El transistor MOSFET entra en esta zona de funcionamiento cuando la
tensión entre el Drenador y el Surtidor (VDS) supera un valor fijo denominado tensión de saturación (Vds sat) Drenador-Surtidor; este valor viene determinado en las hojas características proporcionadas por el fabricante. En esta zona, el MOSFET mantiene constante su corriente de Drenador (ID), independientemente del valor de tensión que haya entre el Drenador y el Surtidor (VDS). Por lo tanto, el transistor equivale a un generador de corriente continua de valor ID. Se produce cuando: Vds > Vgs – Vt Se caracteriza por: Ids = Isat = cte Este comportamiento es una consecuencia de la aparición de un fenómeno cnocido como ¨estrangulacion de canal ¨ o pinch off. Cuando la tensión entre drenador y fuente supera cierto límite, el canal de conducción bajo la puerta sufre un estrangulamiento en las cercanías del drenador y desaparece. La corriente que entra por el drenador y sale por la fuente no se interrumpe, ya que es debida al campo eléctrico entre ambos, pero se hace independiente de la diferencia de potencial entre ambos terminales. VDS ≥ VGS – VT → Región de saturación
Cuando la tensión entre Drenador y Fuente supera cierto límite, el canal de
conducción, bajo la Puerta sufre un estrangulamiento en las cercanías del Drenador y desaparece. La corriente entre Fuente y Drenador no se interrumpe, es debido al campo eléctrico entre ambos, pero se hace independiente de la diferencia de potencial entre ambos terminales.
En la figura anterior, la parte casi vertical corresponde a la zona óhmica, y la parte
casi horizontal corresponde a la zona activa. El MOSFET de enriquecimiento, puede funcionar en cualquiera de ellas. En otras palabras, puede actuar como una resistencia o como una fuente de corriente. El uso principal está en la zona óhmica. RESISTENCIA EN LA REGIÓN DE SATURACIÓN En la práctica, al aumentar Vds se ve afectado el punto de pinchoff. La longitud del canal se reduce (modulación de la longitud del canal). * La corriente Id es inversamente proporcional a la longitud del canal y aumenta.
λ es un parámetro que depende de la tecnología utilizada y es inversamente