Resultados Preliminares

Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 3 soportes AK)

Intervalo de Confianza
Indicadores
Promedio Half Width Lim. Inferior Lim. Superior

Tiempo de ciclo promedio de una

42.08 0.06 42.02 42.14
Waffer

Tiempo promedio de transferencia

14.50 0.00 14.50 14.50
de una Waffer

Tiempo promedio de fabricación de

10.08 0.01 10.07 10.09
una Waffer

Tiempo promedio total de espera de

17.27 0.06 17.21 17.33
una Waffer
Tiempo promedio de espera, de una
Waffer, en la estación cuello de 16.64 0.06 16.58 16.70
botella
Factor de utilización de la estación
0.13 0.00 0.13 0.13
de Cleaning

Factor de utilización de la estación

0.14 0.00 0.14 0.14
de Oxidation

Factor de utilización de la estación

0.02 0.00 0.02 0.02
de Lithography

Factor de utilización de la estación

0.13 0.00 0.13 0.13
de Etching

Factor de utilización de la estación

0.10 0.00 0.10 0.10
de Ion Implantation

Factor de utilización de la estación

0.11 0.00 0.11 0.11
de Photoresist Strip

Throughput (waffers/hora) 3.99 0.01 3.98 4.00

Tabla 1. Resumen resultados preliminares modelo de simulación sistema actual

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