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Considérese el modelo de enlace covalente bidimensional para la red cristalina de silicio que se
muestra en la figura 14.21a. Si un átomo de impureza de un elemento del grupo V-A, tal como el
fósforo, sustituye al átomo de silicio, que es un elemento del grupo IV-A, existirá un exceso de
electrones por arriba de los cuatro que se necesitan para el enlace covalente tetraédrico en la retícula
de silicio. Este electrón adicional sólo está ligado débilmente al núcleo de fósforo con carga positiva
y tiene una energía de enlace de 0.044 eV a 27°C. Esta energía es casi 5 por ciento de la que se
requiere para que un electrón de conducción brinque la brecha de energía de 1.1 eV de silicio puro.
Esto es, sólo se requiere 0.044 eV de energía para eliminar el electrón de exceso de su núcleo de
manera que pueda participar en la conducción eléctrica. Cuando está bajo la acción de un campo
eléctrico, el electrón adicional se vuelve un electrón libre disponible para conducción y el restante
átomo de fósforo se ioniza y adquiere una carga positiva (figura 14.21b).
Diagrama de bandas de energía para un semiconductor extrínseco tipo n que demuestra la posición
del nivel de donador para el electrón adicional de un elemento del grupo V-A como el P, As y Sb que
está contenido en la red cristalina de silicio (figura 14 . 21a). Los electrones en el nivel de energía del
donador requieren sólo una pequeña cantidad de energía (∆E=Ec−Ed) para excitarlos a la banda de
conducción. Cuando el electrón adicional en el nivel del donador salta a la banda de conducción, un
ion inmóvil positivo queda detrás.