrices ABCD 1 Watt 275mm 65mm 27mm
h
0.15
0.1
A B
w [mm]
0.05
0
C D
-0.05
0 05
-0.1
v Vertical en el eje 638 640 642 644 646 648 650 652 654 656
Z axis [mm]
2. Bombeo con cavidad bombeada por diodos Láser
Diode pump solid state laser
laser, (DPSS)
Haz
waist of de
"V"bombeo
cavity + ywaist
haz intracavidad
of pump beam
50
0.2
100
150
30 um diametro
0.15
200
250
0.1 300
350
mm]
0.05 400
w [m
450
638 640 642 644 646 648 650 652 654 656
Z axis [mm]
100% de energía acoplada al
modo fundamental
Modos delde
Eficiencia tipo
acoplamiento
p
∫∫ E
2
∗
alm = 4ε
µ lm
alm
( x, y )ηE=pump ( x, y ) dx dy
lm
∑a
2
Hermite-Gauss lm' '
l 'm '
Cristales Vibrónicos con emisión de amplio espectro
Bombeo Emisión
óptico p
de amplio
espectro
Relajación al
estado base
Ti- Za
arbitrarias
s
arbitrarias
s
nidades a
Un
nidades a
Absorción
Emisión
Un
ι(ν)
mplitud
I( t )
ase
Am
Am
Fa
-π
-π I( t )
Ampllitud
Amplittud
ι(ν)
Fase
e
∆ν
0 ∆tp
+π
Frecuencia Frecuencia Tiempo
W. Koechner, Solid-State Laser engineering,
Cavidades lineales y de anillo
70
60
nsmisio
0,20
0,18
50
0,16 40
Tran
mitancia (%)
0,14
0,12
30
0,10 20
10
Transm
0 08
0,08
0,06
0,04 0
0,02
,
0,00 500 700 900 1100
750 800 850 900 950
Lomgitud de onda (nm)Longitud de Onda (nm)
Espejos para Ti-Za, alta reflexión y ancho espectro
0,05
0 05
0,05 100
0,04
0,04 90
nsmitancia ((%)
0,03 80
a (%)
0,03
0,02
70
mitancia
0,02 60
Tran
0,01
0,01
50
Transm
0,00 40
640 740 840 940
30 Longitud de onda (nm)
20
10
0
640 740 840 940
Longitud de onda (nm)
Acoplador CVI de 98%
3,00%
2 50%
2,50%
cia (%)
Ti : Za
2,00%
smitanc
1,50%
1 00%
1,00%
Trans
Cr:LiSAF
0,50%
0,00%
750 800 850 900 950
Longitud de onda (nm)
La longitud de la cavidad resonante
determina la frecuencia de repetición
de los pulsos cortos
L
b M2
M3 a
Cr:LiSAF
c
Cavidad Lineal f repetición =
2l
c
X2
X5
Cavidad Anillo f repetición =
X6
l
M4
M1
segunda derivada dk/dw
260
En
E ell cristal
i t l los
l modosd de
d
orden para Cr:LiSAF
Cristal 220
Dispersion de s
180
origeng a la dispersion
p de
Fused Silica 1,4525 55,45 69,09 59,66
BK7 1,5098 56,48 67,04
LAKL21 1 6326
1,6326 58 51
58,51 62 98
62,98 30 72
30,72
K5
F2
SF11
segundo orden
1,51507
1,6067
1,7650
56,57
58,10
60,47
66,85
63,80
59,07 11,66
ZnSe
S 2 10
2,5107 68 28
68,28 43 43
43,43
Cr:LiSAF 1,40 54,41
Ti:Za 1,76 60,40
L
b M2
M3 a
Configuración de anillo , X2 =x5= 300 Cr:LiSAF
mm, Frep
F = 250 MHz
MH
X5
X2
X6 M4
M1
p -4
x 10
1 ∂ω ω − ω L −1 100.7
δ = ≈ NL p N 0
ω ∂p N p =0 ω L 100.68
100.66
100.64 -1
100 62
100.62
b [mm]
100 52
100.52
-4
100.5
42 44 46 48 50 52
a [mm]
Elementos de diseño para un láser de pulsos
ultracortos con aplicación
p en metrología
g
Acoplamiento del haz de bombeo
Cavidad resonante corta al modo fundamental del láser
(alta frecuencia de i
intracavidad
id d y en la
l posición
i ió del
d l
repetición). cristal
Diseño de
cavidad
Compensación de la
Localización de la posición del
dispersión chirped
dispersión,
Cristal de acuerdo a la saturación de
mirror o prismas de corta
ganancia y a la sensibilidad del Kerr
longitud, n ??
Lens
Barrido
espectral
50
100
150
200
250
300
350
400
450
2 C
2. Caracterizar
t i l pulsos
los l obtenidos
bt id por medio di de
d la
l construcción
t ió de
d
un autocorrelador con detector de diodo emisor de luz, LED.