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En una planta donde se fabrican semiconductores se quiere mejorar el rendimiento del proceso vía diseño de experimento
De acuerdo con la experiencia del grupo de mejora, los factores que podían tener mayor influencia sobre la variable de re
puesta (rendimiento), así como los niveles de prueba utilizados, son los siguientes:
A = Nivel de abertura (pequeña, grande)
B = Tiempo de exposición (20% abajo, 20% arriba).
C = Tiempo de revelado (30 seg, 45 seg).
D = Dimensión de la máscara (pequeña, grande)
E = Tiempo de grabado (14.5 min, 15.5 min).
Se decide correr un experimento 2^5 con una sola réplica para estudiar cinco factores.
Usar STATGRAPHICS para generar la matriz de diseño.
Los datos acomodados en el orden estándar son los siguientes para la variable de respuesta:
(1) = 7 d =8 e =8 de = 6
a =9 ad = 10 ae = 12 ade = 10
b = 34 bd = 32 be = 35 bde = 30
ab = 55 abd = 50 abe = 52 abde = 53
c = 16 cd = 18 ce = 15 cde = 15
ac = 20 acd = 21 ace = 22 acde = 20
bc = 40 bcd = 44 bce = 45 bcde = 41
abc = 60 abcd = 61 abce = 65 abcde = 63