FLOW CONSULTANTS

Consultores: Jonathan Arley Hurtado González

Viviana Andrea Correa Sánchez
Javier Alonso Vasco Cardona
Jessica Andrea Jiménez Diaz
Juanita Sánchez Buitrago

Corrección Análisis de datos de entrada

Tiempo de Servicio Tiempo de Tiempo de

Estación 1 Servicio Servicio Estación
Estación 2 3
Hipótesis Nula WEIBULL ERLANG ERLANG
Nivel de significancia 0.01 0.01 0.01
(a)
P-value Kolmogorov 0.0217 0.154 0.551
Parámetros 9 + WEIB(12.5, 4.37) ERLA(9.06, 2) ERLA(12.2, 2)

Tiempo de Servicio Tiempo de Tiempo de

Estación 4 Servicio Servicio Estación 6
Estación 5
Hipótesis Nula WEIBULL NORMAL WEIBULL
Nivel de significancia 0.01 0.01 0.01
(a)
P-value 0.0478 0.746 0.0448
Parámetros 8 + WEIB(11.8, 4.78) NORM(15.1, 6 + WEIB(8.81,
2.94) 4.47)

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Descripción construcción modelo sistema actual en Arena®

Módulo de Arena
Descripción del Módulo Empleado
Empleado

El módulo créate fue empleado para modelar el ingreso de los

Create 1
soportes donde deben instalar los waffers.

Timestamp: Times Tamp, asiganicion de recurso.

Attribute 1

Process, operario que genera un desplazamiento en un tiempo

especifico
Operario 1

0
Process, estaciones de trabajo: Cleaning, Oxidation, Lithography,
Process 1
Etching, Ion Implantation y Photoresist Strip.
Cada una de las estaciones cuenta con una máquina.
0
Delay 1 al 6, banda transportadora de estación a estación con un
tiempo específico.
Delay 1

Separate, Es el que me genera la separación entre el producto final

0 que se dirige al almacén y los soportes que retornar al inicio del
Separate 4 proceso

Record, Lleva la cuenta de las unidades que ingresan al almacen.

Record 1

Dispose, Almacén con capacidad de 5000 Waffers

Dispose 5

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Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 12 soportes AK)

Intervalo de Confianza
Indicadores
Half
Promedio Lim. Inferior Lim. Superior
Width
Tiempo de ciclo promedio de una
114.76 0,22 66.4670 267.31
Waffer
Tiempo promedio de transferencia
17.4900 0,00 12.5000 17.5000
de una Waffer
Tiempo promedio de fabricación de
0 0 0 0
una Waffer
Tiempo promedio total de espera de
123.41 0,84 0.00 378.86
una Waffer
Tiempo promedio de espera, de una
Waffer, en la estación cuello de 255.66 1,03 93.9010 521.54
botella
Factor de utilización de la estación
10.8349 0,33 0.00 184.96
de Cleaning
Factor de utilización de la estación
13.0403 0,88 0.00 178.55
de Oxidation
Factor de utilización de la estación
85.7383 0,68 0.00 355.58
de Lithography
Factor de utilización de la estación
12.2983 0,35 0.00 107.54
de Etching
Factor de utilización de la estación
0.8402 0,06 0.00 36.0695
de Ion Implantation
Factor de utilización de la estación
0.6384 0,04 0.00 35.7357
de Photoresist Strip
Throughput (waffers/hora) 255.66 1,03 93.9010 521.54

Bibliografía
blackboardcollaborate. (08 de 04 de 2019). Obtenido de blackboardcollaborate: https://ca-
sas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324&psid=2019-04-
08.1442.M.A116CA7825D3ECC960E3442D30A5DF.vcr

Triviño, J. E. (s.f.). Simulacion con Arena. Obtenido de

http://disi.unal.edu.co/profesores/jeortizt/Sim/Archivos/02.Arena/02B.%20CursoARENA_2_Pane
lBasico_ConSolucionDeEjercicios.pdf

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